[實用新型]一種局部對流加熱的電磁線盤及電磁烹飪器具有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201420096323.0 | 申請日： | 2014-03-04 |
| 公開（公告）號： | CN203827543U | 公開（公告）日： | 2014-09-10 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 朱澤春;田海峰;王濤;喬中義 | 申請（專利權(quán)）人： | 九陽股份有限公司 |
| 主分類號： | H05B6/40 | 分類號： | H05B6/40;H05B6/44;F24C7/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 250118 山*** | 國省代碼： | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 局部 對流 加熱 電磁線 電磁 烹飪 器具 | ||
1.一種局部對流加熱的電磁線盤，包括線盤支架、線圈盤和磁條，線圈盤包括繞裝在線盤支架上的內(nèi)環(huán)線圈和外環(huán)線圈，其特征在于，所述線圈盤還包括繞裝在外環(huán)線圈處的對流加熱線圈，對流加熱線圈與外環(huán)線圈之間層疊設(shè)置，并且對流加熱線圈按陣列間隔分布在內(nèi)環(huán)線圈外側(cè)，所述電磁線盤的額定功率為300W～3000W。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁線盤，其特征在于，所述對流加熱線圈位于外環(huán)線圈上方，或者外環(huán)線圈位于對流加熱線圈上方。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁線盤，其特征在于，所述對流加熱線圈在內(nèi)環(huán)線圈外側(cè)按圓周陣列且均勻間隔分布。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁線盤，其特征在于，所述線盤支架上設(shè)有繞裝對流加熱線圈的對流繞線架。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電磁線盤，其特征在于，所述繞線支架上還設(shè)有繞裝外環(huán)線圈的外環(huán)繞線架，對流繞線架與外環(huán)繞線架一體成型。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電磁線盤，其特征在于，所述對流繞線架的上部朝圓周方向設(shè)有限位凸起，限位凸起對對流加熱線圈進行限位。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁線盤，其特征在于，所述對流加熱線圈與外環(huán)線圈之間設(shè)有絕緣片。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任意一項所述的電磁線盤，其特征在于，所述對流加熱線圈的面積與其所對應(yīng)外環(huán)線圈的面積比為：0.4～0.85。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任意一項所述的電磁線盤，其特征在于，所述對流加熱線圈與外環(huán)線圈之間相互串聯(lián)。
10.一種局部對流加熱的電磁烹飪器具，包括器具本體和安裝在本體上的電磁線盤，其特征在于，所述電磁線盤為權(quán)利要求1至9中任意一項所述的電磁線盤。
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