[實用新型]盤片驅動裝置用的主軸馬達以及盤片驅動裝置有效
| 申請號: | 201420093590.2 | 申請日: | 2014-03-03 |
| 公開(公告)號: | CN203813556U | 公開(公告)日: | 2014-09-03 |
| 發明(設計)人: | 滝政信;小林裕;米田朋広 | 申請(專利權)人: | 日本電產株式會社 |
| 主分類號: | H02K3/50 | 分類號: | H02K3/50;H02K15/02;G11B19/20 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 沈捷 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 盤片 驅動 裝置 主軸 馬達 以及 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種盤片驅動裝置用的主軸馬達以及盤片驅動裝置。
背景技術
以往在硬盤驅動裝置等盤片驅動裝置中裝設主軸馬達(以下簡稱“馬達”)。在日本公開專利公報2012-74114號所公開的盤片驅動裝置中,圍繞中心軸線沿徑向擴展的基底部具有多個貫通孔。從馬達的U相繞組、V相繞組以及W相繞組引出U相公共線、V相公共線以及W相公共線。各相公共線中的每一根分別通過各貫通孔被引到基底部的下側,從而與電路板電連接。貫通孔由密封材料密封。由此,防止氣體通過貫通孔進出。
然而,為了提高盤片驅動裝置的氣密性而優選設置于基底部的貫通孔的個數少。但是,在日本公開專利公報2012-74114號公報的盤片驅動裝置中,需要與三根公共線對應的三個貫通孔。另一方面,在將三根公共線匯集成絞合線穿過一個貫通孔的情況下,會在絞合線的線之間存在微小的間隙。在該間隙中填充密封材料并不容易,導致盤片驅動裝置的氣密性降低。并且,在將絞合線穿過貫通孔的情況下,需要擴大該貫通孔的直徑。在設置直徑較大的貫通孔的盤片驅動裝置中,氣密性容易下降。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提高盤片驅動裝置的氣密性。并且,本實用新型的目的還在于容易調整將公共線彼此結合的結合部的長度。
本實用新型所例示的一實施方式所涉及的盤片驅動裝置用的主軸馬達包括旋轉部、靜止部以及軸承機構。旋轉部包括轉子磁鐵,且以朝向上下方向的中心軸線為中心旋轉。軸承機構將旋轉部支承為能夠相對于靜止部旋轉。靜止部包括基底部和定子。基底部為朝向垂直于上下方向的方向擴展的板狀,且具有在上下方向上貫通的多個基底貫通孔。定子配置于基底部的上側,且具有定子鐵芯和多個線圈。定子鐵芯具有前端與轉子磁鐵對置的多根齒。多個線圈設置于多根齒。多個線圈包含三個繞組。各繞組包含由一根導線形成的一個以上的線圈。在基底部的上側,通過設置結合部而使三根公共線形成為一根或兩根公共線素,所述結合部將三個繞組中的作為導線一端部的三根公共線中的至少兩根公共線彼此結合而形成為一根公共線素。一根或兩根公共線素以及三個繞組中的作為導線的另一端部的三根引出線素中各線素經由單獨的基底貫通孔到達基底部的下側。單獨的基底貫通孔在其內周與各線素的表面全周之間具有存在密封材料的全周密封部。
本實用新型所例示的一實施方式所涉及的盤片驅動裝置用的主軸馬達能夠提高盤片驅動裝置的氣密性。本實用新型所例示的一實施方式所涉及的定子的制造方法能夠容易地調整結合部的長度。
參照附圖,通過以下的本實用新型優選實施方式的詳細說明,可以更清楚地理解本實用新型的上述及其他特征、要素、步驟、特點和優點。
附圖說明
圖1為盤片驅動裝置的縱向剖視圖。
圖2為馬達的縱向剖視圖。
圖3為定子的仰視圖。
圖4為將線圈以及齒橫向排列表示的圖。
圖5為靜止部的仰視圖。
圖6為表示定子制造處理流程的圖。
圖7為用于說明多個線圈的形成的圖。
圖8為用于說明結合部的形成的圖。
圖9為用于說明結合部的形成的圖。
圖10為用于說明結合部的形成的圖。
圖11用于說明結合部的形成的圖。
具體實施方式
在本說明書中,將馬達中心軸線方向上的圖1的上側簡稱為“上側”,將馬達中心軸線方向上的圖1的下側簡稱為“下側”。另外,上下方向不表示在組裝到實際設備時的位置關系和方向。并且,將與中心軸線平行的方向稱為“軸向”,將以中心軸線為中心的徑向簡稱為“徑向”,將以中心軸線為中心的周向簡稱為“周向”。
圖1為包括本實用新型所例示的一實施方式所涉及的主軸馬達12(以下簡稱“馬達”)的盤片驅動裝置1的縱向剖視圖。盤片驅動裝置1例如為硬盤驅動裝置。盤片驅動裝置1例如包括:兩枚盤片11、馬達12、存取部13、機殼14、夾緊裝置151。馬達12使記錄信息的盤片11旋轉。存取部13對兩枚盤片11進行信息讀取與寫入中的至少一方。
機殼14包括第一機殼部件141和板狀的第二機殼部件142。在第一機殼部件141的內側容納有盤片11、馬達12、存取部13以及夾緊裝置151。第二機殼部件142被嵌入第一機殼部件141,從而構成機殼14。優選盤片驅動裝置1的內部空間為塵土極少的潔凈空間。盤片驅動裝置1內填充有空氣。另外,既可填充氦氣或氫氣,也可填充氦氣或氫氣與空氣的混合氣體。
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