[實(shí)用新型]盤(pán)片驅(qū)動(dòng)裝置用的主軸馬達(dá)以及盤(pán)片驅(qū)動(dòng)裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201420093590.2 | 申請(qǐng)日: | 2014-03-03 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN203813556U | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-09-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 滝政信;小林裕;米田朋広 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 日本電產(chǎn)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H02K3/50 | 分類號(hào): | H02K3/50;H02K15/02;G11B19/20 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 沈捷 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 盤(pán)片 驅(qū)動(dòng) 裝置 主軸 馬達(dá) 以及 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種盤(pán)片驅(qū)動(dòng)裝置用的主軸馬達(dá)以及盤(pán)片驅(qū)動(dòng)裝置。
背景技術(shù)
以往在硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)裝置等盤(pán)片驅(qū)動(dòng)裝置中裝設(shè)主軸馬達(dá)(以下簡(jiǎn)稱“馬達(dá)”)。在日本公開(kāi)專利公報(bào)2012-74114號(hào)所公開(kāi)的盤(pán)片驅(qū)動(dòng)裝置中,圍繞中心軸線沿徑向擴(kuò)展的基底部具有多個(gè)貫通孔。從馬達(dá)的U相繞組、V相繞組以及W相繞組引出U相公共線、V相公共線以及W相公共線。各相公共線中的每一根分別通過(guò)各貫通孔被引到基底部的下側(cè),從而與電路板電連接。貫通孔由密封材料密封。由此,防止氣體通過(guò)貫通孔進(jìn)出。
然而,為了提高盤(pán)片驅(qū)動(dòng)裝置的氣密性而優(yōu)選設(shè)置于基底部的貫通孔的個(gè)數(shù)少。但是,在日本公開(kāi)專利公報(bào)2012-74114號(hào)公報(bào)的盤(pán)片驅(qū)動(dòng)裝置中,需要與三根公共線對(duì)應(yīng)的三個(gè)貫通孔。另一方面,在將三根公共線匯集成絞合線穿過(guò)一個(gè)貫通孔的情況下,會(huì)在絞合線的線之間存在微小的間隙。在該間隙中填充密封材料并不容易,導(dǎo)致盤(pán)片驅(qū)動(dòng)裝置的氣密性降低。并且,在將絞合線穿過(guò)貫通孔的情況下,需要擴(kuò)大該貫通孔的直徑。在設(shè)置直徑較大的貫通孔的盤(pán)片驅(qū)動(dòng)裝置中,氣密性容易下降。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于提高盤(pán)片驅(qū)動(dòng)裝置的氣密性。并且,本實(shí)用新型的目的還在于容易調(diào)整將公共線彼此結(jié)合的結(jié)合部的長(zhǎng)度。
