[實用新型]鍍膜機臺、反應腔、錠子有效
| 申請號: | 201420141773.7 | 申請日: | 2014-03-27 |
| 公開(公告)號: | CN203855636U | 公開(公告)日: | 2014-10-01 |
| 發明(設計)人: | 丁小弟;張欣;金懿 | 申請(專利權)人: | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/22 | 分類號: | C23C14/22 |
| 代理公司: | 上海天辰知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 吳世華;林彥之 |
| 地址: | 201210 上海市浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 鍍膜 機臺 反應 錠子 | ||
技術領域
本實用新型屬于半導體制造技術領域,具體地說,涉及一種鍍膜機臺、反應腔、錠子。?
背景技術
鍍膜技術包括真空鍍膜、蒸發鍍膜、濺射鍍膜、離子鍍。?
真空鍍膜是由物理方法產生薄膜材料的技術。在真空室內材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。真空鍍膜是指在真空環境下,將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面(通常是非金屬材料),屬于物理氣相沉積工藝。?
蒸發鍍膜通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面,蒸發物質如金屬、化合物等置于坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發源,待鍍工件,如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統抽至高真空后,加熱坩堝使其中的物質蒸發。蒸發物質的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。?
濺射鍍膜用高能粒子轟擊固體表面時能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面,沉積在基片上。通常將欲沉積的材料制成板材──靶材固定在陰極上?;糜谡龑Π忻娴年枠O上。系統抽至高真空后充入氣體(通常為氬氣),在陰極和陽極間加幾千伏電壓,兩極間即產生輝光放電。放電產生的正離子在電場作用下飛向陰極,與靶表面原子碰撞,受碰撞從靶面逸出的靶原子稱為濺射原子。濺射原子在基片表面沉積成膜。?
離子鍍通過蒸發物質的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面。離子鍍是真空蒸發與陰極濺射技術的結合。將基片臺作為陰極,外殼作陽極,充入惰性氣體(如氬)以產生輝光放電。從蒸發源蒸發的分子通過等離子區時發生電離。正離子被基片臺負電壓加速打到基片表面。?
無論上述那種鍍膜技術,其鍍膜機臺大都包括反應腔以及錠子spindle,錠子spindle安裝往上抬安裝到反應腔底部,同時為了防止反應腔泄露,錠子?spindle和反應腔底部設置有密封圈,該密封圈具體設置在反應腔底部。當晶圓wafer進入機臺后,經過真空進樣室Loadlock傳入反應腔,然后通過錠子Spindle的轉動把晶圓wafer傳送到各個位置然后完成對wafer的鍍膜。當機體運行一定的周期后,就需要更換錠子spindle。但是在更換新的錠子spindle時,由于密封圈安裝在反應腔底部,容易導致該密封圈突出;更換的過程中,往上抬spindle時,因密封圈完全被錠子spindle擋住,無法觀察到密封圈的實際狀態,容易壓壞密封圈,從而使反應腔有泄漏。?
實用新型內容
本實用新型所要解決的技術問題是提供一種鍍膜機臺、反應腔、錠子,用以解決密封圈容易變形、容易損壞,由此導致的反應腔容易出現泄漏。?
為了解決上述技術問題,本實用新型提供了一種鍍膜機臺,其包括反應腔以及錠子,所述錠子安裝在所述反應腔的底部,所述錠子的密封面上設置有密封圈,以在將所述錠子安裝到反應腔的底部后,與所述反應腔底部的密封面無縫對接,防止反應腔泄露。?
優選地,在本發明的一實施例中,所述錠子的密封面上開設有密封圈槽,所述密封圈設置在所述密封圈槽內。?
優選地,在本發明的一實施例中,所述密封圈槽的數量至少為一個,對應地,所述密封圈的數量至少為一個。?
優選地,在本發明的一實施例中,所述反應腔的數量為至少一個。?
為了解決上述技術問題,本實用新型提供了一種反應腔,所述反應腔底部的密封面上不設置密封圈,通過錠子的密封面上設置的密封圈,與所述反應腔底部的密封面無縫對接,以防止反應腔泄露。?
為了解決上述技術問題,本實用新型提供了一種錠子,所述錠子的密封面上設置有密封圈,以在將所述錠子安裝到反應腔的底部后,與所述反應腔底部的密封面無縫對接,防止所述反應腔泄露。?
與現有的方案相比,本實用新型中,由于所述錠子的密封面上設置有密封圈,在將所述錠子安裝到反應腔的底部后,可以與所述反應腔底部的密封?面無縫對接,防止反應腔泄露。在更換所述錠子時,該密封圈由于直接配置在錠子的密封面上,因此,不會出現突出變形;在更換的過程中,往上抬spindle時,因密封圈不會被錠子spindle擋住,可以實時觀察到密封圈的實際狀態,可避免密封圈壓壞,進一步避免了更換完成后使反應腔有泄露。?
附圖說明
圖1為現有技術中鍍膜機臺的仰視示意圖;?
圖2為圖1中反應腔底部仰視的放大示意圖;?
圖3為圖1中錠子仰視的放大示意圖;?
圖4為本申請實施例中鍍膜機臺的仰視示意圖;?
圖5為圖4中反應腔底部仰視的放大示意圖;?
圖6為圖4中錠子仰視的放大示意圖。?
具體實施方式
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