[實用新型]屏蔽罩連續(xù)沖模通用模架

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201420098376.6
• 申請日: 2014-03-05
• 公開（公告）號: CN203725619U
• 公開（公告）日: 2014-07-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張福元;蔡金貴;郝湘;周志斌;張朝輝;林輝
• 申請（專利權(quán)）人: 艾柯豪博（蘇州）電子有限公司
• 主分類號: B21D37/10
• 分類號: B21D37/10
• 代理公司: 蘇州創(chuàng)元專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 32103
• 代理人: 范晴;夏振

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型屬于屏蔽罩加工技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種屏蔽罩連續(xù)沖模通用模架。

背景技術(shù)

屏蔽罩部件主要應(yīng)用于手機(jī)，GPS等電子領(lǐng)域，是防止電磁干擾（EMI）、對PCB板上的元件及LCM起屏蔽作用。屏蔽罩的材料一般采用0.2mm厚的不銹鋼和洋白銅為材料，其中洋白銅是一種容易上錫的金屬屏蔽材料。

以往在制作屏蔽罩樣品過程中，一般有兩種制作方法：第一種方法是將樣品的展開料片用蝕刻或者線割的方式加工，再用折彎模塊成型；第二種方法是針對每一款樣品設(shè)計一套模具，然后采用模具進(jìn)行加工。第一種方法樣品的質(zhì)量穩(wěn)定性差，良品率無法保證，生產(chǎn)效率低下，只適合數(shù)量很少的樣品，其優(yōu)勢在于成本低廉。第二種方法雖然既能保證樣品質(zhì)量，又能大量生產(chǎn)，但成本十分高昂，且改動性能差。本發(fā)明因此而來。

發(fā)明內(nèi)容

本實用新型目的在于提供一種屏蔽罩連續(xù)沖模通用模架，解決了現(xiàn)有技術(shù)中屏蔽罩加工時存在加工成本低廉但產(chǎn)品的良率太低，無法滿足客戶的需求；或者是產(chǎn)品加工成本太高，產(chǎn)品不容易進(jìn)行改動等技術(shù)問題。

為了解決現(xiàn)有技術(shù)中的這些問題，本實用新型提供的技術(shù)方案是：

一種屏蔽罩連續(xù)沖模通用模架，包括上模、中模和下模，其特征在于所述上模包括上模座、上模板、設(shè)置在上模座、上模板間的上模墊板，中模包括中模板、中模板上端的中模墊板；所述下模包括下模板，下模墊板和下模座；所述上模板、中模板和下模板上沿進(jìn)料方向均依次設(shè)置供連續(xù)沖模使用的若干個獨立的模板型腔。

優(yōu)選的技術(shù)方案是：一種屏蔽罩連續(xù)沖模通用模架，包括上模、中模和下模，其特征在于所述上模包括上模座、上模板、設(shè)置在上模座、上模板間的上模墊板，中模包括中模板、中模板上端的中模墊板；所述下模包括下模板，下模墊板和下模座；所述上模板、中模板和下模板上沿進(jìn)料方向均依次設(shè)置供連續(xù)沖模使用的若干個獨立的模板型腔；所述屏蔽罩連續(xù)沖模通用模架中相鄰模板型腔設(shè)置加強筋進(jìn)行分隔模板型腔。

優(yōu)選的技術(shù)方案是：一種屏蔽罩連續(xù)沖模通用模架，包括上模、中模和下模，其特征在于所述上模包括上模座、上模板、設(shè)置在上模座、上模板間的上模墊板，中模包括中模板、中模板上端的中模墊板；所述下模包括下模板，下模墊板和下模座；所述上模板、中模板和下模板上沿進(jìn)料方向均依次設(shè)置供連續(xù)沖模使用的若干個獨立的模板型腔；所述模板型腔外側(cè)的上模板上設(shè)置螺牙固定上模鑲件。

優(yōu)選的技術(shù)方案是：一種屏蔽罩連續(xù)沖模通用模架，包括上模、中模和下模，其特征在于所述上模包括上模座、上模板、設(shè)置在上模座、上模板間的上模墊板，中模包括中模板、中模板上端的中模墊板；所述下模包括下模板，下模墊板和下模座；所述上模板、中模板和下模板上沿進(jìn)料方向均依次設(shè)置供連續(xù)沖模使用的若干個獨立的模板型腔；所述模板型腔外側(cè)的中模板上設(shè)置掛臺槽固定中模鑲件。

優(yōu)選的技術(shù)方案是：一種屏蔽罩連續(xù)沖模通用模架，包括上模、中模和下模，其特征在于所述上模包括上模座、上模板、設(shè)置在上模座、上模板間的上模墊板，中模包括中模板、中模板上端的中模墊板；所述下模包括下模板，下模墊板和下模座；所述上模板、中模板和下模板上沿進(jìn)料方向均依次設(shè)置供連續(xù)沖模使用的若干個獨立的模板型腔；所述模板型腔外側(cè)的下模板上設(shè)置螺牙固定下模鑲件。

優(yōu)選的技術(shù)方案是：一種屏蔽罩連續(xù)沖模通用模架，包括上模、中模和下模，其特征在于所述上模包括上模座、上模板、設(shè)置在上模座、上模板間的上模墊板，中模包括中模板、中模板上端的中模墊板；所述下模包括下模板，下模墊板和下模座；所述上模板、中模板和下模板上沿進(jìn)料方向均依次設(shè)置供連續(xù)沖模使用的若干個獨立的模板型腔；所述中模板的模板型腔內(nèi)側(cè)設(shè)置裝配標(biāo)準(zhǔn)擋塊的第一缺口。

優(yōu)選的技術(shù)方案是：一種屏蔽罩連續(xù)沖模通用模架，包括上模、中模和下模，其特征在于所述上模包括上模座、上模板、設(shè)置在上模座、上模板間的上模墊板，中模包括中模板、中模板上端的中模墊板；所述下模包括下模板，下模墊板和下模座；所述上模板、中模板和下模板上沿進(jìn)料方向均依次設(shè)置供連續(xù)沖模使用的若干個獨立的模板型腔；所述下模板的若干個模板型腔內(nèi)側(cè)設(shè)置裝配標(biāo)準(zhǔn)擋塊的第二缺口。