[實(shí)用新型]一種用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201420120184.0 | 申請(qǐng)日: | 2014-03-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN203783198U | 公開(公告)日: | 2014-08-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊政諭 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 亞翔系統(tǒng)集成科技(蘇州)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | E04H5/02 | 分類號(hào): | E04H5/02;F24F7/10 |
| 代理公司: | 蘇州翔遠(yuǎn)專利代理事務(wù)所(普通合伙) 32251 | 代理人: | 陸金星 |
| 地址: | 215126 江*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 半導(dǎo)體 廠房 潔凈室 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室,是指用于半導(dǎo)體的生產(chǎn)場(chǎng)合。
背景技術(shù)
半導(dǎo)體廠房是專門用來(lái)制備半導(dǎo)體器件的地方,目前已經(jīng)得到了廣泛應(yīng)用。由于半導(dǎo)體器件的特殊性,要求半導(dǎo)體廠房必須設(shè)計(jì)成潔凈室,以滿足恒溫恒濕以及潔凈度等要求。對(duì)于一些高端半導(dǎo)體的生產(chǎn)廠房,如32/28nm,甚至以下的高端制程,不但對(duì)潔凈度的要求較高,且對(duì)漂浮于空氣中的懸浮化學(xué)分子氣體污染更為嚴(yán)格。
現(xiàn)有的用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室參見附圖1所示,主要包括新風(fēng)輸送系統(tǒng)、排氣系統(tǒng)和一大型潔凈空間,所述大型潔凈空間從上到下包括架構(gòu)空間4、潔凈空間5和循環(huán)空間6,架構(gòu)空間和潔凈空間之間設(shè)有天花板7,潔凈空間和循環(huán)空間之間設(shè)有高架地板2和混凝土板3。
所述大型潔凈空間內(nèi)設(shè)有各種加工設(shè)備,在循環(huán)空間(又稱技術(shù)夾層)內(nèi)會(huì)設(shè)有各種生產(chǎn)輔助設(shè)備1,如真空泵、冷凍機(jī)等,實(shí)際應(yīng)用發(fā)現(xiàn):真空泵會(huì)因?yàn)檎饎?dòng)而松脫,導(dǎo)致氣體泄漏;冷凍機(jī)的配管在清洗過(guò)程中因未鎖緊或接頭松動(dòng)而泄漏腐蝕性氣體。在以往的案例中,尤其是干刻蝕區(qū)會(huì)經(jīng)常發(fā)生上述事故,導(dǎo)致腐蝕性氣體泄漏,這不僅會(huì)造成導(dǎo)線腐蝕,而且這些腐蝕性氣體還會(huì)通過(guò)回風(fēng)通道進(jìn)入整個(gè)潔凈空間,造成散布擴(kuò)散,從而影響了產(chǎn)品的質(zhì)量。這種因?yàn)槲挥谘h(huán)空間內(nèi)的生產(chǎn)輔助設(shè)備泄漏而造成整個(gè)潔凈空間的污染事件時(shí)有發(fā)生。
針對(duì)上述問(wèn)題,現(xiàn)有技術(shù)采用的方法是在潔凈室內(nèi)設(shè)置化學(xué)過(guò)濾器,但由于潔凈室內(nèi)的空間較大,很難做到完全清除,且該法的成本極高;這對(duì)于一些高端半導(dǎo)體的生產(chǎn)廠房(如32/28nm高端制程)是非常致命的,原因是高端半導(dǎo)體產(chǎn)品對(duì)腐蝕性氣體的含量要求更高。因此,開發(fā)一種能避免腐蝕性氣體影響的潔凈室,對(duì)于一些高端半導(dǎo)體的生產(chǎn)廠房具有積極的現(xiàn)實(shí)意義。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是提供一種用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室。
