[實用新型]一種服裝面料及一種服裝

有效

• 申請號: 201420030726.5
• 申請日: 2014-01-17
• 公開（公告）號: CN204036966U
• 公開（公告）日: 2014-12-24
• 發明（設計）人: 趙尚振;呂慧;李景川
• 申請（專利權）人: 安踏（中國）有限公司
• 主分類號: B32B9/04
• 分類號: B32B9/04;B32B33/00;B32B5/24;D03D15/00;D06M11/44;D06M11/46
• 代理公司: 北京市清華源律師事務所 11441
• 代理人: 沈泳;李贊堅

1.一種服裝面料，其特征在于，包括基底層和在所述基底層至少一側設置有含紫外感應材料的功能層；所述基底層部分或者全部由紫外變色紗線織造而成；所述功能層具有熱反射、熱傳遞、導濕氣、透氣、增強基底層強度或韌性中的一種或幾種；?

所述紫外變色紗線以及紫外感應材料根據接收的紫外線光強而顯示為不同的顏色。?

2.根據權利要求1所述的服裝面料，其特征在于，所述紫外變色紗線是紗線經過紫外感應材料處理，和/或，所述紫外變色紗線經過抗紫外線整理劑處理。?

3.根據權利要求1所述的服裝面料，其特征在于，包括抗紫外線層，所述抗紫外線層設置在所述基底層的一側，或者設置在所述基底層與所述功能層之間。?

4.根據權利要求3所述的服裝面料，其特征在于，在所述基底層至少一側設置有含紫外感應材料的功能層，所述抗紫外線層設置在所述基底層的一側，或者設置在所述基底層與所述功能層之間。?

5.根據權利要求3或4任一項所述的服裝面料，其特征在于，所述抗紫外線層通過印花工藝或者涂層工藝設置在所述底基層上。?

6.根據權利要求3所述的服裝面料，其特征在于，所述抗紫外線層設置在所述基底層的一側，所述功能層通過印花工藝或者涂層工藝設置在所述基底層的另一側；或者，?

所述抗紫外線層設置在所述基底層與所述功能層之間，所述功能層通過印花工藝或者涂層工藝設置在所述抗紫外線層上。?

7.根據權利要求6所述的服裝面料，其特征在于，所述印花工藝或者涂層工藝的漿料粘度范圍是大于等于500厘泊，且小于等于3000厘泊。?

8.根據權利要求6所述的服裝面料，其特征在于，所述印花工藝或者涂層工藝的漿料粘度為1500厘泊。?

9.根據權利要求6所述的服裝面料，其特征在于，所述印花工藝為批印或者為裁片印；采用篩網印花、圓網印花、滾筒印花、平網印花、泡沫印花、轉移印花和電腦噴墨印花中的一種或者多種方式；或者，?

所述涂層工藝采用刮刀涂層、圓網涂層、浮點涂層、泡沫涂層和轉移涂層中的一種或者多種方式。?

10.一種服裝，其特征在于，該服裝全部或部分使用上述權利要求1-9任一項所述的服裝面料。?