[實用新型]一種活塞環表面的多層多元復合硬質PVD鍍層及活塞環有效
| 申請號： | 201420056537.5 | 申請日： | 2014-01-29 |
| 公開（公告）號： | CN203782221U | 公開（公告）日： | 2014-08-20 |
| 發明（設計）人： | 吳映雪;劉千喜;張波 | 申請（專利權）人： | 儀征亞新科雙環活塞環有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/06 | 分類號： | C23C14/06;F16J9/00;F16J9/26 |
| 代理公司： | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人： | 鞏克棟 |
| 地址： | 211499 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 活塞環 表面 多層 多元 復合 硬質 pvd 鍍層 | ||
【權利要求書】：
1.一種活塞環表面的多層多元復合硬質PVD鍍層，其特征在于，所述鍍層從下至上依次為單一金屬打底層、單一氮化物過渡層、單一氮化物鍍層、多元氮化物過渡層及多元氮化物鍍層。
2.如權利要求1所述的鍍層，其特征在于，所述單一金屬打底層為Cr打底層。
3.如權利要求1所述的鍍層，其特征在于，所述單一氮化物過渡層為CrN過渡層，所述單一氮化物鍍層為CrN鍍層。
4.如權利要求1所述的鍍層，其特征在于，所述多元氮化物過渡層為Cr(Me)N過渡層，所述多元氮化物鍍層為Cr(Me)N鍍層。
5.如權利要求1所述的鍍層，其特征在于，所述單一金屬打底層的厚度為1～4μm。
6.如權利要求1所述的鍍層，其特征在于，所述單一氮化物過渡層的厚度為1～6μm。
7.如權利要求1所述的鍍層，其特征在于，所述單一氮化物鍍層的厚度為5～20μm。
8.如權利要求1所述的鍍層，其特征在于，所述多元氮化物過渡層的厚度為2～10μm。
9.如權利要求1所述的鍍層，其特征在于，所述多元氮化物鍍層的厚度為5～20μm。
10.一種具有如權利要求1-9之一所述多層多元復合硬質PVD鍍層的活塞環，其特征在于，所述活塞環表面與鍍層之間設有氮化層或無氮化層。
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