[實用新型]一種足浴盆

有效

• 申請號: 201420067553.4
• 申請日: 2014-02-14
• 公開（公告）號: CN204049431U
• 公開（公告）日: 2014-12-31
• 發明（設計）人: 張應剛
• 申請（專利權）人: 張應剛
• 主分類號: A47K3/022
• 分類號: A47K3/022
• 代理公司: 大連東方專利代理有限責任公司 21212
• 代理人: 曲永祚;李洪福

1.一種足浴盆，包括盆體(1)和設置于盆體(1)中的足浴區(2)、蓄水區(3)，其特征在于：所述足浴區(2)和蓄水區(3)在盆體(1)中上下設置，足浴區(2)在上，蓄水區(3)在下，兩者通過活動檔板(5)相隔離，檔板(5)上設置至少一個閥門(4)，閥門(4)使足浴區(2)與蓄水區(3)可控性連通。?

2.一種足浴盆，包括盆體(1)和設置于盆體(1)中的足浴區(2)、蓄水區(3)，其特征在于：所述盆體(1)至少在盆壁(11)上有部分為雙層結構，該雙層結構間的空腔形成蓄水區(3)，所述蓄水區(3)設有口Ⅰ(31)和口Ⅱ(32)，口Ⅰ(31)用于蓄水區(3)內水的注入和排出，口Ⅱ(32)上設有閥門(4)，閥門(4)使足浴區(2)與蓄水區(3)可控性連通。?

3.根據權利要求2所述的足浴盆，其特征在于：所述盆體(1)的盆壁(11)和盆底(12)均為雙層結構，且所有雙層結構間的空腔形成一個整體的蓄水區(3)，蓄水區(3)上的口Ⅰ(31)設置于雙層結構盆壁(11)所形成空腔的頂部，口Ⅱ(32)設置于雙層結構盆底(12)的內層(121)上。?

4.根據權利要求3所述的足浴盆，其特征在于：至少在盆體(1)的前半部，盆壁(11)雙層結構的上部厚度為8-15cm，下部厚度為1-2cm，上下部分在盆壁(11)的內層(111)上形成弧形的平滑過渡。?

5.根據權利要求4所述的足浴盆，其特征在于：所述盆底(12)的內層(121)與整個盆體(1)為組合式設置，通過螺釘或熱壓的方式固定在盆底(12)上。?

6.根據權利要求5所述的足浴盆，其特征在于：所述盆底(12)的內層(121)上設置有至少一個閥門(4)，該閥門(4)與閥門按鈕(41)、閥門連桿(42)及彈性構件(6)組成彈壓式閥門裝置(7)。?

7.根據權利要求6所述的足浴盆，其特征在于：所述閥門按鈕(41)上連接有一足心按摩器(8)。?

8.根據權利要求2至7中任何一項所述的足浴盆，其特征在于：所述盆底(12)的內層(121)和外層(122)之間設置有龍骨(123)。?

9.根據權利要求8所述的足浴盆，其特征在于：所述盆底(12)的內層(121)上左右對稱設置有兩個足底按摩器(9)。?