[實(shí)用新型]一種低沸點(diǎn)介質(zhì)HFE-7100的儲(chǔ)液罐

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201420099103.3
• 申請(qǐng)日: 2014-03-06
• 公開（公告）號(hào): CN203837350U
• 公開（公告）日: 2014-09-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李強(qiáng);章磊
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 愛美達(dá)（上海）熱能系統(tǒng)有限公司;東莞愛美達(dá)電子有限公司
• 主分類號(hào): F25B43/00
• 分類號(hào): F25B43/00
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司 31213
• 代理人: 徐偉奇

技術(shù)領(lǐng)域

????本實(shí)用新型涉及一種儲(chǔ)物罐裝置，尤其涉及到一種用于消除低沸點(diǎn)介質(zhì)HFE-7100溫度分層和氣泡的儲(chǔ)物罐。

技術(shù)背景

在現(xiàn)有技術(shù)中，對(duì)于超高壓電行業(yè)，我們一般使用去離水來冷卻帶電功率元件，系統(tǒng)中的冷卻介質(zhì)處于一個(gè)帶壓密閉管路系統(tǒng)，加之去離子水沸點(diǎn)高達(dá)100攝氏度。現(xiàn)有技術(shù)中的儲(chǔ)液罐的設(shè)置并沒有考慮到因去離子水沸點(diǎn)低導(dǎo)致氣泡產(chǎn)生的問題。但是如果管路系統(tǒng)或接頭部分有任何泄漏產(chǎn)生，去離子水被污染后馬上就變成導(dǎo)電介質(zhì)，會(huì)燒毀整套并對(duì)人產(chǎn)生致命傷害。與此同時(shí)，在半導(dǎo)體行業(yè)，系統(tǒng)在帶走熱量的同時(shí)，也需要溶液來帶走器件表面的雜質(zhì)。因工藝需要，也需要它在常溫下極易揮發(fā)。

HFE-7100?(九氟丁基甲醚）是一種無色澄清，無色無味的液體物質(zhì)，其中甲氧基-九氟代丁烷（C4F9OCH3）含量為99.5％，非揮發(fā)組分小于2.0pmm，專門用以替代氟利昂等“臭氧層破壞性”物質(zhì)。HFE-7100在新型的氟氯化碳取代物產(chǎn)品家族中毒性最低，以8小時(shí)平均工作時(shí)間計(jì)，它的時(shí)間加權(quán)平均限制濃度750ppm。主要應(yīng)用于精密電子儀器、醫(yī)療設(shè)備的清洗保清洗劑、溶劑，用于取代CFC-113、三氯乙烷、四氯化碳等。根據(jù)以上需要，我們引入了非導(dǎo)電，易揮發(fā)，與大多數(shù)金屬及非金屬均不溶解的HFE-7100冷卻液，并且HFE-7100冷卻液具有良好的導(dǎo)熱性能。但問題是HFE-7100冷卻液在常溫下的沸點(diǎn)僅61度，而且能淬取橡膠中的膨脹劑，因而儲(chǔ)液罐的設(shè)計(jì)尤為重要不得不設(shè)計(jì)成開式系統(tǒng)。

低沸點(diǎn)介質(zhì)HFE-7100冷卻液在開式儲(chǔ)液罐中，由于冷卻介質(zhì)的流速過大會(huì)產(chǎn)生大量的氣泡。并且冷卻液的流動(dòng)方向單一，容易導(dǎo)致溫度分層。

發(fā)明內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供一種低沸點(diǎn)介質(zhì)HFE-7100的儲(chǔ)液罐。本實(shí)用新型的儲(chǔ)液罐要求結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、能夠克服儲(chǔ)液罐內(nèi)低沸點(diǎn)介質(zhì)溫度易分層問題，避免儲(chǔ)液罐內(nèi)氣泡的產(chǎn)生。

為了達(dá)到上述發(fā)明目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下：

一種低沸點(diǎn)介質(zhì)HFE-7100的儲(chǔ)液罐，該儲(chǔ)液罐包括有箱體，所述箱體的頂部安裝有回流套管，所述回流套管的上部位于所述箱體外并設(shè)有進(jìn)液口，所述回流套管底部安裝有均流板，所述回流套管內(nèi)部安裝有濾筒和分配器，所述的濾筒固定于分配器的下方并與所述分配器內(nèi)部連通，所述濾筒的筒壁上設(shè)有流水孔，所述分配器為管壁帶小孔的圓管，所述分配器的上下兩端均設(shè)有一圈連接回流套管的密封擋圈，所述進(jìn)液口位于所述分配器上下兩端的兩個(gè)密封擋圈之間，所述箱體的底部遠(yuǎn)離回流套管的一側(cè)設(shè)有出液口，所述出液口的上方安裝有破渦板，所述破渦板的上方安裝有漩渦抑制板，所述破渦板由兩個(gè)十字交叉的矩形板組成，所述的漩渦抑制板為一個(gè)圓形板，所述箱體的底部安裝有擋板，所述擋板位于所述出液口和所述回流套管之間。

在本實(shí)用新型的一種低沸點(diǎn)介質(zhì)HFE-7100的儲(chǔ)液罐中，所述儲(chǔ)液罐內(nèi)部裝有冷卻液，所述的冷卻液為低沸點(diǎn)介質(zhì)HFE-7100，所述冷卻液的高度大于均流板的高度。?

在本實(shí)用新型的一種低沸點(diǎn)介質(zhì)HFE-7100的儲(chǔ)液罐中，所述擋板高于所述回流套管底部的均流板。

在本實(shí)用新型的一種低沸點(diǎn)介質(zhì)HFE-7100的儲(chǔ)液罐中，所述流水孔位于濾筒的筒壁上，所述流水孔靠近濾筒底部位置均勻分布。??

基于上述技術(shù)方案本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比有如下優(yōu)點(diǎn)：

1.本實(shí)用新型一種低沸點(diǎn)介質(zhì)HFE-7100的儲(chǔ)液罐中，分配器的設(shè)置降低高速冷卻液的流速，能夠使流入箱體內(nèi)的冷卻液的流速均勻。

?2.本實(shí)用新型的一種低沸點(diǎn)介質(zhì)HFE-7100的儲(chǔ)液罐中，濾筒的設(shè)置可以對(duì)雜質(zhì)進(jìn)行過濾，并且對(duì)氣泡進(jìn)行攔截。?

3.本實(shí)用新型的一種低沸點(diǎn)介質(zhì)HFE-7100的儲(chǔ)液罐中，?擋板的設(shè)置使箱體內(nèi)的冷卻液溫度均衡，防止了低沸點(diǎn)冷卻介質(zhì)的揮發(fā)，防止箱體上部的冷卻液在密度作用下產(chǎn)生熱堆積，同時(shí)也能讓未被濾筒攔截的氣泡移除。

4.?本實(shí)用新型的一種低沸點(diǎn)介質(zhì)HFE-7100的儲(chǔ)液罐中，漩渦抑制板和破渦板的設(shè)置，減少了漩渦和氣泡的產(chǎn)生。

附圖說明

圖1是本實(shí)用新型一種低沸點(diǎn)介質(zhì)HFE-7100的儲(chǔ)液罐的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

????下面我們結(jié)合附圖和具體的實(shí)施事例來對(duì)本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)原理和具體應(yīng)用做進(jìn)一步的說明，但不能以此來限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。