[實用新型]新型活動底座

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420135562.2
• 申請日: 2014-03-25
• 公開（公告）號: CN203917394U
• 公開（公告）日: 2014-11-05
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 祝翠榮;白亮;楊威
• 申請（專利權(quán)）人: 中冶南方工程技術(shù)有限公司
• 主分類號: B21B31/02
• 分類號: B21B31/02;B21B31/06
• 代理公司: 北京匯澤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11228
• 代理人: 張瑾

1.一種新型活動底座，設(shè)于窄帶軋機機架與出口設(shè)備之間，其特征在于，包括一活動座體，所述活動座體上靠近所述窄帶軋機機架的一側(cè)設(shè)有噴射梁和防纏導(dǎo)板，所述活動座體的上端設(shè)有帶鋼清潔裝置，所述活動座體的下端設(shè)有滑條以及連接部；

所述出口設(shè)備包括一固定底座，所述固定底座的下端靠近所述活動座體的一側(cè)設(shè)有滑軌和液壓缸；

其中，所述滑條設(shè)于所述滑軌中，所述液壓缸連接所述連接部。

2.如權(quán)利要求1所述的新型活動底座，其特征在于：所述固定底座上依次設(shè)有X射線測厚儀、液壓剪、轉(zhuǎn)向輥以及穿帶導(dǎo)板，且所述X射線測厚儀靠近所述活動座體設(shè)置。

3.如權(quán)利要求2所述的新型活動底座，其特征在于：所述X射線測厚儀樞接于所述固定底座，其可沿所述固定底座退出。

4.如權(quán)利要求1所述的新型活動底座，其特征在于：所述活動座體靠近所述窄帶軋機機架的一側(cè)設(shè)有定位螺栓。

5.如權(quán)利要求1所述的新型活動底座，其特征在于：所述滑軌位于所述液壓缸的兩側(cè)，并呈C型對稱設(shè)置，所述液壓缸的活塞桿水平設(shè)置。

6.如權(quán)利要求5所述的新型活動底座，其特征在于：所述連接部由所述活動座體的下端向下延伸而成，并位于所述滑條下方，所述連接部與所述活塞桿上的頭部耳環(huán)相固定。