[實(shí)用新型]大視場(chǎng)雙波段動(dòng)態(tài)目標(biāo)與干擾源模擬裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201420143691.6 | 申請(qǐng)日: | 2014-03-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN203798363U | 公開(公告)日: | 2014-08-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐亮;趙建科;周艷;楊菲;劉峰;胡丹丹;薛勛 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所 |
| 主分類號(hào): | G01C25/00 | 分類號(hào): | G01C25/00;G01S7/497 |
| 代理公司: | 西安智邦專利商標(biāo)代理有限公司 61211 | 代理人: | 姚敏杰 |
| 地址: | 710119 陜西省西*** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 視場(chǎng) 波段 動(dòng)態(tài) 目標(biāo) 干擾 模擬 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型屬于光學(xué)領(lǐng)域,涉及一種大視場(chǎng)雙波段動(dòng)態(tài)目標(biāo)與干擾源模擬裝置,尤其涉及一種主要用于實(shí)驗(yàn)室目標(biāo)場(chǎng)景仿真的大視場(chǎng)雙波段動(dòng)態(tài)目標(biāo)與干擾源模擬裝置。
背景技術(shù)
目前研究的大視場(chǎng)、雙波段動(dòng)態(tài)目標(biāo)與干擾源模擬裝置,是在實(shí)驗(yàn)室內(nèi)驗(yàn)證導(dǎo)引產(chǎn)品及預(yù)警相機(jī)的關(guān)鍵技術(shù)。動(dòng)態(tài)目標(biāo)與干擾源模擬裝置是航空、航天技術(shù)中空間環(huán)境模擬試驗(yàn)的主要組成部分,用于測(cè)試導(dǎo)引產(chǎn)品及預(yù)警相機(jī)的目標(biāo)捕獲性能及數(shù)據(jù)處理軟件的圖像處理算法。
過去研制的各種目標(biāo)模擬與干擾源裝置,主要是以靜態(tài)目標(biāo)模擬為主,無法實(shí)現(xiàn)目標(biāo)和干擾源的圖像信息與光譜信息的實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)仿真;而一般的動(dòng)態(tài)目標(biāo)模擬裝置,所模擬的目標(biāo)光譜范圍窄、場(chǎng)景單一,且模擬器的圖像分辨率低、視場(chǎng)小,不能滿足現(xiàn)在戰(zhàn)時(shí)大視場(chǎng)、多譜段、多目標(biāo)跟蹤、導(dǎo)引、預(yù)警系統(tǒng)測(cè)試的需要。以往的多譜段目標(biāo)導(dǎo)引、預(yù)警系統(tǒng)跟蹤識(shí)別能力的驗(yàn)證只能在外場(chǎng)測(cè)試,因此,開展高精度、高分辨率、大視場(chǎng)、雙波段動(dòng)態(tài)目標(biāo)與干擾源模擬裝置作為研究課題,具有較高的實(shí)用價(jià)值。
實(shí)用新型內(nèi)容
為了解決背景技術(shù)中存在的大天區(qū)、動(dòng)態(tài)、高精度、多譜段目標(biāo)與干擾源模擬的技術(shù)難題,本實(shí)用新型提供了一種能夠有效的在實(shí)驗(yàn)室內(nèi)完成高精度、動(dòng)態(tài)目標(biāo)與干擾源的模擬的大視場(chǎng)雙波段動(dòng)態(tài)目標(biāo)與干擾源模擬裝置。
本實(shí)用新型的技術(shù)解決方案是:本實(shí)用新型提供了一種大視場(chǎng)雙波段動(dòng)態(tài)目標(biāo)與干擾源模擬裝置,其特殊之處在于:所述大視場(chǎng)雙波段動(dòng)態(tài)目標(biāo)與干擾源模擬裝置包括均勻光源、動(dòng)態(tài)目標(biāo)發(fā)生器、控制單元以及離軸三反光學(xué)系統(tǒng);所述均勻光源包括第一反射式聚光燈以及第二反射式聚光燈;所述動(dòng)態(tài)目標(biāo)發(fā)生器包括第一DMD以及第二DMD;所述第一DMD以及第二DMD分別與控制單元相連;所述第一DMD以及離軸三反光學(xué)系統(tǒng)依次設(shè)置在第一反射式聚光燈的出射光路上;所述第二DMD以及離軸三反光學(xué)系統(tǒng)依次設(shè)置在第二反射式聚光燈的出射光路上。
