[實用新型]Z軸聚焦光束刷設備

有效

• 申請號: 201420101575.8
• 申請日: 2014-03-07
• 公開（公告）號: CN204028461U
• 公開（公告）日: 2014-12-17
• 發明（設計）人: 小威廉·R·本納
• 申請（專利權）人: 小威廉·R·本納
• 主分類號: G02B26/08
• 分類號: G02B26/08;G02B26/12
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 鄭宗玉

1.一種Z軸聚焦光束刷設備，其特征在于，包括：?

被定位用于接收沿著第一光束軸傳播的光束的第一透鏡；?

具有第一和第二反射表面部分的后向反射器，第一反射表面部分被定位用于接收從第一透鏡透射的光束并且將該光束重定向到第二反射表面部分上，其中所述后向反射器能圍繞旋轉軸旋轉；?

被固定在第一透鏡下游位置的第二透鏡，用于從所述后向反射器的第二反射表面部分接收所反射的光束并且沿著第二光束軸透射該光束；以及?

能與所述后向反射器一起操作的控制器，用于控制圍繞所述旋轉軸的第一和第二反射表面部分的旋轉角，因此控制第一透鏡與第二透鏡之間的光束的路徑長度改變，導致路徑長度改變的旋轉角被選擇用于提供透射通過第二透鏡的反射光束的聚焦和發散中的至少之一。?

2.根據權利要求1所述的Z軸聚焦光束刷設備，其特征在于，第一和第二反射表面部分分別被固定在第一和第二平面內，其中第一和第二平面在交叉點處相交，以及其中所述旋轉軸鄰近第一和第二平面中的一個并且從所述交叉點偏移。?

3.根據權利要求2所述的Z軸聚焦光束刷設備，其特征在于，第一和第二反射表面部分是平面的，并且其中第一反射表面部分與第二反射表面部分正交。?

4.根據權利要求3所述的Z軸聚焦光束刷設備，其特征在于，第一和第二反射表面部分形成棱鏡的一部分。?

5.根據權利要求2所述的Z軸聚焦光束刷設備，其特征在于，第一和第二反射表面部分是平面的，并且其中第一反射表面部分?與第二反射表面部分形成銳角和鈍角中的至少一個。?

6.根據權利要求5所述的Z軸聚焦光束刷設備，其特征在于，第一光束軸與第二光束軸正交。?

7.根據權利要求1所述的Z軸聚焦光束刷設備，其特征在于，所述后向反射器包括：?

能圍繞所述旋轉軸旋轉的底座；?

由所述底座承載并且按照第一排列方式排列的第一反射鏡，第一反射鏡具有第一反射表面；以及?

由所述底座承載、與第一反射鏡成間隔關系的第二反射鏡，第二反射鏡被固定至所述底座并且按照與第一排列方式正交的第二排列方式排列，第二反射鏡具有第二反射表面。?

8.根據權利要求7所述的Z軸聚焦光束刷設備，其特征在于，第一和第二反射鏡中的每一個包括具有平行于底部部分的中央頂部部分、以及底切的左側部分和右側部分的矩形形狀。?

9.根據權利要求1所述的Z軸聚焦光束刷設備，其特征在于，第一光束軸平行于第二光束軸。?

10.根據權利要求9所述的Z軸聚焦光束刷設備，其特征在于，沿著第二光束軸透射的光束在與沿著第一光束軸透射的光束相反的方向上。?

11.根據權利要求1所述的Z軸聚焦光束刷設備，其特征在于，還包括：?

定位在第一透鏡下游的第三反射表面部分，用于接收從第一透鏡透射的光束并且將該光束反射到所述后向反射器的第一反射表面?上；以及?

定位在第二反射表面部分下游的第四反射表面部分，用于接收從第二反射表面部分反射的光束并且將該光束反射到第二透鏡上。?

12.根據權利要求11所述的Z軸聚焦光束刷設備，其特征在于，沿著第二光束軸透射的光束在沿著第一光束軸透射的光束的方向上。?

13.根據權利要求1所述的Z軸聚焦光束刷設備，其特征在于，還包括光束刷掃描器，所述光束刷掃描器具有能與所述后向反射器一起操作并且能圍繞所述旋轉軸旋轉的軸。?

14.根據權利要求13所述的Z軸聚焦光束刷設備，其特征在于，所述控制器能與所述光束刷掃描器一起操作，用于向所述光束刷掃描器提供控制信號，以及其中所述控制信號限制所述后向反射器圍繞所述旋轉軸的旋轉。?

15.根據權利要求1所述的Z軸聚焦光束刷設備，其特征在于，還包括設置在第二透鏡下游的X-Y掃描器，用于從第二透鏡接收光束。?

16.根據權利要求15所述的Z軸聚焦光束刷設備，其特征在于，在控制用于掃描動作補償的第一和第二反射表面部分的所述旋轉角期間，信號被發送至所述X-Y掃描器。?