[實(shí)用新型]測距系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420117381.7
• 申請日: 2014-03-14
• 公開（公告）號: CN203798344U
• 公開（公告）日: 2014-08-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王華;葉翔
• 申請（專利權(quán)）人: 賓得勵(lì)精科技（上海）有限公司
• 主分類號: G01C3/00
• 分類號: G01C3/00
• 代理公司: 北京戈程知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11314
• 代理人: 程偉;王剛

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及大地工程測量領(lǐng)域，特別涉及一種測距系統(tǒng)。?

背景技術(shù)

全站型電子測距儀(Electronic?Total?Station)，是一種集光、機(jī)、電為一體的高技術(shù)測量儀器，是集水平角、垂直角、距離(斜距、平距)、高差測量功能于一體的測繪儀器系統(tǒng)。因?yàn)橐淮涡园仓煤脙x器就可完成測站上全部測量工作，所以稱之為全站儀。?

全站儀廣泛用于地上大型建筑和地下隧道施工等精密工程測量或變形監(jiān)測領(lǐng)域。隨著社會的不斷發(fā)展以及全站儀市場的進(jìn)一步擴(kuò)展，全站儀在測繪領(lǐng)域的應(yīng)用越來越廣泛，而客戶對全站儀的測量精度、操作的易學(xué)性、數(shù)據(jù)傳輸?shù)姆奖阈杂辛烁叩囊螅瑐鹘y(tǒng)的全站儀已經(jīng)遠(yuǎn)遠(yuǎn)不能滿足現(xiàn)代客戶的需求，需要對全站儀的各個(gè)系統(tǒng)做出進(jìn)一步改進(jìn)。具體針對于全站儀中的測距系統(tǒng)需要進(jìn)一步對其改進(jìn)以適應(yīng)最新的需求，現(xiàn)已有研發(fā)出成熟的EDM測距(電子測距)系統(tǒng)，然而在其基礎(chǔ)上仍有可改善的空間。?

綜上所述，提供一種能進(jìn)一步提升測距性能的測距系統(tǒng)，成為本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的問題。?

公開于該實(shí)用新型背景技術(shù)部分的信息僅僅旨在加深對本實(shí)用新型的一般背景技術(shù)的理解，而不應(yīng)當(dāng)被視為承認(rèn)或以任何形式暗示該信息構(gòu)成已為本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知的現(xiàn)有技術(shù)。?

實(shí)用新型內(nèi)容

為了解決上述問題，本實(shí)用新型的目的在于提供一種能進(jìn)一步提升測距性能的測距系統(tǒng)，其主要對內(nèi)部的光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計(jì)變更，使其有更遠(yuǎn)的測距能力。?

為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型提供一種測距系統(tǒng)，所述測距系?統(tǒng)包括電子系統(tǒng)和光學(xué)系統(tǒng)，所述光學(xué)系統(tǒng)將載有信息的光信號傳送至電子系統(tǒng)中進(jìn)行信號處理分析，所述光學(xué)系統(tǒng)包括光學(xué)模塊和機(jī)械模塊(EDM機(jī)塊)，所述光學(xué)模塊設(shè)置于所述機(jī)械模塊上；所述光學(xué)模塊包括：激光光源、發(fā)射裝置、第一接收裝置、第一光纖、第二光纖、第二接收裝置、參考信號裝置以及馬達(dá)；所述光學(xué)模塊中的光路方向?yàn)椋河伤黾す夤庠窗l(fā)出紅外激光，所述紅外激光經(jīng)過發(fā)射裝置后發(fā)射至被測物并被被測物反射而產(chǎn)生反射光信號，所述反射光信號被所述第一接收裝置接收再通過所述第一光纖傳送給所述第二接收裝置，同時(shí)所述參考信號裝置通過所述第二光纖將一參考信號傳送給所述第二接收裝置，將所述反射光信號和所述參考信號在所述第二接收裝置中進(jìn)行比較去除干擾信號后將最終光信號傳送至所述電子系統(tǒng)中；所述發(fā)射裝置沿光路方向依次包括反射/透射裝置、聚光塊、光路透鏡以及反射裝置；所述馬達(dá)設(shè)置于所述機(jī)械模塊中且所述馬達(dá)的數(shù)量為一個(gè)。?

優(yōu)選地，所述激光光源的功率在測距時(shí)為4.7mW。?

優(yōu)選地，所述發(fā)射裝置、所述第二接收裝置和所述參考信號裝置設(shè)置于所述機(jī)械模塊內(nèi)部且所述第二接收裝置和所述參考信號裝置通過所述第二光纖相連；所述第一接收裝置設(shè)置于所述機(jī)械模塊外部并通過所述第一光纖與所述第二接收裝置相連。?

優(yōu)選地，在所述發(fā)射裝置中的光路方向?yàn)椋核黾す夤庠窗l(fā)出紅外激光，所述紅外激光入射至所述反射/透射裝置后分成兩部分激光線束，一部分激光線束經(jīng)過所述反射/透射裝置的反射進(jìn)入所述參考信號裝置成為所述參考信號，另一部分激光線束依次經(jīng)過所述反射/透射裝置的透射、所述聚光塊的聚光、所述光路透鏡的透射以及所述反射裝置的反射后由水平方向變?yōu)榇怪狈较蛏涑觥?

優(yōu)選地，在所述發(fā)射裝置中：所述激光光源發(fā)出的紅外激光入射至所述反射/透射裝置的入射角θ的范圍為0＜θ≤20°。?

本實(shí)用新型的有益效果是：本實(shí)用新型對內(nèi)部光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計(jì)變更，使其實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)距離可測距目的，從而進(jìn)一步提高測距性能；另外測距步驟更為簡易，測量儀器的互換性更容易實(shí)現(xiàn)。?

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型的原理框圖。?

圖2為原有EDM測距產(chǎn)品的EDM機(jī)塊的整體結(jié)構(gòu)示意圖。?

圖3為本實(shí)用新型的EDM機(jī)塊的整體結(jié)構(gòu)示意圖。?

圖4為本實(shí)用新型的光學(xué)模塊和EDM機(jī)塊的部分結(jié)構(gòu)示意圖。?

圖5為原有EDM測距產(chǎn)品的光學(xué)模塊的接收部分的結(jié)構(gòu)示意圖。?

圖6為本實(shí)用新型的光學(xué)模塊的接收部分的結(jié)構(gòu)示意圖。?

圖7為本實(shí)用新型的光學(xué)模塊的部分結(jié)構(gòu)示意圖。?

圖8為本實(shí)用新型的光學(xué)模塊內(nèi)部的發(fā)射光路走向示意圖。?

圖9為本實(shí)用新型的光學(xué)模塊內(nèi)部的接收光路走向示意圖。?

主要部件符號說明：?

1????測距系統(tǒng)?

2????電子系統(tǒng)?

3????光學(xué)系統(tǒng)?

31???光學(xué)模塊?