[實用新型]等離子體系統(tǒng)和等離子體裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201420061359.5 | 申請日: | 2014-02-11 |
| 公開(公告)號: | CN203734909U | 公開(公告)日: | 2014-07-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 具一教;崔明烈;D·海厄特;A·扎格羅茲基;D·A·亨德里克森;G·J·柯林斯 | 申請(專利權(quán))人: | 科羅拉多州立大學(xué)研究基金會 |
| 主分類號: | H05H1/30 | 分類號: | H05H1/30;H05H1/28 |
| 代理公司: | 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所 11038 | 代理人: | 張濤 |
| 地址: | 美國科*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 等離子體 系統(tǒng) 裝置 | ||
1.一種等離子體系統(tǒng),其特征在于,所述等離子體系統(tǒng)包括:
等離子體裝置,所述等離子體裝置包括內(nèi)側(cè)電極和圍繞內(nèi)側(cè)電極同軸布置的外側(cè)電極,其中,內(nèi)側(cè)電極和外側(cè)電極中的至少一個電極是溫度受控的;
可電離介質(zhì)源,所述可電離介質(zhì)源被聯(lián)接到等離子體裝置,并被配置成給等離子體裝置供給可電離介質(zhì);以及
動力源,所述動力源被聯(lián)接到內(nèi)側(cè)電極和外側(cè)電極,并被配置成在等離子體裝置處觸發(fā)可電離介質(zhì),從而形成等離子體流出物。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體系統(tǒng),其特征在于,內(nèi)側(cè)電極和外側(cè)電極中的至少一個電極由金屬合金形成,并包括覆蓋內(nèi)側(cè)電極和外側(cè)電極中的所述至少一個電極的至少一部分的介電涂層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體系統(tǒng),其特征在于,所述等離子體系統(tǒng)還包括:
冷卻劑組件,所述冷卻劑組件包括:
供給源,所述供給源被配置成儲存冷卻劑流體;以及
供給罐,所述供給罐被聯(lián)接到所述供給源,并被配置成使冷卻劑流體循環(huán)通過內(nèi)側(cè)電極和外側(cè)電極中的至少一個電極。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的等離子體系統(tǒng),其特征在于,冷卻劑組件還包括溫度控制器,所述溫度控制器具有被配置成測量溫度的溫度傳感器以及具有冷卻器,其中,冷卻器被配置成根據(jù)所測得的溫度維持預(yù)定的溫度。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的等離子體系統(tǒng),其特征在于,內(nèi)側(cè)電極具有在其中限定管腔的大致圓柱形管狀結(jié)構(gòu),管腔與冷卻劑組件流體連通。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的等離子體系統(tǒng),其特征在于,等離子體裝置還包括具有大致圓柱形管狀殼體的冷卻劑室,圓柱形管狀殼體具有被配置成可滑動地設(shè)置在外側(cè)電極上的內(nèi)管腔和被配置成聯(lián)接到冷卻劑組件的冷卻劑管腔。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的等離子體系統(tǒng),其特征在于,圓柱形管狀殼體包括外殼體和內(nèi)殼體,從而使冷卻劑管腔限定在外殼體和內(nèi)殼體之間。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的等離子體系統(tǒng),其特征在于,冷卻劑管腔具有大致螺旋線圈的形狀。
9.一種等離子體裝置,所述等離子體裝置被配置成接收可電離介質(zhì),其特征在于,所述等離子體裝置包括:
具有大致圓柱形管狀形狀的外側(cè)電極;
同軸布置在外側(cè)電極內(nèi)的內(nèi)側(cè)電極,內(nèi)側(cè)電極具有在其中限定管腔的大致圓柱形管狀結(jié)構(gòu),管腔被配置成聯(lián)接到冷卻劑組件;以及
具有大致圓柱形管狀殼體的冷卻劑室,圓柱形管狀殼體具有被配置成可滑動地設(shè)置在外側(cè)電極上的內(nèi)管腔和被配置成聯(lián)接到冷卻劑組件的冷卻劑管腔。
10.根據(jù)權(quán)利要求9的等離子體裝置,其特征在于,圓柱形管狀殼體包括外殼體和內(nèi)殼體,從而使冷卻劑管腔限定在外殼體和內(nèi)殼體之間。
11.根據(jù)權(quán)利要求9的等離子體裝置,其特征在于,冷卻劑管腔具有大致螺旋線圈的形狀。
12.根據(jù)權(quán)利要求9的等離子體裝置,其特征在于,內(nèi)側(cè)電極和外側(cè)電極中的至少一個電極由金屬合金形成,并包括覆蓋內(nèi)側(cè)電極和外側(cè)電極中的所述至少一個電極的至少一部分的介電涂層。
13.根據(jù)權(quán)利要求12的等離子體裝置,其特征在于,介電涂層選自由氧化物、氮化物、自然氧化物和自然氮化物構(gòu)成的組。
14.根據(jù)權(quán)利要求12的等離子體裝置,其特征在于,金屬合金選自由鋁合金和鈦合金構(gòu)成的組。
15.一種等離子體系統(tǒng),其特征在于,所述等離子體系統(tǒng)包括:
等離子體裝置,所述等離子體裝置包括內(nèi)側(cè)電極和圍繞內(nèi)側(cè)電極同軸布置的外側(cè)電極,其中,內(nèi)側(cè)電極和外側(cè)電極中的至少一個電極是溫度受控的;
可電離介質(zhì)源,所述可電離介質(zhì)源被聯(lián)接到等離子體裝置,并被配置成給等離子體裝置供給可電離介質(zhì);
動力源,所述動力源被聯(lián)接到內(nèi)側(cè)電極和外側(cè)電極,并被配置成在等離子體裝置處觸發(fā)可電離介質(zhì),從而形成等離子體流出物;以及
冷卻劑組件,所述冷卻劑組件包括:
供給源,所述供給源被配置成儲存冷卻劑流體;以及
供給罐,所述供給罐被聯(lián)接到所述供給源,并被配置成使冷卻劑流體循環(huán)通過內(nèi)側(cè)電極和外側(cè)電極中的至少一個電極。
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