[實用新型]一種帶孔介質(zhì)阻擋等離子體放電基本單元及反應(yīng)器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201420103114.4 | 申請日: | 2014-03-07 |
| 公開(公告)號: | CN203790807U | 公開(公告)日: | 2014-08-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 姚水良;牛東暉 | 申請(專利權(quán))人: | 姚水良 |
| 主分類號: | B01D53/32 | 分類號: | B01D53/32;B01D53/94 |
| 代理公司: | 江蘇圣典律師事務(wù)所 32237 | 代理人: | 朱慶華 |
| 地址: | 210042 江蘇省南京市玄*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 介質(zhì) 阻擋 等離子體 放電 基本 單元 反應(yīng)器 | ||
1.一種帶孔介質(zhì)阻擋等離子體放電基本單元,其特征在于,包括第一導(dǎo)線、第二導(dǎo)線、第一介質(zhì)層、第二介質(zhì)層及相互平行的第一電極和第二電極;?
所述第一導(dǎo)線和第二導(dǎo)線分別與所述第一電極頂端和第二電極底端電氣連接;?
所述第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層均位于所述第一電極和第二電極之間并分別與所述第一電極底端和第二電極頂端相連,且所述第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層之間形成至少一個放電空間;所述放電空間設(shè)有至少一個氣體進(jìn)口和至少一個氣體出口;?
所述第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層上分別設(shè)有多個第一氣孔和多個第二氣孔;所述第一氣孔在第一介質(zhì)層表面長度方向上的截面積和第二氣孔在第二介質(zhì)層表面長度方向上的截面積均為(0.0001,10)mm2,且多個第一氣孔在第一介質(zhì)層表面長度方向上的截面積總和與多個第二氣孔在第二介質(zhì)層表面長度方向上的截面積總和分別占第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層總表面積的(0.00001%,10%)。?
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶孔介質(zhì)阻擋等離子體放電基本單元,其特征在于,所述第一氣孔和第二氣孔之間的最短距離L≥10mm。?
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的帶孔介質(zhì)阻擋等離子體放電基本單元,其特征在于,所述第一氣孔為通孔、盲孔或埋孔。?
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的帶孔介質(zhì)阻擋等離子體放電基本單元,其特征在于,所述第二氣孔為通孔、盲孔或埋孔。?
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶孔介質(zhì)阻擋等離子體放電基本單元,其特征在于,所述第一介質(zhì)層的氣體接觸面或第二介質(zhì)層的氣體接觸面上設(shè)有催化劑層。?
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶孔介質(zhì)阻擋等離子體放電基本單元,其特征在于,所述第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層之間的距離d為(0.1,100)mm。?
7.一種采用權(quán)利要求1-6任意一項所述放電基本單元的帶孔介質(zhì)阻擋等離子體反應(yīng)器,其特征在于,包括反應(yīng)器外殼、高壓電源以及至少兩個所述放電基本單元;所述各個放電基本單元置于所述反應(yīng)器外殼內(nèi)部,且各個放電基本單元的電源輸入端均與所述高壓電源連接。?
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的帶孔介質(zhì)阻擋等離子體反應(yīng)器,其特征在于,所述各個放電基本單元之間并聯(lián)或串聯(lián)且一并置于所述反應(yīng)器外殼內(nèi)部。?
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于姚水良,未經(jīng)姚水良許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201420103114.4/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





