[實用新型]一種薄膜真空鍍鋁裝置

有效

• 申請號: 201420039417.4
• 申請日: 2014-01-22
• 公開（公告）號: CN203700484U
• 公開（公告）日: 2014-07-09
• 發明（設計）人: 曹赤鵬
• 申請（專利權）人: 嘉興鵬翔包裝材料有限公司
• 主分類號: C23C14/20
• 分類號: C23C14/20;C23C14/24;C23C14/56
• 代理公司: 杭州天欣專利事務所 33209
• 代理人: 屠福河

技術領域

本實用新型涉及包裝機械領域，特別涉及一種薄膜真空鍍鋁裝置。

技術背景

鍍鋁薄膜既有塑料薄膜的特性，又具有金屬的特性。薄膜表面鍍鋁的作用是遮光、防紫外線照射，既延長了內容物的保質期，又提高了薄膜的亮度，從一定程度上代替了鋁箔，也具有價廉、美觀及較好的阻隔性能，因此，鍍鋁薄膜在復合包裝中的應用十分廣泛。塑料薄膜的鍍鋁工藝一般采用直鍍法，即將鋁層直接鍍在基材薄膜表面。將卷筒薄膜置放于真空室內，關閉真空室抽真空,當真空度達到4×10^－4mbar以上時，將蒸發舟升溫至1300℃～1400℃，然后再把純度為99.9％的鋁絲連續送至蒸發舟上。調節好放卷速度、收卷速度、送絲速度和蒸發量，開通冷卻源，使鋁絲在蒸發舟上連續地熔化、蒸發，從而在移動的薄膜表面冷卻后形成一層光亮的鋁層即為鍍鋁薄膜。

但是目前市場上使用的真空鍍鋁機，鋁絲受熱蒸發為鋁蒸氣后形成豎直方向等截面的鋁蒸發區后，鋁分子附著于高速掠過的薄膜上，薄膜接觸蒸發區面積較小，容易導致薄膜鍍鋁不均勻，且鍍鋁效率較低。

實用新型內容

本實用新型的目的是提供一種薄膜真空鍍鋁裝置，有利于鋁蒸汽擴散，加大薄膜和鋁蒸氣接觸面積，提高薄膜鍍鋁的均勻度，提高鍍鋁效率。

本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是：

一種薄膜真空鍍鋁裝置，包括蒸發系統和薄膜卷繞系統，所述薄膜卷繞系統設置于蒸發系統的正上方，所述蒸發系統包括蒸發舟和設置于一旁的進絲裝置和鋁絲卷，所述鋁絲卷通過進絲裝置連續送至蒸發舟內，所述薄膜卷繞系統包括放卷輥、展平輥、冷卻輥和收卷輥，它還包括上隔板和下隔板，所述上隔板和下隔板設置于蒸發系統和薄膜卷繞系統之間，所述蒸發舟的正上方設置有可左右移動而實現對蒸發舟完全開啟或者封閉的下隔板，所述下隔板上方設置有上隔板，所述上隔板上設置有橫截面為倒梯形的槽口，所述槽口與蒸發舟圍成為鋁蒸發區。

進一步地，所述槽口橫截面倒梯形的斜邊夾角為α，0°<α≦110°。

本實用新型和現有技術相比，具有以下優點和效果：鋁絲在蒸發舟上連續地熔化、蒸發，由槽口與蒸發舟圍成為鋁蒸發區，橫截面上大下小，不僅有利于鋁蒸氣的擴散，而且增大了薄膜和鋁蒸氣接觸面積，使鋁蒸氣迅速且均勻地附著在快速掠過的薄膜上，本實用新型提高了薄膜鍍鋁質量和效率。

附圖說明

圖1為本實用新型的結構示意圖。

圖中：1.放卷輥，2.展平輥，3.收卷輥，4.上隔板，5.下隔板，6.蒸發舟，7.進絲裝置，8.鋁絲卷，9.冷卻輥，10.薄膜，11.薄膜卷繞系統，12.蒸發系統，13.槽口。

具體實施方式

下面結合附圖并通過實施例對本實用新型作進一步的詳細說明，以下實施例是對本實用新型的解釋而本實用新型并不局限于以下實施例。

如圖1所示，一種薄膜真空鍍鋁裝置，包括蒸發系統12和薄膜卷繞系統11，所述薄膜卷繞系統11設置于蒸發系統12的正上方，所述蒸發系統12包括蒸發舟6和設置于一旁的進絲裝置7和鋁絲卷8，所述鋁絲卷8通過進絲裝置7連續送至蒸發舟6內，所述薄膜卷繞系統11包括放卷輥1、展平輥2、冷卻輥9和收卷輥3。它還包括上隔板4和下隔板5，所述上隔板4和下隔板5設置于蒸發系統12和薄膜卷繞系統11之間，所述蒸發舟6的正上方設置有可左右移動而實現對蒸發舟6完全開啟或者封閉的下隔板5，所述下隔板5上方設置有上隔板4，所述上隔板4上設置有橫截面為倒梯形的槽口13，所述槽口13橫截面倒梯形的斜邊夾角為α，0°<α≦110°，α過大將造成上方的兩根展平輥2之間的距離過長，其間的薄膜10的張力難以控制，薄膜10過松會造成鍍鋁不均勻，薄膜10過緊活造成拉長甚至拉斷。所述槽口13與蒸發舟6圍成為鋁蒸發區，所述鋁蒸發區橫截面上大下小，不僅有利于鋁蒸氣的擴散，而且增大了薄膜10和鋁蒸氣接觸面積，使鋁蒸氣迅速且均勻地附著在薄膜10上。