[實用新型]一種帶滑軌的用于制備石墨烯的化學(xué)氣相沉積裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201420056530.3 | 申請日: | 2014-01-29 |
| 公開(公告)號: | CN203794983U | 公開(公告)日: | 2014-08-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉長江;連榕 | 申請(專利權(quán))人: | 廈門烯成新材料科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/44 | 分類號: | C23C16/44;C23C16/455;C23C16/26 |
| 代理公司: | 廈門市精誠新創(chuàng)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 35218 | 代理人: | 黃典湘 |
| 地址: | 361000 福建省廈門市*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 滑軌 用于 制備 石墨 化學(xué) 沉積 裝置 | ||
1.一種帶滑軌的用于制備石墨烯的化學(xué)氣相沉積裝置,其特征在于:包括一石英管,所述石英管輸入端通過第一法蘭連接有充氣系統(tǒng),所述石英管輸出端通過法蘭分別連接有氣壓調(diào)節(jié)器和真空系統(tǒng),所述石英管外包圍有分段加熱裝置,所述分段加熱裝置包括第一加熱裝置和第二加熱裝置,所述第一加熱裝置和第二加熱裝置下方設(shè)有滑軌,滑軌上設(shè)有可以在該滑軌上滑動的第一滑塊和第二滑塊,所述第一滑塊和第二滑塊分別固定連接有第一電機(jī)和第二電機(jī),第一電機(jī)和第二電機(jī)輸出轉(zhuǎn)軸均固定有錐齒輪,所述第一加熱裝置和第二加熱裝置上設(shè)有與該錐齒輪的齒紋嚙合的斜齒圈,該錐齒輪轉(zhuǎn)動時通過與斜齒圈嚙合帶動所述第一加熱裝置和第二加熱裝置繞石英管軸向旋轉(zhuǎn),所述滑軌兩端設(shè)有兩伸縮氣缸,所述兩伸縮氣缸分別推動滑塊第一滑塊和第二滑塊在滑軌上滑動,進(jìn)而推動所述第一加熱裝置和第二加熱裝置相對所述石英管水平移動。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶滑軌的用于制備石墨烯的化學(xué)氣相沉積裝置,其特征在于:所述石英管輸出端還連接有抽氣裝置,所述抽氣裝置由閥門和氣泵組成,所述閥門兩端通過導(dǎo)管分別與氣泵和石英管輸出端連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶滑軌的用于制備石墨烯的化學(xué)氣相沉積裝置,其特征在于:石英管的中部設(shè)有限位凸環(huán),所述第一加熱裝置設(shè)置在限位凸環(huán)的左側(cè),所述第二加熱裝置設(shè)置在限位凸環(huán)的右側(cè),且所述第一加熱裝置和第二加熱裝置均為管式加熱爐膛,所述石英管的輸入端外露出所述第一加熱裝置的左側(cè),所述石英管的輸出端外露出所述第二加熱裝置的右側(cè)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種帶滑軌的用于制備石墨烯的化學(xué)氣相沉積裝置,其特征在于:所述石英管的限位凸環(huán)上開設(shè)有配氣環(huán),所述配氣環(huán)通過送氣管道與充氣系統(tǒng)連接,所述配氣環(huán)上均勻設(shè)置有多個噴嘴。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶滑軌的用于制備石墨烯的化學(xué)氣相沉積裝置,其特征在于:所述的第一加熱裝置和第二加熱裝置均為氣氛爐。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶滑軌的用于制備石墨烯的化學(xué)氣相沉積裝置,其特征在于:所述石英管輸出端通過法蘭連接一不銹鋼導(dǎo)管一端,所述不銹鋼導(dǎo)管上設(shè)有真空質(zhì)量流量計,所述不銹鋼導(dǎo)管另一端連接至所述真空系統(tǒng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶滑軌的用于制備石墨烯的化學(xué)氣相沉積裝置,其特征在于:所述氣壓調(diào)節(jié)器連接在不銹鋼導(dǎo)管中部,所述氣壓調(diào)節(jié)器包括一單向閥,所述單向閥輸入端連接該不銹鋼導(dǎo)管,所述單向閥輸出端連接有一橡膠導(dǎo)管,所述橡膠導(dǎo)管輸出口浸沒在一錐形瓶內(nèi)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種帶滑軌的用于制備石墨烯的化學(xué)氣相沉積裝置,其特征在于:所述單向閥由密封法蘭、過壓閥、彈簧和橡皮圈組成,所述密封法蘭連接不銹鋼導(dǎo)管,所述彈簧連接密封法蘭和過壓閥,所述過壓閥和密封法蘭連接處設(shè)有橡皮圈,過壓閥在彈簧張力下緊壓密封法蘭。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶滑軌的用于制備石墨烯的化學(xué)氣相沉積裝置,其特征在于:還包括一計算機(jī)控制系統(tǒng),所述計算機(jī)控制系統(tǒng)包括一中央處理器、I/O?接口模塊、A/D?轉(zhuǎn)換器、存儲器、液晶顯示器和若干傳感器,所述若干傳感器分別設(shè)置在加熱裝置、石英管、充氣系統(tǒng)、真空系統(tǒng)和氣壓調(diào)節(jié)器上,并經(jīng)A/D?轉(zhuǎn)換器轉(zhuǎn)換后再通過I/O?接口模塊與中央處理器輸入端相連接,所述存儲器通過地址總線與中央處理器的輸入端連接,所述液晶顯示器通過并行接口連接中央處理器的輸出端。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的





