[實用新型]一種紅外/微波波束合成裝置支撐結構有效
| 申請號: | 201420118234.1 | 申請日: | 2014-03-14 |
| 公開(公告)號: | CN203880351U | 公開(公告)日: | 2014-10-15 |
| 發明(設計)人: | 李卓;田義;嚴輝;張勵;王欣;李艷紅;馮曉晨 | 申請(專利權)人: | 北京理工大學;上海機電工程研究所 |
| 主分類號: | F16M11/24 | 分類號: | F16M11/24 |
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| 地址: | 100081 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 紅外 微波 波束 合成 裝置 支撐 結構 | ||
技術領域
本發明涉及一種波束合成裝置支撐結構,特別涉及一種紅外/微波波束合成裝置支撐結構,主要應用于紅外/微波復合成像探測制導半實物仿真系統。本發明屬于光學、微波與機械結構技術的交叉領域。
背景技術
紅外/微波雙模復合制導技術是當前最有發展前景的精確制導技術之一。它使得紅外制導、微波制導與毫米波制導體制優勢互補,同時可以彌補各方的缺點。為了在實驗室進行紅外/微波復合制導的設計、驗證、測試和評估,需要建立相應的紅外/微波復合制導半實物仿真系統。三軸飛行轉臺可以模擬被測設備的俯仰、方位和滾轉運動。紅外目標安裝在紅外目標隨動轉臺上用于模擬目標的相對運動。微波目標陣列用于模擬目標的雷達散射信號。為了將紅外目標圖像信號、微波雷達信號在空間組合投射到被測設備的同一探測視場而互不干擾,波束合成裝置反射紅外圖像信號同時透射微波雷達信號,使得被測設備能夠同時看到同一目標來自同一方向的紅外輻射特征和雷達散射特征。因此波束合成裝置是實現紅外/微波復合制導半實物仿真系統中模擬復合制導的主要手段。
在波束合成裝置的設計研制中,主要以帶紅外反射膜的介質板、泡沫基質上的選頻表面、衍射光學器件、一維光子晶體、金屬網柵膜、棱鏡陣列等技術路線為主。為了實現大視場范圍的紅外/微波波束合成,北京理工大學提出了一種紅外/激光/微波/毫米波共口徑波束合成裝置(專利申請號:ZL201310071451.X一種紅外/激光/微波/毫米波共口徑波束合成裝置)。該裝置可實現大視場角度的覆蓋。由于波束合成裝置放置在三軸飛行轉臺、微波目標陣列之間和目標隨動轉臺之間,因此就必須采用一定的支撐結構將波束合成裝置放置在預定位置。支撐結構必須可實現波束合成裝置位置的調整,同時結構避免與其他設備干涉。
美國艾格林空軍基地提出的單臂支撐結構只適用于口徑小、重量輕的波束合成裝置。對于尺寸在米量級,重量在百千克量級的波束合成裝置,該支撐結構的力學性能顯然不能滿足要求(見文獻FranciscoA.Arredondo,Stockbridge?Robert,EricW.Glattke,RobertW.Copeland,andJohnR.Walker,”Multi-Spectral?SceneProjection(MSSP)demonstration”,Proc.SPIE,2001,Vol.4366:29-40)。
美國陸軍和航空導彈司令部提出了采用玻璃鋼支架和泡沫的支撐結構,該結構可以承受較大尺寸和重量的波束合成裝置,但是沒有調節裝置,位置一旦固定,無法調節。泡沫屬于易變形材料,長時間大重量的擠壓,容易老化變形,最終導致波束合成裝置的位置發生變化,進而將改變整個光路對系統帶來致命的影響。(見文獻S.MobleyandJ.Cole,“Dichroicbeamcombinertosupport?hardware-in-the-looptestingofdual-modecommonapertureseekers”,Proc.SPIE,1998,Vol.3368:32-41和ScottB.MobleyandJohnS.Cole,“Hardware-in-the-loop?simulationofdual-modecommonapertureseekersattheUSArmyAviationand?MissileCommand”,Proc.SPIE,1999,Vol.3697:72-79。
哈爾濱工業大學針對薄膜式波束合成器提出了固定調整機構,該結構較小輕便適用于安裝在三軸飛行轉臺上。由于結構限制,不適用于固定在地面的大尺寸波束合成裝置(參看專利授權公告號:CN101303407B,薄膜式紅外—雷達波束合成器)。
發明內容
本發明的目的是為了解決現有波束合成裝置具有的如下缺點:1、可支撐的波束合成裝置尺寸小、重量輕,無法滿足半實物仿真所需視場的需求;2、不具有調節機構,無法調整波束合成裝置的位置。為了克服現有波束合成裝置支撐結構的不足,本發明公開一種紅外/微波波束合成裝置支撐結構。
本發明的目的是通過下述技術方案實現的。
一種紅外/微波波束合成裝置支撐結構,包括2個底座和支架。2個底座分別用于支撐支架的兩邊,兩個底座鏡像對稱。底座上的調節機構可以調整支架的位置和轉角。支架用于為波束合成裝置提供力學支撐,支架上留有與波束合成裝置匹配的安裝接口,安裝接口的尺寸和形狀根據波束合成裝置的尺寸和形狀而定。
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