上述離軸三反光學(xué)系統(tǒng)包括主鏡、次鏡、三鏡以及半透半反鏡;所述第一DMD、半透半反鏡、三鏡、次鏡以及主鏡依次設(shè)置在第一反射式聚光燈的出射光路上;所述第二DMD、半透半反鏡、三鏡、次鏡以及主鏡依次設(shè)置在第二反射式聚光燈的出射光路上。
上述半透半反鏡是鍺玻璃半透半反鏡。
本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是:
本實(shí)用新型主要圍繞雙波段動(dòng)態(tài)目標(biāo)與干擾源模擬技術(shù)開展研究,完成了一種雙波段動(dòng)態(tài)目標(biāo)與干擾源模擬裝置的設(shè)計(jì);該裝置解決了高精度、大視場(chǎng)、動(dòng)態(tài)目標(biāo)與干擾源模擬難題,為衛(wèi)星與導(dǎo)彈上目標(biāo)跟蹤系統(tǒng)的質(zhì)量考核、性能測(cè)試和生產(chǎn)具有重要意義。本實(shí)用新型所涉及的雙波段動(dòng)態(tài)目標(biāo)及干擾源場(chǎng)景的模擬裝置主要用于實(shí)驗(yàn)室目標(biāo)場(chǎng)景仿真,可同時(shí)模擬不同光譜場(chǎng)景的目標(biāo)信息,并有效的模擬目標(biāo)與干擾源的發(fā)光特性,用于導(dǎo)引產(chǎn)品及預(yù)警相機(jī)的性能測(cè)試。
具體而言,本實(shí)用新型具有以下優(yōu)點(diǎn):
1、本實(shí)用新型可實(shí)時(shí)模擬不同目標(biāo)與景物的變化情況,具有實(shí)時(shí)、動(dòng)態(tài)模擬的優(yōu)點(diǎn);
2、本實(shí)用新型利用光學(xué)視場(chǎng)拼接技術(shù),將兩塊DMD器件進(jìn)行像方視場(chǎng)拼接,突破了以往動(dòng)態(tài)景物模擬器模擬視場(chǎng)范圍小的缺陷,最大模擬視場(chǎng)可擴(kuò)展至5°左右(以往相同規(guī)格的動(dòng)態(tài)目標(biāo)模擬器視場(chǎng)只有2.5°);
3、本實(shí)用新型根據(jù)實(shí)際需要,設(shè)計(jì)了一種大視場(chǎng)離軸三反式光學(xué)結(jié)構(gòu),其成像質(zhì)量接近衍射極限,畸變小于0.05%,能量中心與主光線位置偏差小于8″,光學(xué)系統(tǒng)準(zhǔn)直性精度優(yōu)于10″;同時(shí)可用于不同波段的目標(biāo)模擬與仿真,解決了以往動(dòng)態(tài)目標(biāo)模擬器無法實(shí)現(xiàn)雙波段目標(biāo)仿真的難題;
4、本實(shí)用新型采用離軸三反式結(jié)構(gòu)可實(shí)時(shí)模擬紫外光、可見光、紅外光波段的圖像信息,有效地對(duì)不同目標(biāo)的特征進(jìn)行仿真;
5、本實(shí)用新型采用雙DMD器件進(jìn)行目標(biāo)仿真,可保證不同目標(biāo)圖像出射光的光軸的一致性;
6、本實(shí)用新型采用鍺玻璃作為半透半反鏡,可同時(shí)透射紅外光波,并反射可見光或紫外光,為不同譜段目標(biāo)的實(shí)時(shí)仿真模擬提供了技術(shù)支持(以往的裝置采用反射鏡切換機(jī)構(gòu)對(duì)不同目標(biāo)光譜的仿真進(jìn)行模擬)。
附圖說明
圖1是本實(shí)用新型所提供的大視場(chǎng)雙波段動(dòng)態(tài)目標(biāo)與干擾源模擬裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
其中:
1-均勻光源;2-動(dòng)態(tài)目標(biāo)發(fā)生器;3-控制單元;4-離軸三反光學(xué)系統(tǒng);5-被測(cè)產(chǎn)品;11-第一反射式聚光燈;12-第二反射式聚光燈;21-第一DMD;22-第二DMD;41-主鏡;42-次鏡;43-三鏡;44-半透半反鏡。
具體實(shí)施方式
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國(guó)科學(xué)院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所,未經(jīng)中國(guó)科學(xué)院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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- 目標(biāo)跟蹤方法、目標(biāo)跟蹤裝置、目標(biāo)跟蹤設(shè)備
- 目標(biāo)處理方法、目標(biāo)處理裝置、目標(biāo)處理設(shè)備及介質(zhì)
- 目標(biāo)處理方法、目標(biāo)處理裝置、目標(biāo)處理設(shè)備及介質(zhì)
- 目標(biāo)跟蹤系統(tǒng)及目標(biāo)跟蹤方法





