[實用新型]石紋花盆

有效

• 申請號: 201420133367.6
• 申請日: 2014-03-24
• 公開（公告）號: CN204146081U
• 公開（公告）日: 2015-02-11
• 發明（設計）人: 劉自學
• 申請（專利權）人: 劉自學
• 主分類號: A01G9/02
• 分類號: A01G9/02
• 代理公司: 北京鑫浩聯德專利代理事務所(普通合伙) 11380
• 代理人: 呂愛萍

1.?一種具有石層結構的石紋花盆，其特征在于，所述石紋花盆為帶有外圓表面的圓柱狀或者圓臺狀或者圓錐狀的塑膠材質花盆，石紋花盆外圓表面上刻有繞外圓表面旋轉的環形凹槽狀花紋，環形凹槽狀花紋是刻刀在花盆外圓表面做圓周運動，同時沿著圓周外表面上下方向運動所形成的。

2.如權利要求1所述的石紋花盆，其特征在于：所述的環形凹槽狀花紋為菱形紋，所述的菱形紋是指每條環形凹槽上下彎折起伏，上下相鄰的兩條環形凹槽彼此交錯出菱形紋，菱形紋的紋路在花盆外表面水平環面上為多個彼此接觸的菱形，在花盆外表面豎直方向上為多組彼此平行的菱形環。

3.如權利要求1所述的石紋花盆，其特征在于：所述的環形凹槽狀花紋為水波紋，所述的水波紋是指每條環形凹槽上下波浪狀起伏，上下相鄰的兩條環形凹槽彼此不交錯。

4.如權利要求1所述的石紋花盆，其特征在于：所述的環形凹槽狀花紋為細勻紋，所述的細勻紋是指凹槽在水平方向上為圓環，且凹槽寬度相同，在豎直方向上每個凹槽之間的間隔相同，凹槽與凹槽間的間距之比為1—1.25。

5.如權利要求1所述的石紋花盆，其特征在于：所述的環形凹槽狀花紋為粗勻紋，所述的粗勻紋是指花紋與細勻紋相同，但是凹槽寬度和凹槽建間隔相對于細勻紋呈1.5—5倍放大。

6.如權利要求1所述的石紋花盆，其特征在于：所述的環形凹槽狀花紋為地層紋，所述的地層紋是指凹槽寬度不相同，且每個凹槽之間的間隔不相同，凹槽之間相互交叉，相互交叉兩條凹槽之間的間距與凹槽寬度之比為1—3。

7.如權利要求1所述的石紋花盆，其特征在于：所述的環形凹槽狀花紋為石層紋，所述的石層紋是指凹槽寬度不相同，且每個凹槽之間的間隔不相同，凹槽之間相互交叉，相互交叉兩條凹槽之間的間距與凹槽寬度之比為3—6。

8.如權利要求1所述的石紋花盆，其特征在于：所述的環形凹槽狀花紋為折棱紋，所述的折棱紋是指每條環形凹槽上下彎折起伏，上下相鄰的兩條環形凹槽彼此不接觸。

9.如權利要求1所述的石紋花盆，其特征在于：所述的環形凹槽狀花紋為水波交叉紋，所述的水波交叉紋是指每條環形凹槽上下波浪狀起伏，上下相鄰的兩條環形凹槽波峰與波谷彼此交叉。