[實用新型]一種鍍膜低輻射玻璃有效
| 申請號： | 201420063251.X | 申請日： | 2014-02-12 |
| 公開（公告）號： | CN203994914U | 公開（公告）日： | 2014-12-10 |
| 發明（設計）人： | 王勇;胡冰;劉雙;王爍;童帥 | 申請（專利權）人： | 天津南玻節能玻璃有限公司;天津南玻工程玻璃有限公司;中國南玻集團股份有限公司 |
| 主分類號： | B32B15/04 | 分類號： | B32B15/04;B32B9/04;B32B33/00 |
| 代理公司： | 天津濱海科緯知識產權代理有限公司 12211 | 代理人： | 韓敏 |
| 地址： | 301700 天津市武清*** | 國省代碼： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 鍍膜 輻射 玻璃 | ||
1.一種鍍膜低輻射玻璃，包括玻璃基片和功能膜層，其特征在于：所述功能膜層包括SiC膜層，且其厚度在5nm～70nm之間。
2.根據權利要求1所述的鍍膜低輻射玻璃，其特征在于：所述功能膜層依次由R膜層、Y膜層、Ag膜層、Y膜層和SiC膜層結構組成，其中R膜層是SiNx、TiOx、ZnAlOx、ZnSnOx和NbOx膜層中的一種或兩種以上的排列組合，Y膜層為NiCr或Ti膜層中的一種。
3.根據權利要求2所述的鍍膜低輻射玻璃，其特征在于：功能膜層中各膜層的厚度依次為18-30nm、0.5-3nm、2-12nm、1-5nm、5-70nm。
4.根據權利要求2或3所述的鍍膜低輻射玻璃，其特征在于：功能膜層中各膜層的厚度依次為25nm、2nm、10nm、4nm、50nm。
5.根據權利要求1所述的碳化硅鍍膜的低輻射玻璃，其特征在于：所述功能膜層依次由Q膜層、Ag膜層、Y膜層、SiC膜層、Q膜層、Ag膜層、Y膜層和SiC膜層結構組成，其中Q膜層是ZnAlOx、TiOx、SiNx、ZnSnOx和NbOx膜層中的一種或兩種以上的排列組合，Y膜層為NiCr或Ti膜層中的一種。
6.根據權利要求5所述的鍍膜低輻射玻璃，其特征在于：功能膜層中各膜層的厚度依次為25nm～40nm、3.5～11.5nm、0.5nm～3.5nm、15nm～45nm、11.5nm～21.5nm；5nm～17nm；0.4nm～3.8nm、5-70nm。
7.根據權利要求5或6所述的鍍膜低輻射玻璃，其特征在于：各膜層的厚度依次為35nm、7.5nm、2nm、30nm、16.5nm、11nm、0.8nm、50nm。
8.根據權利要求1所述的鍍膜低輻射玻璃，其特征在于：所述功能膜層依次由SiC膜層、Q膜層、Ag膜層、Y膜層和SiC膜層結構組成，其中Q膜層是ZnAlOx、TiOx、SiNx、ZnSnOx和NbOx膜層中的一種或兩種以上的排列組合，Y膜層為NiCr或Ti膜層中的一種。
9.根據權利要求8所述的鍍膜低輻射玻璃，其特征在于：功能膜層中 各膜層的厚度依次為12nm～32nm；11nm～43nm；2.2nm～10.2nm；0.5nm～4.8nm；5-70nm。
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