[實用新型]濃度調整裝置

有效

• 申請號: 201420066506.8
• 申請日: 2014-02-14
• 公開（公告）號: CN204079458U
• 公開（公告）日: 2015-01-07
• 發明（設計）人: 芝田祥司;神丸剛;藤井裕己
• 申請（專利權）人: 日東電工株式會社
• 主分類號: B67D7/02
• 分類號: B67D7/02;B67D7/06
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 沈雪

技術領域

本實用新型涉及一種濃度調整裝置，其可以調整偏光片制造工序中處理液的濃度。?

背景技術

偏光片被廣泛用于液晶顯示裝置等的生產中，要求其具有高透射率、高偏光度和均勻性。其中，偏光度為干燥后的偏光片以與拉伸方向垂直的方式重疊時的可見光阻斷率，其表示偏光片的性能，其越接近100，偏光片的性能越高。?

以往，在制造偏光片時，需配制各處理液，并將制得的處理液投入處理浴中后，在處理浴中對作為原料膜的聚乙烯醇膜(PVA膜)進行膨潤處理、染色處理、交聯處理、拉伸處理等處理，進行偏光片的生產，例如專利文獻1～3中公開的方法。在生產結束后，將處理液廢棄。?

但是，隨著上述處理的進行，處理液的濃度逐漸降低，會對偏光片的制品性能產生影響，使偏光片的制品性能在生產開始時和生產結束時存在差異。如圖7所示，染色浴的碘濃度會影響偏光片的單體透射率。具體而言，如果染色浴的碘濃度降低，偏光片的單體透射率有增高的傾向，如果碘濃度升高，則偏光片的單體透射率有降低的傾向。偏光片的單體透射率影響偏光度，單體透射率越低，顯示出越高的偏光度。?

而且，如圖8所示，現有的染色浴的碘濃度隨著偏光片生產時間(原料膜染色工序的通過時間)的延長而降低，與此同時，偏光片的單體透射率也顯示出上升的傾向。?

另外，如圖9所示，拉伸浴的硼酸濃度會影響原料膜的生產性。具體而言，如果拉伸浴的硼酸濃度低于3wt％，原料膜無法耐受拉伸浴的液溫(約60℃)，發生溶解、斷裂。如果拉伸浴的硼酸濃度上升至5wt％以上，則由于原料膜內硼酸的交聯度增高，原料膜變硬，原料膜無法耐受拉伸而發生斷裂。?

如圖10所示，現有的拉伸浴的硼酸濃度隨著偏光片生產時間(經染色處理后的原料膜在拉伸工序的通過時間)的延長而降低，與此同時，偏光片的單體透射率有上升的傾向。?

因此，為了保持高透射率和高偏光度、形成均勻的偏光片，處理浴需要保持適當的碘濃度和硼酸濃度。?

現有技術文獻?

專利文獻?

專利文獻1：日本特開2005-114990號公報?

專利文獻2：日本特開2007-226035號公報?

專利文獻3：日本特開2006-267153號公報?

實用新型的內容?

實用新型所要解決的技術問題?

本實用新型就是鑒于上述問題而進行的，其課題在于提供一種濃度調整裝置，其將處理液從制造偏光片用的處理浴輸送至混合槽，在混合槽中，邊由自動供給裝置供給原料粉末或原料溶液邊進行攪拌、溶解，然后將經過調整的處理液送回至處理浴。?

解決技術問題的方案?

本實用新型通過以下技術方案解決上述技術問題。?

(1)一種濃度調整裝置，其特征在于，設有：自動供給裝置、混合槽、以及)處理浴，?

所述處理浴中的處理液被輸送至混合槽，并通過自動供給裝置向混合槽中供給原料，使其與混合槽中的處理液混合，并將經過調整的處理液送回至處理浴。?

(2)根據(1)所述的濃度調整裝置，其特征在于，混合槽和處理浴之間還設有過濾器。?

(3)根據(1)或(2)所述的濃度調整裝置，其特征在于，所述自動供給裝置為粉體自動供給裝置，其具有貯存槽和粉體定量供給機。?

(4)根據(1)或(2)所述的濃度調整裝置，其特征在于，所述自動供?給裝置為液體自動供給裝置，其具有貯存槽和定量供給泵。?

(5)根據(1)或(2)所述的濃度調整裝置，其特征在于，所述原料為硼酸粉末或碘液。?

(6)根據(1)或(2)所述的濃度調整裝置，其特征在于，所述處理浴中的處理液被連續地輸送至混合槽，同時邊通過自動供給裝置向混合槽中供給原料，使其與混合槽中的處理液混合，邊將經過調整的處理液連續地送回至處理浴。?

(7)根據(1)或(2)所述的濃度調整裝置，其特征在于，所述處理浴中的處理液通過泵的作用被送回至混合槽。?

(8)根據(1)或(2)所述的濃度調整裝置，其特征在于，所述處理浴中的處理液通過設置于處理浴上的處理液流出部流至混合槽。?

(9)根據(1)或(2)所述的濃度調整裝置，其特征在于，所述混合槽中裝有攪拌器。?

實用新型的效果?

本實用新型提供的濃度調整裝置能夠使處理浴中的處理液濃度保持一定。?

附圖說明

圖1是表示本實用新型的實施例1的裝置結構的示意圖。?