[實(shí)用新型]一種自潤(rùn)滑滑塊系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201420119682.3
• 申請(qǐng)日: 2014-03-18
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN203756738U
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-08-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 彭明強(qiáng)
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 長(zhǎng)沙潤(rùn)勵(lì)化工科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): F16C29/02
• 分類(lèi)號(hào): F16C29/02;F16C33/02
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種自潤(rùn)滑滑塊系統(tǒng)，它包括接觸體（1）、滑塊（3）；其特征在于：所述的接觸體（1）用于接觸滑塊（3）方向的表面上設(shè)置有一層自潤(rùn)滑層Ⅰ（2）；所述的滑塊（3）用于接觸體（1）方向的表面上設(shè)置有一層自潤(rùn)滑層Ⅱ（4），其特征還在于自潤(rùn)滑層Ⅰ（2）的硬度不小于自潤(rùn)滑層Ⅱ（4）的硬度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自潤(rùn)滑滑塊系統(tǒng)，其特征在于：所述的自潤(rùn)滑層Ⅰ（2）表層上設(shè)置有用于存儲(chǔ)潤(rùn)滑介質(zhì)的潤(rùn)滑槽Ⅰ（21）。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自潤(rùn)滑滑塊系統(tǒng)，其特征在于：所述的自潤(rùn)滑層Ⅱ（4）表層上設(shè)置有用于存儲(chǔ)潤(rùn)滑介質(zhì)的潤(rùn)滑槽Ⅱ（41）。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自潤(rùn)滑滑塊系統(tǒng)，其特征在于：所述的自潤(rùn)滑層Ⅰ（2）表層上設(shè)置有用于存儲(chǔ)潤(rùn)滑介質(zhì)的潤(rùn)滑槽Ⅰ（21），所述的自潤(rùn)滑層Ⅱ（4）表層上設(shè)置有用于存儲(chǔ)潤(rùn)滑介質(zhì)的潤(rùn)滑槽Ⅱ（41）；所述的自潤(rùn)滑層Ⅰ（2）外表面設(shè)置的潤(rùn)滑槽Ⅰ（21）與自潤(rùn)滑層Ⅱ（4）外表面設(shè)置的潤(rùn)滑槽Ⅱ（41）不平行。