[實用新型]一種降低原子熒光光譜儀光譜干擾的裝置有效
| 申請號: | 201420095767.2 | 申請日: | 2014-03-04 |
| 公開(公告)號: | CN203732448U | 公開(公告)日: | 2014-07-23 |
| 發明(設計)人: | 鄧麗娜 | 申請(專利權)人: | 北京銳光儀器有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/64 | 分類號: | G01N21/64 |
| 代理公司: | 北京眾合誠成知識產權代理有限公司 11246 | 代理人: | 龔燮英 |
| 地址: | 100015 北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 降低 原子 熒光 光譜儀 光譜 干擾 裝置 | ||
技術領域
?本實用新型涉及一種降低原子熒光光譜儀光譜干擾的裝置,屬于光譜干擾技術領域。
背景技術
原子熒光光譜分析是20世紀60年代中期提出并發展起來的光譜分析技術,是原子光譜法中的一個重要分支,它是原子吸收和原子發射光譜的綜合和發展,是一種優良的痕量分析技術。
現有的原子熒光光譜儀主要用于Hg、As、Se、Te、Bi、Sb、Sn或其它元素的ppt級檢測,其被廣泛應用于環境保護、臨床醫學、農業、地質冶金、制藥行業、石油化工等行業。原子熒光光譜法是利用原子熒光譜線的波長和強度進行物質的定性和定量分析方法,它的基本原理是原子蒸氣吸收特征波長的光輻射后,原子被激發至高能級,然后回到基態時發射出一定波長的原子熒光,再依據熒光的強度分析所測元素的含量。
現有技術中,待測元素的激發光源發射的特征譜線照射到原子化器的爐腔內壁,由于光的漫反射作用,會有一部分光反射到信號接收器,這部分光被稱為雜散光,雜散光的存在會造成原子熒光光譜儀的本底高,由于接收到的熒光信號不穩定,會導致光電檢測器接收的熒光信號并非全部是某種元素原子蒸氣吸收其特征波長的光輻射后產生的原子熒光,存在著其它波長的光譜干擾,造成分析結果誤差。
實用新型內容
本實用新型提供了一種降低原子熒光光譜儀光譜干擾的裝置,以解決現有的原子熒光光譜儀存在雜散光造成原子熒光光譜儀的本底高,并導致光電檢測器接收的熒光信號存在其它波長的光譜干擾,造成分析結果誤差的問題,為此本實用新型采用如下的技術方案:
一種降低原子熒光光譜儀光譜干擾的裝置,包括激發光源、原子化器、光電檢測器、第一光學設備、濾光片和第二光學設備,其中,激發光源通過第一光學設備照射到原子化器中,原子化器得到的熒光信號依次通過第二光學設備和濾光片照射到光電檢測器,或者,原子化器得到的熒光信號依次通過濾光片和第二光學設備照射到光電檢測器。
本實用新型實施方式提供的降低原子熒光光譜儀光譜干擾的裝置結構簡單,通過濾光片接收特定波長的譜線提供給光電檢測器檢測,減少了進入光電檢測器的光譜干擾,降低了原子熒光光譜儀的本底,提供了熒光信號的穩定性,減少了光電檢測器的分析結果誤差。
附圖說明
????為了更清楚地說明本實用新型實施例的技術方案,下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例,對于本領域普通技術人員來講,在不付出創造性勞動性的前提下,還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
圖1是本實用新型所述的一種降低原子熒光光譜儀光譜干擾的裝置的第一結構示意圖;
圖2是本實用新型所述的一種降低原子熒光光譜儀光譜干擾的裝置的第二結構示意圖。
具體實施方式
下面將結合本實用新型實施例中的附圖,對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例,而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例,本領域普通技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本實用新型保護的范圍。
在本實用新型實施方式提供的一種降低原子熒光光譜儀光譜干擾的裝置,如圖1的第一結構示意圖所示,包括激發光源1、原子化器2、光電檢測器3、第一光學設備4、濾光片5和第二光學設備6,其中,激發光源1通過第一光學設備4照射到原子化器2中,原子化器2得到的熒光信號依次通過第二光學設備6和濾光片5照射到光電檢測器3。
具體地,濾光片5可以包括至少一個帶通濾波片或至少一個多帶通濾波片,激發光源1和第一光學設備4配合使用,所述裝置中至少包括一組所述激發光源1和第一光學設備4。其中,第一光學設備4和第二光學設備6是用于聚焦的光學設備,例如聚焦器等。
具體地,通過第一結構示意圖中的降低原子熒光光譜儀光譜干擾的裝置的工作方式為:將待測元素的激發光源1發射的特征譜線通過第一光學設備4聚焦后,照射到原子化器2中,以激發原子化器2氬氫焰中的待測原子,作為可選的,可以通過濾光片組旋轉到原子化器相應光路的位置(帶通濾光片位置不動)得到熒光信號,將得到熒光信號依次通過第二光學設備6進行聚焦以及濾光片5進行濾光后照射到光電檢測器3進行檢測。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于北京銳光儀器有限公司,未經北京銳光儀器有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201420095767.2/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





