[實用新型]一種可調恒流源集成芯片有效
| 申請號: | 201420081395.8 | 申請日: | 2014-02-26 |
| 公開(公告)號: | CN203733798U | 公開(公告)日: | 2014-07-23 |
| 發明(設計)人: | 陳曉倫;葉新民;李建立;馮東明;王新潮 | 申請(專利權)人: | 江陰新順微電子有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/06 | 分類號: | H01L27/06;G05F1/56 |
| 代理公司: | 江陰市同盛專利事務所(普通合伙) 32210 | 代理人: | 唐紉蘭;曾丹 |
| 地址: | 214434 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 可調 恒流源 集成 芯片 | ||
1.一種可調恒流源集成芯片,其特征在于它包括作為N-?摻雜區(1)的單晶硅N-型拋光片,在所述N-?摻雜區(1)的背面設置有N+重摻雜區(2),在所述N-?摻雜區(1)的正面設置有三極管Q2的第一P-摻雜區(3)與恒流二極管CRD的?第二P-摻雜區(4),在所述第一P-摻雜區(3)上摻雜形成第一N摻雜區(5),在所述第二P-摻雜區(4)上摻雜形成述第二N摻雜區(6),在所述第一N摻雜區(5)上形成第一P摻雜區(7),在第一P-摻雜區(3)上形成第二P摻雜區(8),在所述第二P-摻雜區(4)上形成第三P摻雜區(9)和第四P摻雜區(10),在硅襯底的N-摻雜區(1)上分別形成三極管(Q1)的第五P摻雜區(11)與電阻R的第六P摻雜區(12),在所述第一P摻雜區(7)上形成第一N+摻雜區(13);在硅襯底的N-摻雜區(1)上形成第二N+摻雜區(14);在第五P摻雜區(11)上形成第三N+摻雜區(15);在電阻R的第六P摻雜區(12)上形成第四N+摻雜區(16),所述電阻R的第四N+摻雜區(16)的一端與第一N+摻雜區(13)相連,同時作為恒流源集成芯片的陰極;所述第四N+摻雜區(16)的另一端分別與第三N+摻雜區(15)、第一P摻雜區(7)相連;所述第五P摻雜區(11)分別與第四P摻雜區(1210)、第二P摻雜區(8)、第一N摻雜區(5)相連;所述第二N摻雜區(6)分別與第三P摻雜區(9)、第二N+摻雜區(14)相連;所述N+?重摻雜區(2)作為恒流源集成芯片的陽極。
2.??根據權利要求1所述的一種可調恒流源集成芯片,其特征在于對摻雜區摻雜類型N、P型進行互換,即N型變為P型,P型變為N型,所述硅襯底的正面為陽極,背面為陰極。
3.??根據權利要求1或2所述的一種可調恒流源集成芯片,其特征在于在所述電阻R正面的SiO2薄膜氧化層上設置有一多晶硅條(17),使得多晶硅條形成電阻R。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





