[實(shí)用新型]一種卷繞鍍膜設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201420083650.2
• 申請(qǐng)日: 2014-02-26
• 公開（公告）號(hào): CN203700511U
• 公開（公告）日: 2014-07-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李晨光
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 南昌歐菲光科技有限公司;深圳歐菲光科技股份有限公司;蘇州歐菲光科技有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/56
• 分類號(hào): C23C14/56
• 代理公司: 隆天國(guó)際知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003
• 代理人: 李昕巍;呂俊清

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種卷繞鍍膜設(shè)備，尤其涉及可對(duì)基材進(jìn)行標(biāo)記的鍍膜設(shè)備。

背景技術(shù)

卷繞鍍膜機(jī)主要用于在柔性基體表面鍍制膜層，使得膜層具有功能性和/或裝飾性。

功能性是指在柔性基材表面鍍制半導(dǎo)體膜、金屬膜、絕緣膜、光學(xué)多層膜等薄膜，不僅可以提高其表面硬度，力學(xué)強(qiáng)度和耐水性能，還能增加耐油性和耐溶劑性，提高老化性，使其具有導(dǎo)電性，反射性，吸收性，絕緣性，阻隔性及防止靜電性，例如：用于制造觸摸屏，電容器等。

圖1為目前一種卷繞鍍膜機(jī)示意圖，其包括放卷機(jī)構(gòu)1、收卷機(jī)構(gòu)2、真空鍍膜室3、鍍膜鼓4及多個(gè)腔室隔板5，鍍膜鼓4位于真空鍍膜室3內(nèi)，用于卷繞基材S，基材S由放卷機(jī)構(gòu)1進(jìn)入真空鍍膜室3進(jìn)行鍍膜后送至收卷機(jī)構(gòu)2。其中，多個(gè)腔室隔板5位于真空鍍膜室3，自真空鍍膜室3的內(nèi)壁向鍍膜鼓4延伸，將真空鍍膜室3分割成多個(gè)鍍膜腔室。不同鍍膜腔室內(nèi)放置不同靶材。例如，在ITO?film鍍膜過程中，不同腔室內(nèi)放置如：硅靶材，氧化鈮靶材，ITO靶材，TiO2靶材等。鍍膜過程中，由于不同膜層的參數(shù)改變，如改變氣體氛圍（氬氣，氧氣，氮?dú)獾龋?，靶材功率等，需?duì)膜層做標(biāo)記，以區(qū)分前后不同參數(shù)所鍍制的膜層?，F(xiàn)有的方式為硅靶失氧法。采用該種方式做標(biāo)記時(shí)，將硅靶所在的鍍膜腔室內(nèi)的氧氣流量手動(dòng)調(diào)整為零，功率加大，在基材S表面沉積暗黑色的膜層，以區(qū)分前后不同參數(shù)所鍍制的膜層；待參數(shù)改變完后，硅靶氧氣恢復(fù)至正常，此時(shí)硅靶不能瞬時(shí)調(diào)整為正常功率，恢復(fù)時(shí)間一般為30s-60s之間。然而在這段時(shí)間內(nèi)基材仍在被卷動(dòng)，造成較長(zhǎng)一段基材上形成非正常的膜層而不可用。因此，采用上述方式做標(biāo)記基材浪費(fèi)嚴(yán)重，鍍膜速度越快，浪費(fèi)材料越嚴(yán)重，同時(shí)也降低了產(chǎn)品的良率和鍍膜效率。

