[實用新型]全自動太陽能硅片清洗機有效
| 申請號： | 201420111460.7 | 申請日： | 2014-03-12 |
| 公開（公告）號： | CN203787392U | 公開（公告）日： | 2014-08-20 |
| 發明（設計）人： | 陸惠石 | 申請（專利權）人： | 張家港市港威超聲電子有限公司 |
| 主分類號： | H01L21/67 | 分類號： | H01L21/67;H01L31/18;B08B3/12 |
| 代理公司： | 南京眾聯專利代理有限公司 32206 | 代理人： | 顧進 |
| 地址： | 215618 江蘇省蘇州市張*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 全自動 太陽能 硅片 清洗 | ||
1.全自動太陽能硅片清洗機，其特征在于：包括一超聲清洗槽，所述的超聲清洗槽后方依次設有浸泡酸洗槽、超聲堿洗槽以及一個或多個超聲漂洗槽，所述的超聲清洗槽、浸泡酸洗槽、超聲堿洗槽及超聲漂洗槽上方設有一平移支架，所述的平移支架上吊設又一個或多個承載待清洗硅片的吊籃，所述的平移支架安裝在一升降結構上。
2.如權利要求1所述的全自動太陽能硅片清洗機，其特征在于：所述的超聲清洗槽前方設有超聲粗洗槽，平移支架延伸至超聲粗洗槽上方。
3.如權利要求2所述的全自動太陽能硅片清洗機，其特征在于：所述的超聲粗洗槽上方設有浸泡上料槽，平移支架延伸至浸泡上料槽上方。
4.如權利要求3所述的全自動太陽能硅片清洗機，其特征在于：所述的超聲漂洗槽后方設有下料臺。
5.如權利要求4所述的全自動太陽能硅片清洗機，其特征在于：所述的吊籃通過一個或多個掛鉤掛于平移支架上。
6.如權利要求5所述的全自動太陽能硅片清洗機，其特征在于：所述的超聲清洗槽底部設有超聲波發生板。
7.如權利要求6所述的全自動太陽能硅片清洗機，其特征在于：所述的浸泡酸洗槽底部設有超聲波發生板。
8.如權利要求7所述的全自動太陽能硅片清洗機，其特征在于：所述的超聲堿洗槽底部設有超聲波發生板。
9.如權利要求8所述的全自動太陽能硅片清洗機，其特征在于：所述的每個超聲漂洗槽底部設有超聲波發生板。
10.如權利要求9所述的全自動太陽能硅片清洗機，其特征在于：所述的浸泡上料槽、超聲粗洗槽、超聲清洗槽、浸泡酸洗槽、超聲堿洗槽及超聲漂洗槽底部分別設有出液口。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于張家港市港威超聲電子有限公司，未經張家港市港威超聲電子有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201420111460.7/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：一種液體帶顆粒混合灌裝閥
- 下一篇：一種臥式余熱鍋爐單片模塊翻轉架
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
