[實(shí)用新型]一種可調(diào)焦距聚焦電磁場(chǎng)發(fā)射線圈有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201420119637.8 | 申請(qǐng)日: | 2014-03-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN203736713U | 公開(公告)日: | 2014-07-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 焦明克;樓林;耿西亮;焦琳;張鵬;王忠明;王黎 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國人民解放軍蘭州軍區(qū)烏魯木齊總醫(yī)院 |
| 主分類號(hào): | A61N2/02 | 分類號(hào): | A61N2/02;H01F5/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 830000 新疆維吾爾自治區(qū)烏魯木齊*** | 國省代碼: | 新疆;65 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 可調(diào) 焦距 聚焦 電磁場(chǎng) 發(fā)射 線圈 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及創(chuàng)傷修復(fù)的電磁場(chǎng)照射治療領(lǐng)域,尤其涉及一種可調(diào)焦距聚焦電磁場(chǎng)發(fā)射線圈。
背景技術(shù)
一定參數(shù)的電磁場(chǎng)能夠穿透一定厚度的組織促進(jìn)受損組織血液循環(huán)和再生,影響傷口的愈合。因此針對(duì)不同部位不同程度的組織損傷,要求不同形式和參數(shù)的電磁場(chǎng)。損傷部位大小不同要求磁場(chǎng)范圍不同,組織損傷的深淺不同,要求磁場(chǎng)能夠穿透組織聚焦的焦點(diǎn)不同。為了使電磁場(chǎng)能量能夠有效作用于病灶,往往希望有效電磁場(chǎng)能聚焦作用于病灶。而現(xiàn)有的產(chǎn)生電磁場(chǎng)的發(fā)射線圈多為采用銅絲繞制的螺線管線圈,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,電磁場(chǎng)分布均勻。
常見的電磁場(chǎng)發(fā)射線圈多為螺線管線圈,隨著距離螺線管中心距離越遠(yuǎn)電磁場(chǎng)越小,且無法形成電磁場(chǎng)能量聚焦,更無法實(shí)現(xiàn)聚焦點(diǎn)的調(diào)節(jié);為了增大照射點(diǎn)的電磁場(chǎng)要么加鐵心,或者增大電流,而這些技術(shù)由于渦流的存在會(huì)造成線圈發(fā)熱嚴(yán)重。螺線管線圈為了達(dá)到一定的電磁場(chǎng)參數(shù),其設(shè)計(jì)線圈和層數(shù)和直徑必須達(dá)到一定的要求,從而使厚度大,直徑小,現(xiàn)實(shí)使用過程中很不方便。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是:為了解決上述問題,提供了一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、使用方便的可調(diào)焦距聚焦電磁場(chǎng)發(fā)射線圈,可以對(duì)不同部位不同創(chuàng)傷深度的組織損傷進(jìn)行電磁場(chǎng)能量聚焦照射。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型的技術(shù)方案是:
一種可調(diào)焦距聚焦電磁場(chǎng)發(fā)射線圈,包括調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)以及設(shè)置在所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)上的第一PCB聚焦線圈、第二PCB聚焦線圈和第三PCB聚焦線圈;所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括依次連接的第一板、第二板和第三板;所述第一板與第二板可轉(zhuǎn)動(dòng)的連接;所述第二板和第三板可轉(zhuǎn)動(dòng)的連接;所述第一PCB聚焦線圈固定設(shè)置在所述第一板上;所述第二PCB聚焦線圈固定設(shè)置在所述第二板上;所述第三PCB聚焦線圈設(shè)置在所述第三板上;所述第一板帶動(dòng)所述第一PCB聚焦線圈繞所述第一板和第二板的連接結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)動(dòng)的角度和所述第三板帶動(dòng)所述第三PCB聚焦線圈繞所述第二板和第三板的連接結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)動(dòng)的角度相同。
進(jìn)一步的,所述第一板和第二板之間、第二板和第三板之間分別通過第一阻尼鉸鏈、第二阻尼鉸鏈連接。
進(jìn)一步的,所述第一板繞所述第一板和第二板的連接結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)動(dòng)的角度為0°-90°。
進(jìn)一步的,所述第三板繞所述第二板和第三板的連接結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)動(dòng)的角度為0°-90°。
進(jìn)一步的,所述第一PCB聚焦線圈、第二PCB聚焦線圈和第三PCB聚焦線圈結(jié)構(gòu)相同。
本實(shí)用新型由于采用了上述技術(shù),使之與現(xiàn)有技術(shù)相比具有的積極效果是:
本實(shí)用新型可調(diào)焦距聚焦電磁場(chǎng)發(fā)射線圈的三塊PCB聚焦線圈分別產(chǎn)生三個(gè)能量聚焦于PCB聚焦線圈垂直中心線的電磁場(chǎng),三個(gè)電磁場(chǎng)中心線通過聚焦調(diào)節(jié)結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)不同的空間重疊角度,從而可以根據(jù)不同部位不同創(chuàng)傷深度的組織損傷對(duì)電磁場(chǎng)能量聚焦照射進(jìn)行調(diào)整;本實(shí)用新型由于第一PCB聚焦線圈和第三PCB聚焦線圈均可相對(duì)于第一PCB聚焦線圈的轉(zhuǎn)動(dòng)0°-90°,使用過程隨著病灶深度的改變,通過折疊第一PCB聚焦線圈和第三PCB聚焦線圈相同的角度,從而實(shí)現(xiàn)三個(gè)線圈垂直中心線電磁場(chǎng)的交疊聚焦于病灶。
附圖說明
圖1為本實(shí)用新型可調(diào)焦距聚焦電磁場(chǎng)發(fā)射線圈的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為本實(shí)用新型可調(diào)焦距聚焦電磁場(chǎng)發(fā)射線圈的單個(gè)PCB聚焦線圈的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3為本實(shí)用新型可調(diào)焦距聚焦電磁場(chǎng)發(fā)射線圈的單個(gè)PCB聚焦線圈電磁場(chǎng)強(qiáng)弱分布示意圖。
圖4為本實(shí)用新型可調(diào)焦距聚焦電磁場(chǎng)發(fā)射線圈的三個(gè)PCB聚焦線圈產(chǎn)生的電磁場(chǎng)重疊聚焦示意圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖進(jìn)一步說明本實(shí)用新型的實(shí)施例。
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