[實用新型]一種用于清潔電子元件的清潔設備有效
| 申請號： | 201420117113.5 | 申請日： | 2014-03-13 |
| 公開（公告）號： | CN204171033U | 公開（公告）日： | 2015-02-25 |
| 發明（設計）人： | 樸健禹 | 申請（專利權）人： | 東莞高偉光學電子有限公司 |
| 主分類號： | B08B7/04 | 分類號： | B08B7/04;B08B7/00;B08B5/02 |
| 代理公司： | 深圳中一專利商標事務所 44237 | 代理人： | 仉玉新 |
| 地址： | 523413 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 清潔 電子元件 設備 | ||
1.一種用于清潔電子元件的清潔設備，所述清潔設備包括：?
多個處理區；和?
一個或多個傳送裝置，所述傳送裝置用于將電子元件相繼的傳送到每一個處理區，使得所述電子元件順序通過串連的處理區進行處理；?
其中，在一個處理區中，在大氣壓力下，施加等離子到電子元件上。?
2.如權利要求1所述的清潔設備，其特征在于，在一個處理區中，將氣體吹到電子元件上以去除電子元件上的污染物。?
3.如權利要求1所述的清潔設備，其特征在于，在一個處理區中，對電子元件進行真空處理以去除電子元件上的污染物。?
4.如權利要求1所述的清潔設備，其特征在于，另一個處理區是吹風區，在所述吹風區，向電子元件吹送氣體，且另一個處理區是真空區，在所述真空區，對電子元件進行真空處理，在真空區之前，是在大氣壓力對電子元件施加等離子的處理區，而所述吹風區則在真空區之前。?
5.如權利要求1所述的清潔設備，其特征在于，在大氣壓力下對電子元件施加等離子的處理區，也對所述電子元件應用去離子水。?
6.如權利要求1所述的清潔設備，其特征在于，所述處理區被整合為一個單一機器。?
7.如權利要求1所述的清潔設備，其特征在于，所述處理區和一個或多個傳送裝置被整合成作為一個單一機器。?
8.如權利要求1所述的清潔設備，其特征在于，所述處理區和一個或多個傳送裝置被封閉在一個受控的清潔環境中。?
9.如權利要求1所述的清潔設備，其特征在于，包括多個傳送裝置，其中每一個傳送裝置都被是單獨操控的。?
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