[實用新型]用于燒制釉面陶瓷茶具的底墊有效
| 申請號: | 201420041627.7 | 申請日: | 2014-01-23 |
| 公開(公告)號: | CN203798169U | 公開(公告)日: | 2014-08-27 |
| 發明(設計)人: | 李淑平 | 申請(專利權)人: | 李淑平 |
| 主分類號: | F27D3/12 | 分類號: | F27D3/12 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 362500 福建省泉*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 燒制 釉面 陶瓷 茶具 | ||
1.一種用于燒制釉面陶瓷茶具的底墊,其特征在于包括底盤和凸起,凸起位于底盤中心位置,凸起上端中心位置設有凹陷,凸起上面為環形支撐面,環形支撐面支撐在茶具底部凹陷面,環形支撐外緣位于茶具底部凹陷內,底盤和凸起均為陶瓷。
2.根據權利要求1所述的用于燒制釉面陶瓷茶具的底墊,其特征在于所述底盤和凸起為一體式連接。
3.根據權利要求1或2所述的用于燒制釉面陶瓷茶具的底墊,其特征在于所述凸起的環形支撐面為多邊環形或圓環形。
4.根據權利要求1或2所述的用于燒制釉面陶瓷茶具的底墊,其特征在于所述底盤和凸起為分體式連接。
5.根據權利要求4所述的用于燒制釉面陶瓷茶具的底墊,其特征在于所述凸起為三個其環形支撐面分別為圓環形、四邊環形和六邊環形,三個凸起擇一與底盤配合連接。
6.根據權利要求1或2所述的用于燒制釉面陶瓷茶具的底墊,其特征在于所述環形支撐面上設有三個以上周向均勻分布的小孔,小孔內配有陶制支撐柱。
7.根據權利要求1或2所述的用于燒制釉面陶瓷茶具的底墊,其特征在于所述環形支撐面上設有徑向凹槽。
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