實(shí)用新型內(nèi)容

基于上述問題，本實(shí)用新型提供了一種卷繞鍍膜設(shè)備，以避免基材浪費(fèi)，提高鍍膜質(zhì)量和鍍膜效率。

為達(dá)成上述目的，本實(shí)用新型提供一種卷繞鍍膜設(shè)備，包括：真空鍍膜室；鍍膜鼓，其位于真空鍍膜室內(nèi)，用于卷繞基材；及多個(gè)腔室隔板，其與真空鍍膜室的內(nèi)壁連接，并自真空鍍膜室的內(nèi)壁向鍍膜鼓延伸，將真空鍍膜室分割成多個(gè)鍍膜腔室，其特征在于，鍍膜設(shè)備還包括標(biāo)記機(jī)構(gòu)，標(biāo)記機(jī)構(gòu)包括：多個(gè)安裝部，與各腔室隔板的鄰近鍍膜鼓的一端連接，且與鍍膜鼓的外壁之間存在間隙；及打標(biāo)部，設(shè)置在各個(gè)安裝部，用于在所對(duì)應(yīng)的鍍膜鼓上的基材形成標(biāo)記。

根據(jù)上述實(shí)施方式，標(biāo)記機(jī)構(gòu)還包括連接部，其將安裝部連接于腔室隔板。

根據(jù)上述實(shí)施方式，安裝部通過連接部高度可調(diào)節(jié)的連接于腔室隔板，使得安裝部與鍍膜鼓的外壁之間的間隙距離能夠調(diào)節(jié)。

根據(jù)上述實(shí)施方式，連接部包括一對(duì)連接板，每一連接板包括一第一連接件和自第一連接件的側(cè)緣垂直延伸的第二連接件，該對(duì)連接板的第二連接件平行對(duì)置，且第二連接件之間形成一安裝狹槽，安裝狹槽的寬度等于腔室隔板的厚度，腔室隔板插入該安裝狹槽并固定于第二連接件，且腔室隔板插入該安裝狹槽的深度能夠調(diào)節(jié)，使得安裝部與鍍膜鼓的外壁之間的間隙距離能夠調(diào)節(jié)。

根據(jù)上述實(shí)施方式，安裝部的鄰近鍍膜鼓的表面具有弧度。

根據(jù)上述實(shí)施方式，安裝部的該表面的曲率與鍍膜鼓的曲率相同。

根據(jù)上述實(shí)施方式，安裝部與鍍膜鼓的外壁之間的間隙為1-2mm。

根據(jù)上述實(shí)施方式，安裝部上設(shè)有安裝孔，打標(biāo)部嵌設(shè)于安裝孔內(nèi)。

根據(jù)上述實(shí)施方式，安裝部上設(shè)有至少兩個(gè)安裝孔，所述安裝孔的連線與鍍膜鼓的軸線平行，鄰近安裝部?jī)啥说陌惭b孔之間的距離小于基材的寬幅。

根據(jù)上述實(shí)施方式，安裝孔在安裝部上的位置與腔室隔板對(duì)齊。

根據(jù)上述實(shí)施方式，打標(biāo)部為激光器，打標(biāo)部發(fā)出的激光束垂直于所對(duì)應(yīng)的鍍膜鼓的切面。

根據(jù)上述實(shí)施方式，激光器為半導(dǎo)體激光器，選用功率小于5w脈沖式激光器。

本實(shí)用新型相較于現(xiàn)有技術(shù)的有益效果在于：本實(shí)用新型通過在腔室隔板上設(shè)置標(biāo)記機(jī)構(gòu)，在基材上進(jìn)行打標(biāo)，以區(qū)分鍍膜工藝中不同參數(shù)所鍍制的膜層。與傳統(tǒng)的硅靶失氧法相比，本實(shí)用新型無需調(diào)節(jié)腔室內(nèi)靶材參數(shù)，可快速對(duì)基材做標(biāo)記，從而提高鍍膜效率、產(chǎn)品的良率。并且，由于打標(biāo)部安裝在腔室隔板上，相比于傳統(tǒng)的硅靶失氧法在腔室內(nèi)對(duì)基材做標(biāo)記，本實(shí)用新型可大幅減少基材的浪費(fèi)。

附圖說明

圖1為現(xiàn)有的卷繞鍍膜機(jī)的示意圖。

圖2為本實(shí)用新型的卷繞鍍膜設(shè)備的示意圖。

圖3為圖2中III部分的局部放大圖。

圖4為卷繞鍍膜設(shè)備的標(biāo)記機(jī)構(gòu)的示意圖。