[實用新型]真空升華裝置有效
| 申請號: | 201420029760.0 | 申請日: | 2014-01-17 |
| 公開(公告)號: | CN203803143U | 公開(公告)日: | 2014-09-03 |
| 發明(設計)人: | 劉屹東;高濤 | 申請(專利權)人: | 方圓環球光電技術鹽城有限公司;未名光電鹽城有限公司 |
| 主分類號: | B01D7/00 | 分類號: | B01D7/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 224005 江蘇省鹽城市鹽瀆路*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 真空 升華 裝置 | ||
1.真空升華裝置,其特征在于,包括:坩堝、加熱源、真空腔室、材料收集板、控溫裝置、取樣裝置、放氣閥、隔離板,隔離板位于真空腔室之間,通過控制隔離板,將真空腔室隔離成兩部分。
2.如權利要求1所述的真空升華裝置,其特征在于,所述取樣裝置為推拉桿或機械手柄夾具裝置。
3.如權利要求1所述的真空升華裝置,其特征在于,所述材料收集板與取樣裝置連接,放氣閥與真空腔室連通。
4.如權利要求1或3所述的真空升華裝置,其特征在于,所述控溫裝置位于材料收集板上方。
5.如權利要求1所述的真空升華裝置,其特征在于,所述隔離板為伸縮裝置或推拉裝置或翻轉裝置。
6.如權利要求1所述的真空升華裝置,其特征在于,所述坩堝不少于兩個。
7.如權利要求1所述的真空升華裝置,其特征在于,所述加熱源的數量和坩堝的數量相同。
8.如權利要求1所述的真空升華裝置,其特征在于,所述加熱源為一個。
9.如權利要求8所述的真空升華裝置,其特征在于,還包括旋轉托盤,將坩堝置于旋轉托盤上,通過旋轉坩堝或加熱源,將坩堝置于加熱源上方。
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