本實(shí)用新型所例示的一實(shí)施方式所涉及的盤(pán)片驅(qū)動(dòng)裝置用的主軸馬達(dá)包括旋轉(zhuǎn)部、靜止部以及軸承機(jī)構(gòu)。旋轉(zhuǎn)部包括轉(zhuǎn)子磁鐵,且以朝向上下方向的中心軸線為中心旋轉(zhuǎn)。軸承機(jī)構(gòu)將旋轉(zhuǎn)部支承為能夠相對(duì)于靜止部旋轉(zhuǎn)。靜止部包括基底部和定子。基底部為朝向垂直于上下方向的方向擴(kuò)展的板狀,且具有在上下方向上貫通的多個(gè)基底貫通孔。定子配置于基底部的上側(cè),且具有定子鐵芯和多個(gè)線圈。定子鐵芯具有前端與轉(zhuǎn)子磁鐵對(duì)置的多根齒。多個(gè)線圈設(shè)置于多根齒。多個(gè)線圈包含三個(gè)繞組。各繞組包含由一根導(dǎo)線形成的一個(gè)以上的線圈。在基底部的上側(cè),通過(guò)設(shè)置結(jié)合部而使三根公共線形成為一根或兩根公共線素,所述結(jié)合部將三個(gè)繞組中的作為導(dǎo)線一端部的三根公共線中的至少兩根公共線彼此結(jié)合而形成為一根公共線素。一根或兩根公共線素以及三個(gè)繞組中的作為導(dǎo)線的另一端部的三根引出線素中各線素經(jīng)由單獨(dú)的基底貫通孔到達(dá)基底部的下側(cè)。單獨(dú)的基底貫通孔在其內(nèi)周與各線素的表面全周之間具有存在密封材料的全周密封部。
本實(shí)用新型所例示的一實(shí)施方式所涉及的盤(pán)片驅(qū)動(dòng)裝置用的主軸馬達(dá)能夠提高盤(pán)片驅(qū)動(dòng)裝置的氣密性。本實(shí)用新型所例示的一實(shí)施方式所涉及的定子的制造方法能夠容易地調(diào)整結(jié)合部的長(zhǎng)度。
參照附圖,通過(guò)以下的本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施方式的詳細(xì)說(shuō)明,可以更清楚地理解本實(shí)用新型的上述及其他特征、要素、步驟、特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)。
附圖說(shuō)明
圖1為盤(pán)片驅(qū)動(dòng)裝置的縱向剖視圖。
圖2為馬達(dá)的縱向剖視圖。
圖3為定子的仰視圖。
圖4為將線圈以及齒橫向排列表示的圖。
圖5為靜止部的仰視圖。
圖6為表示定子制造處理流程的圖。
圖7為用于說(shuō)明多個(gè)線圈的形成的圖。
圖8為用于說(shuō)明結(jié)合部的形成的圖。
圖9為用于說(shuō)明結(jié)合部的形成的圖。
圖10為用于說(shuō)明結(jié)合部的形成的圖。
圖11用于說(shuō)明結(jié)合部的形成的圖。
具體實(shí)施方式
在本說(shuō)明書(shū)中,將馬達(dá)中心軸線方向上的圖1的上側(cè)簡(jiǎn)稱為“上側(cè)”,將馬達(dá)中心軸線方向上的圖1的下側(cè)簡(jiǎn)稱為“下側(cè)”。另外,上下方向不表示在組裝到實(shí)際設(shè)備時(shí)的位置關(guān)系和方向。并且,將與中心軸線平行的方向稱為“軸向”,將以中心軸線為中心的徑向簡(jiǎn)稱為“徑向”,將以中心軸線為中心的周向簡(jiǎn)稱為“周向”。
圖1為包括本實(shí)用新型所例示的一實(shí)施方式所涉及的主軸馬達(dá)12(以下簡(jiǎn)稱“馬達(dá)”)的盤(pán)片驅(qū)動(dòng)裝置1的縱向剖視圖。盤(pán)片驅(qū)動(dòng)裝置1例如為硬盤(pán)驅(qū)動(dòng)裝置。盤(pán)片驅(qū)動(dòng)裝置1例如包括:兩枚盤(pán)片11、馬達(dá)12、存取部13、機(jī)殼14、夾緊裝置151。馬達(dá)12使記錄信息的盤(pán)片11旋轉(zhuǎn)。存取部13對(duì)兩枚盤(pán)片11進(jìn)行信息讀取與寫(xiě)入中的至少一方。
機(jī)殼14包括第一機(jī)殼部件141和板狀的第二機(jī)殼部件142。在第一機(jī)殼部件141的內(nèi)側(cè)容納有盤(pán)片11、馬達(dá)12、存取部13以及夾緊裝置151。第二機(jī)殼部件142被嵌入第一機(jī)殼部件141,從而構(gòu)成機(jī)殼14。優(yōu)選盤(pán)片驅(qū)動(dòng)裝置1的內(nèi)部空間為塵土極少的潔凈空間。盤(pán)片驅(qū)動(dòng)裝置1內(nèi)填充有空氣。另外,既可填充氦氣或氫氣,也可填充氦氣或氫氣與空氣的混合氣體。
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