為達(dá)到上述發(fā)明目的,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:一種用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室,包括新風(fēng)輸送系統(tǒng)、排氣系統(tǒng)和一大型潔凈空間及回風(fēng)通道;
所述大型潔凈空間從上到下包括架構(gòu)空間、潔凈空間和循環(huán)空間,架構(gòu)空間和潔凈空間之間設(shè)有天花板,潔凈空間和循環(huán)空間之間設(shè)有高架地板和混凝土板;所述循環(huán)空間內(nèi)設(shè)有生產(chǎn)輔助設(shè)備;
所述循環(huán)空間內(nèi)設(shè)置生產(chǎn)輔助設(shè)備的區(qū)域的四周均設(shè)有隔板,使其構(gòu)成獨(dú)立的密閉空間;循環(huán)空間內(nèi)還設(shè)有連通管,連通管的一端與所述密閉空間連通,另一端與潔凈室的外界連通;
在所述潔凈空間內(nèi)相對(duì)于所述密閉空間的位置設(shè)有至少1個(gè)回風(fēng)柱,所述回風(fēng)柱的頂端與架構(gòu)空間連通,其底端與高架地板連通;
所述回風(fēng)柱內(nèi)設(shè)有風(fēng)機(jī)。
上文中,所述循環(huán)空間內(nèi)還設(shè)有連通管,其與所述密閉空間連通,從而當(dāng)生產(chǎn)輔助設(shè)備產(chǎn)生泄漏時(shí),可以通過(guò)連通管將腐蝕性氣體排出。在連通管的出口處,還可以設(shè)置洗滌塔。連通管上還可以設(shè)有閥門。
本實(shí)用新型通過(guò)設(shè)置隔板將循環(huán)空間內(nèi)設(shè)置生產(chǎn)輔助設(shè)備的區(qū)域隔離出來(lái),從而解決了生產(chǎn)輔助設(shè)備易產(chǎn)生泄漏的問(wèn)題。然而,與此同時(shí),由于循環(huán)空間的封閉設(shè)置,導(dǎo)致其上方的潔凈空間的氣流循環(huán)無(wú)法完成,因此,在潔凈空間內(nèi)相對(duì)于所述密閉空間的位置設(shè)置多個(gè)回風(fēng)柱,通過(guò)回風(fēng)柱實(shí)現(xiàn)氣流循環(huán)。至于回風(fēng)柱的數(shù)量,應(yīng)當(dāng)根據(jù)實(shí)際情況設(shè)定。
所述回風(fēng)柱內(nèi)設(shè)有風(fēng)機(jī)。風(fēng)機(jī)的作用是使其內(nèi)的氣體向上流動(dòng),形成氣流循環(huán)。
由于回風(fēng)柱的設(shè)置,其對(duì)應(yīng)的潔凈空間可以順利的完成氣流循環(huán),因此其兩側(cè)的回風(fēng)通道就成了擺設(shè),因此,可以將回風(fēng)通道取消,改造成正常的潔凈空間使用,增加可用空間。
上述技術(shù)方案中,所述架構(gòu)空間和高架地板內(nèi)相對(duì)于所述密閉空間的位置均設(shè)有隔板,使所述密閉空間上方的架構(gòu)空間、潔凈空間,以及高架地板所在的空間構(gòu)成獨(dú)立的潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)。
優(yōu)選的,所述架構(gòu)空間、高架地板和潔凈空間內(nèi)相對(duì)于所述密閉空間的位置均設(shè)有隔板,使所述密閉空間上方的架構(gòu)空間、潔凈空間,以及高架地板所在的空間構(gòu)成獨(dú)立的潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)。
上述技術(shù)方案中,所述密閉空間的頂端設(shè)有密封板,所述密封板設(shè)于高架地板和混凝土板之間。
上述技術(shù)方案中,所述回風(fēng)柱內(nèi)設(shè)有干盤管。以進(jìn)行溫度調(diào)節(jié)。在某些生產(chǎn)區(qū)域,設(shè)備發(fā)熱量低但潔凈風(fēng)需求量多,造成實(shí)際需要通過(guò)干盤管的風(fēng)量比真正通過(guò)的風(fēng)量多,形成能源浪費(fèi)。此時(shí)還可以在天花板上增設(shè)回風(fēng)口,搭配回風(fēng)柱內(nèi)設(shè)置的干盤管,而獲得上述問(wèn)題的較好解決。
由于上述技術(shù)方案運(yùn)用,本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點(diǎn):
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