[實(shí)用新型]觸控裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420108258.9
• 申請日: 2014-03-11
• 公開（公告）號: CN203759668U
• 公開（公告）日: 2014-08-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳健忠;康恒達(dá);王文俊
• 申請（專利權(quán)）人: 勝華科技股份有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041;G06F3/044
• 代理公司: 深圳新創(chuàng)友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44223
• 代理人: 江耀純

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種觸控裝置，特別涉及一種利用在結(jié)構(gòu)層上形成納米微細(xì)結(jié)構(gòu)來降低觸控組件可視程度的觸控裝置。

背景技術(shù)

觸控板的技術(shù)發(fā)展非常多樣化，目前比較常見的技術(shù)包括電阻式、電容式以及光學(xué)式等。其中電容式觸控板由于具有高準(zhǔn)確率、多點(diǎn)觸控、高耐用性以及高觸控解析度等特點(diǎn)，已成為目前中高階消費(fèi)性電子產(chǎn)品使用的主流觸控技術(shù)。電容式觸控板的操作原理是使用感應(yīng)電極來檢測觸控點(diǎn)位的電容變化，并利用不同方向軸上連接各個(gè)電極的連接線將信號傳回而完成定位。其中，連接線一般是以電阻率比較低的金屬材料所形成。然而，金屬材料所形成的連接線因?yàn)楸容^容易反射光線，故使得連接線容易被識別出而造成觸控板在視覺效果上的不良影響。此外，目前相關(guān)領(lǐng)域也有開發(fā)出以金屬線路交織而成的金屬網(wǎng)格(metal mesh)來取代透明導(dǎo)電材料形成感應(yīng)電極的設(shè)計(jì)來提高反應(yīng)速度。然而金屬網(wǎng)格所使用的金屬材料也比較容易反射光線，故也會造成觸控板在視覺效果上的不良影響。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的在于提供一種觸控裝置，利用在與觸控組件重疊的結(jié)構(gòu)層上形成納米微細(xì)結(jié)構(gòu)，通過納米微細(xì)結(jié)構(gòu)對觸控組件可能產(chǎn)生的反射光形成散射或形成抑制反射光射出的效果，進(jìn)而達(dá)到改善觸控裝置的外觀質(zhì)量的目的。

本實(shí)用新型提供一種觸控裝置，包括一第一基底、一結(jié)構(gòu)層以及一觸控組件。第一基底具有一第一面以及一第二面，且第一面與第二面相對。結(jié)構(gòu)層設(shè)置在第一基底的第一面上。結(jié)構(gòu)層具有一粗化面，粗化面背對第一基底，且粗化面包括多個(gè)納米微細(xì)結(jié)構(gòu)。觸控組件與納米微細(xì)結(jié)構(gòu)在一垂直第一基底的垂直投影方向上至少部分重疊。

在本實(shí)用新型其中一個(gè)實(shí)施例的觸控裝置中，兩相鄰的納米微細(xì)結(jié)構(gòu)的頂點(diǎn)間的距離介于90納米到900納米之間。

在本實(shí)用新型其中一個(gè)實(shí)施例的觸控裝置中，兩相鄰的納米微細(xì)結(jié)構(gòu)相連的地方具有一連接點(diǎn)，兩相鄰的納米微細(xì)結(jié)構(gòu)其中的一個(gè)的最高點(diǎn)與連接點(diǎn)之間具有一高度，且高度是介于90納米到900納米之間。

在本實(shí)用新型其中一個(gè)實(shí)施例的觸控裝置中，納米微細(xì)結(jié)構(gòu)的最高點(diǎn)與最低點(diǎn)在垂直投影方向上的距離是介于90納米到900納米之間。

在本實(shí)用新型其中一個(gè)實(shí)施例的觸控裝置中，納米微細(xì)結(jié)構(gòu)彼此相連設(shè)置。

在本實(shí)用新型其中一個(gè)實(shí)施例的觸控裝置中，結(jié)構(gòu)層包括有機(jī)材料、無機(jī)材料或有機(jī)-無機(jī)復(fù)合材料。

在本實(shí)用新型其中一個(gè)實(shí)施例的觸控裝置中，結(jié)構(gòu)層的折射率介于1.35到2之間。

在本實(shí)用新型其中一個(gè)實(shí)施例的觸控裝置中，觸控組件是設(shè)置在結(jié)構(gòu)層的粗化面上。

本實(shí)用新型其中一個(gè)實(shí)施例的觸控裝置還包括一裝飾層，設(shè)置在第一基底上，且第一基底為一透光覆蓋板。

在本實(shí)用新型其中一個(gè)實(shí)施例的觸控裝置中，裝飾層的厚度小于結(jié)構(gòu)層的厚度。

在本實(shí)用新型其中一個(gè)實(shí)施例的觸控裝置中，裝飾層的厚度大于結(jié)構(gòu)層的厚度。

在本實(shí)用新型其中一個(gè)實(shí)施例的觸控裝置中，裝飾層設(shè)置在第一基底的第一面上。

在本實(shí)用新型其中一個(gè)實(shí)施例的觸控裝置中，裝飾層至少部分設(shè)置在結(jié)構(gòu)層與第一基底之間。

本實(shí)用新型其中一個(gè)實(shí)施例的觸控裝置還包括一第二基底，與第一基底相對設(shè)置，其中第二基底具有一第三面以及一第四面，第三面與第四面相對，第三面面對第一基底的第一面，且觸控組件至少部分設(shè)置在第二基底的第三面上。

在本實(shí)用新型其中一個(gè)實(shí)施例的觸控裝置中，觸控組件設(shè)置在第一基底的第一面上，且觸控組件設(shè)置在結(jié)構(gòu)層與第一基底之間。

本實(shí)用新型其中一個(gè)實(shí)施例的觸控裝置還包括一透光覆蓋板，與第一基底相對設(shè)置，其中結(jié)構(gòu)層設(shè)置在第一基底與透光覆蓋板之間。

本實(shí)用新型其中一個(gè)實(shí)施例的觸控裝置還包括一裝飾層，設(shè)置在透光覆蓋板上。

本實(shí)用新型其中一個(gè)實(shí)施例的觸控裝置還包括一遮光層，至少部分設(shè)置在觸控組件與結(jié)構(gòu)層之間。

在本實(shí)用新型其中一個(gè)實(shí)施例的觸控裝置中，觸控組件包括至少一金屬層或至少一金屬網(wǎng)格，其中金屬網(wǎng)格具有一線寬，且線寬介于0.1微米到10微米之間。

在本實(shí)用新型其中一個(gè)實(shí)施例的觸控裝置中，觸控組件包括多個(gè)觸控電極彼此互相電絕緣設(shè)置。

在本實(shí)用新型其中一個(gè)實(shí)施例的觸控裝置中，觸控電極包括至少一觸控信號驅(qū)動電極以及至少一觸控信號接收電極。