[實用新型]一種真空滅弧室及其電極和杯狀橫磁觸頭結構

有效

• 申請號: 201420042721.4
• 申請日: 2014-01-23
• 公開（公告）號: CN203931926U
• 公開（公告）日: 2014-11-05
• 發明（設計）人: 張國躍;李文藝;王曉琴;李敏;楊蘭索;舒小平;孫淑萍
• 申請（專利權）人: 天津平高智能電氣有限公司
• 主分類號: H01H33/664
• 分類號: H01H33/664
• 代理公司: 鄭州睿信知識產權代理有限公司 41119
• 代理人: 趙敏

技術領域

本實用新型涉及一種真空滅弧室。

背景技術

真空滅弧室是真空開關的核心部件，其主要包括絕緣外殼、導電回路和屏蔽系統等部分，其中，導電回路由動、靜電極組成，動、靜電極由相應的導電桿和固定設置在導電桿上的觸頭構成。由于觸頭是產生電弧和熄滅電弧的部位，所以觸頭的結構對滅弧室開斷電流的能力有很大的影響，現有的開斷電流31.5kA及以下的真空開關廣泛采用杯狀橫磁觸頭，該觸頭主要由橫磁觸頭杯、觸頭片和位于觸頭杯中對觸頭片進行支撐的支撐盤組成，觸頭片的材料為銅鉻合金，觸頭杯的材料為無氧銅，支撐盤的材料為導電率很低的不銹鋼，觸頭片為圓環形結構焊接在觸頭杯的杯口沿端面上，觸頭杯的周壁上間隔均布有呈一定角度的斜槽，斜槽將觸頭杯周壁分割成若干匝，匝數與斜槽數量相等，匝數的多少對觸頭杯的成本、機械強度和斜槽的傾角及旋轉包角都有很大的影響，而斜槽的傾角和旋轉包角又對磁場起著決定作用。目前杯狀橫磁觸頭一般使用8-16匝結構，該觸頭存在機械加工時間長、導電回路電阻比較大和機械強度較低等缺陷。

實用新型內容

本實用新型的目的是提供一種機械加工時間短、導電回路電阻小和機械強度高的真空滅弧室杯狀橫磁觸頭結構。本實用新型同時提供使用該觸頭結構的真空滅弧室電極和真空滅弧室。

為實現上述目的，本實用新型的一種真空滅弧室杯狀橫磁觸頭結構采用如下技術方案：一種真空滅弧室杯狀橫磁觸頭結構，包括橫磁觸頭杯和固定在橫磁觸頭杯口沿上的環形觸頭片，所述橫磁觸頭杯的周壁上沿周向均布有四個斜槽，橫磁觸頭杯內設置有觸頭片支撐件。

所述支撐件為支撐套體，支撐套體的外徑與橫磁觸頭杯內徑相適配。

所述支撐套體與橫磁觸頭杯之間為間隙配合。

本實用新型的一種真空滅弧室電極采用如下技術方案：一種真空滅弧室電極，包括導電桿和固定設置在導電桿上的杯狀橫磁觸頭，橫磁觸頭包括橫磁觸頭杯和固定在橫磁觸頭杯口沿上的環形觸頭片，所述橫磁觸頭杯的周壁上沿周向均布有四個斜槽，橫磁觸頭杯內設置有觸頭片支撐件。

所述支撐件為支撐套體，支撐套體的外徑與橫磁觸頭杯內徑相適配。

所述橫磁觸頭杯與導電桿為一體結構。

所述支撐套體與橫磁觸頭杯之間為間隙配合。

本實用新型的一種真空滅弧室采用如下技術方案：一種真空滅弧室，包括絕緣外殼和動、靜電極，動電極包括動導電桿和固定設置在其上的杯狀橫磁觸頭，靜電極包括靜導電桿和固定設置在其上是杯狀橫磁觸頭，杯狀橫磁觸頭包括橫磁觸頭杯和固定在橫磁觸頭杯口沿上的環形觸頭片，所述橫磁觸頭杯的周壁上沿周向均布有四個斜槽，橫磁觸頭杯內設置有觸頭片支撐件。

所述支撐件為支撐套體，支撐套體的外徑與橫磁觸頭杯內徑相適配。

所述橫磁觸頭杯與導電桿為一體結構。

本實用新型在橫磁觸頭杯上開設四個斜槽，將觸頭杯杯身周壁分割成四匝結構，在不增加觸頭直徑和滅弧室體積的前提下，四匝結構一方面減少了機械加工時間，提高了觸頭的機械強度，另一方面增加了導電面積，降低了導電回路的電阻，提高了杯狀橫磁觸頭的額定通流能力，第三方面，由于開槽較少，增加了電流的徑向分量，提高了觸頭間的磁場強度，從而提高了真空滅弧室開斷電流的能力。

附圖說明

圖1是本實用新型真空滅弧室一種實施例中導電回路部分的結構示意圖；

圖2是圖1中支撐套體的結構示意圖；

圖3是圖1中橫磁觸頭杯的結構示意圖；

圖4是圖1中觸頭片的結構示意圖。

具體實施方式

本實用新型的真空滅弧室實施例：其主要包括絕緣外殼、導電回路和屏蔽系統，它們之間的裝配關系與現有技術相同，其中，導電回路包括動、靜電極，兩電極的結構如圖1-4所示，動電極由動導電桿2和固定設置在動導電桿上的杯狀橫磁觸頭4組成，靜電極由靜導電桿1和固定設置在靜導電桿上的杯狀橫磁觸頭3組成，兩杯狀橫磁觸頭的主體結構相同。