[實用新型]一種二次元量測設備系統誤差補償裝置有效
| 申請號: | 201420101054.2 | 申請日: | 2014-03-07 |
| 公開(公告)號: | CN203772218U | 公開(公告)日: | 2014-08-13 |
| 發明(設計)人: | 鄭杰仁 | 申請(專利權)人: | 昆山萬像光電有限公司 |
| 主分類號: | G01B11/00 | 分類號: | G01B11/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215300 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 二次元 設備 系統誤差 補償 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及測量設備,尤其涉及一種二次元量測設備系統誤差補償裝置。
背景技術
目前,市面上龍門式二次元量測設備,特別是大行程龍門式二次元量測設備,由于設備結構和機械安裝等方面的原因,在運行測量過程中隨著測量距離的增長,會產生較大的阿貝誤差和機械誤差,其中比較有代表性的現象是沿主線軌方向工作平臺兩側的線性測量精度差別很明顯。現有的系統誤差補償裝置主要有面補正、快速面補正和光學尺線性補正。這三種補償裝置對中小行程的龍門式一種二次元量測設備系統誤差補償裝置效果比較好,對大行程龍門式二次元量測設備系統誤差補正,面補正限于工藝等因素實現難度較大、成本較高,快速面補正和光學尺線性補正因其補償裝置原理上的原因,補償裝置效果較差。因此,設計一種新型的龍門式一種二次元量測設備系統誤差補償裝置成為本領域技術人員亟待解決的問題。?
實用新型內容
本實用新型是為了解決上述不足,提供了一種二次元量測設備系統誤差補償裝置。
本實用新型解決其技術問題所采取技術方案是:一種二次元量測設備系統誤差補償裝置,是由主線軌、輔線軌、工作平臺、光柵尺、上橫梁、中橫梁、下橫梁、中豎梁、右豎梁、左豎梁和主梁組成。
所述的主梁為工作平臺上。
所述的主線軌和輔線軌位于主梁的兩端。
所述的光柵尺位于主梁的中間。
所述的上橫梁、中橫梁和下橫梁與主梁平行從上倒下依次排列。
所述的中豎梁、右豎梁和左豎梁與光柵尺平行從左到右依次排列。
該裝置采用快速面補正或光學尺線性補正生成的補償裝置檔,設計一種新的比例補償裝置方式,根據二次元量測設備行程的大小在其單軸方向(主梁方向和主線軌方向)橫向位置選取2、3個點,根據補償裝置后該點在對應軸向方向的線性測量精度,對其進行線性比例補償裝置,根據這些點的坐標和線性比例補償裝置系數,通過算法實現對整個工作平臺各個位置的比例補償裝置,實現對系統誤差的的二次補償裝置。
本實用新型有益效果是:本實用新型在采用現有技術生成的補償裝置檔的基礎上,使用比較簡單的方式采集現有補償裝置原理上不能同時兼顧位置的線性測量信息,實現對系統誤差的二次補償裝置,解決了傳統系統誤差補償裝置對大行程龍門式二次元量測設備補償裝置效果較差的問題。
附圖說明
圖1是本實用新型進行信息采集的位置選取示意圖。
其中,1—主線軌;2—輔線軌;3—工作平臺;4—光柵尺;5—上橫梁、6—中橫梁、7—下橫梁;8—中豎梁、9—右豎梁、10—左豎梁、11—主梁。
具體實施方式
下面結合附圖對本實用新型進一步詳述:
如圖1所示,一種二次元量測設備系統誤差補償裝置,
一種二次元量測設備系統誤差補償裝置,是由主線軌1、輔線軌2、工作平臺3、光柵尺4、上橫梁5、中橫梁6、下橫梁7、中豎梁8、右豎梁9、左豎梁10和主梁11組成。
所述的主梁11為工作平臺3上。
所述的主線軌1和輔線軌2位于主梁11的兩端。
所述的光柵尺4位于主梁11的中間。
所述的上橫梁5、中橫梁6和下橫梁7與主梁11平行從上倒下依次排列。
所述的中豎梁8、右豎梁9和左豎梁10與光柵尺4平行從左到右依次排列。
在采用現有技術生成的補償裝置檔的基礎上,采集上橫梁5、中橫梁6、下橫梁7位置的y軸坐標和中豎梁8、右豎梁9、左豎梁10位置的x軸坐標及各位置的線性比例補償裝置系數,通過算法實現對系統誤差的二次補償裝置。
如圖1所示,本實用新型的工作原理為:啟用通過快速面補正或光學尺線性補正生成的補償裝置檔,采集所用補償裝置方式不能同時兼顧位置的相關信息,包括x軸方向上中下位置的y軸方向坐標和各位置單獨進行線性比例補償裝置的補償裝置系數以及y軸方向左中右位置的x軸方向坐標和各位置單獨進行線性比例補償裝置的補償裝置系數,將所采集信息輸入通過算法生成的對系統誤差進行二次補償裝置的程式中,運行即可實現對系統誤差的二次補償裝置。
以上所述僅為本實用新型的實施例,并非因此限制本實用新型的專利范圍,凡是利用本實用新型說明書及附圖內容所作的等效結構或等效流程變換,或直接或間接運用在其他相關的技術領域,均同理包括在本實用新型的專利保護范圍內。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于昆山萬像光電有限公司,未經昆山萬像光電有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201420101054.2/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種共享錄制方法、裝置、服務器和機頂盒
- 下一篇:一種調節方法和電子設備





