[實用新型]多層連續式電漿輔助化學氣相沉積設備

有效

• 申請號: 201420104340.4
• 申請日: 2014-03-07
• 公開（公告）號: CN203976912U
• 公開（公告）日: 2014-12-03
• 發明（設計）人: 鄭錫輝;陳正士;坂本昇一郎;蔡依廷
• 申請（專利權）人: 豐捷應用材料有限公司
• 主分類號: C23C16/513
• 分類號: C23C16/513
• 代理公司: 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006
• 代理人: 王玉雙;祁建國

技術領域

本實用新型為有關一種半導體制程設備，尤指一種多層連續式電漿輔助化學氣相沉積設備。?

背景技術

電漿輔助化學氣相沉積設備(Plasma?Enhanced?Chemical?Vapor?Deposition，PECVD)，為一種應用于半導體制程中常見的成膜設備，其為將含有薄膜組成原子的氣體離子化形成電漿態，利用電漿態具有較強的化學活性而容易進行反應的特性，得以于基板上沉積出所欲成長的薄膜，由于此方法利用電漿態的活性促進反應，具有沉積速率快、成膜品質佳的優點。?

在臺灣發明專利公告第I411701號中，即揭示一種電漿輔助式化學氣相沉積裝置，包括一制程腔室、一上電極、一下電極以及至少一圖案化介質材料裝置。該上電極與該下電極相對設置于該制程腔室內，用以產生一電漿輔助式化學氣相沉積反應，以將一薄膜材料沉積于一設置于該下電極上的基板上。該圖案化介質材料裝置為設置于該下電極上，并與該基板的至少一邊角相鄰設置，以改善成膜的均勻性。?

然而，現有一般的電漿輔助化學氣相沉積設備，由于在該制程腔室中，考量成膜的均勻性，皆僅于一較佳的成膜位置放置該基板以進行成膜，浪費該制程腔室若大的空間，而有徒增該電漿輔助化學氣相沉積設備的體積以及產量受限制的問題。?

實用新型內容

本實用新型的主要目的，在于解決現有的電漿輔助化學氣相沉積設備，具有徒增該電漿輔助化學氣相沉積設備的體積以及產量受限制的問題。?

為達上述目的，本實用新型提供一種多層連續式電漿輔助化學氣相沉積設備，包含有一腔體、至少一氣體源、一第一沉積組件以及一第二沉積組件。該?氣體源供應一輸入該腔體內的氣體，該第一沉積組件設置于該腔體內，并包含一供承載一第一基板的第一載板以及相對設置于該第一載板的兩側并以該氣體產生一第一電漿的一第一電極組，該第二沉積組件設置于該腔體內并與該第一沉積組件相鄰，該第二沉積組件包含一供承載一第二基板的第二載板以及相對設置于該第二載板的兩側并以該氣體產生一第二電漿的一第二電極組。?

所述的多層連續式電漿輔助化學氣相沉積設備，其中，該第一電極組包含一第一正電極以及一第一負電極，該第一正電極及該第一負電極電性連接至一射頻電源。?

所述的多層連續式電漿輔助化學氣相沉積設備，其中，該第二電極組包含一第二正電極以及一第二負電極，該第二正電極及該第二負電極電性連接至一射頻電源。?

所述的多層連續式電漿輔助化學氣相沉積設備，其中，還包含一與該腔體連通以維持該腔體內的真空度的真空泵。?

所述的多層連續式電漿輔助化學氣相沉積設備，其中，該腔體包含一容置該第一沉積組件與該第二沉積組件的沉積區域、一與該沉積區域間隔設置的輸入區域以及一與該沉積區域間隔設置而遠離該輸入區域的輸出區域。?

所述的多層連續式電漿輔助化學氣相沉積設備，其中，還包含一與該腔體連通以維持該腔體內的真空度的真空泵，該真空泵與該沉積區域、該輸入區域及該輸出區域各別連通。?

所述的多層連續式電漿輔助化學氣相沉積設備，其中，該腔體還包含一間隔該沉積區域與該輸入區域的輸入閘門以及一間隔該沉積區域與該輸出區域的輸出閘門。?

所述的多層連續式電漿輔助化學氣相沉積設備，其中，該輸入區域包含一將該第一基板從該輸入區域輸送至該第一載板承載的第一輸入載板以及一將該第二基板從該輸入區域輸送至該第二載板承載的第二輸入載板。?

所述的多層連續式電漿輔助化學氣相沉積設備，其中，該輸出區域包含一承載由該沉積區域的該第一載板輸出的該第一基板的第一輸出載板以及一承載由該沉積區域的該第二載板輸出的該第二基板的第二輸出載板。?

如此一來，本實用新型藉由于該腔體內設置該第一沉積組件以及該第二沉積組件，由該第一電極組與該第二電極組分別產生該第一電漿及該第二電漿，?而得以于該腔體內同時進行該第一基板以及該第二基板的成膜，相較現有的電漿輔助化學氣相沉積設備以單一個沉積組件成膜，不僅保有成膜的均勻性，還可有效利用該腔體的空間，增加產量。?

附圖說明

圖1，為本實用新型第一實施例的結構剖面示意圖；?

圖2，為本實用新型第二實施例的結構剖面示意圖。?

具體實施方式

有關本實用新型的詳細說明及技術內容，現就配合圖式說明如下：?