[實用新型]一種基板檢測修復系統

有效

• 申請號: 201420026551.0
• 申請日: 2014-01-16
• 公開（公告）號: CN203673219U
• 公開（公告）日: 2014-06-25
• 發明（設計）人: 沈奇雨
• 申請（專利權）人: 北京京東方光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F7/42;H01L21/67
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291
• 代理人: 黃志華

1.一種基板檢測修復系統，其特征在于，包括：?

控制裝置，根據接收的基板上的有效電路形成前的圖像獲取基板上的光刻膠殘留信息，并控制去除所述基板上除有效電路以外的區域殘留的光刻膠；?

光學檢測裝置，信號連接所述控制裝置，以獲取基板上的有效電路形成前的圖像，并將所述圖像反饋給所述控制裝置；?

光刻膠去除裝置，信號連接所述控制裝置，在所述控制裝置的控制下去除所述殘留的光刻膠。?

2.如權利要求1所述的基板檢測修復系統，其特征在于，所述光學檢測裝置為相機或圖像掃描機。?

3.如權利要求1或2所述的基板檢測修復系統，其特征在于，所述光刻膠去除裝置包括：?

曝光裝置，信號連接所述控制裝置，在所述控制裝置的控制下對所述殘留的光刻膠進行曝光；?

顯影裝置，信號連接所述控制裝置，在所述控制裝置的控制下對曝光后的所述殘留的光刻膠進行顯影，以去除所述殘留的光刻膠；?

清洗裝置，信號連接所述控制裝置，在所述控制裝置的控制下對顯影后所述基板上顯影后的區域進行清洗；?

干燥裝置，信號連接所述控制裝置，在所述控制裝置的控制下對所述基板上進行顯影和清洗后的區域進行干燥。?

4.如權利要求3所述的基板檢測修復系統，其特征在于，所述曝光裝置為紫外線曝光裝置或激光曝光裝置。?

5.如權利要求4所述的基板檢測修復系統，其特征在于，所述紫外線曝光裝置包括：機殼，設置于所述機殼內的紫外光發射器，以及與所述紫外光發射器相對、用于調節紫外光光斑大小的光斑調節器。?

6.如權利要求3所述的基板檢測修復系統，其特征在于，所述顯影裝置和所述清洗裝置為一體結構，包括：殼體，設置于所述殼體內的顯影液存儲罐和清洗液存儲罐，設置于所述殼體底部的顯影液滴嘴和清洗液滴嘴，且所述顯影液滴嘴通過顯影液導管與所述顯影液存儲罐連通，所述清洗液滴嘴通過清洗液導管與所述清洗液存儲罐連通，以及設置于所述顯影液導管上的顯影液控制閥，設置于所述清洗液導管上的清洗液控制閥，且所述顯影液控制閥和所述清洗液控制閥分別與所述控制裝置信號連接。?

7.如權利要求6所述的檢測修復系統，其特征在于，所述干燥裝置包括：用于吸取所述基板上的顯影液和清洗液的吸嘴，通過吸嘴導管與所述吸嘴連通、用于存儲吸入的顯影液和清洗液的液體存儲罐，以及設置于所述吸嘴導管上的吸嘴控制閥，且所述吸嘴控制閥與所述控制裝置信號連接。?

8.如權利要求7所述的基板檢測修復系統，其特征在于，所述吸嘴的中間部分向內凹陷。?

9.如權利要求3所述的基板檢測修復系統，其特征在于，還包括：承載所述基板的承載臺，且所述承載臺與所述控制裝置信號連接；在進行檢測和修復工作時，所述控制裝置控制所述承載臺順次移到所述光學檢測裝置、曝光裝置、顯影裝置、清洗裝置和干燥裝置的下方，以便于所述光學檢測裝置、曝光裝置、顯影裝置、清洗裝置和干燥裝置對放置于所述承載臺上的有效電路形成前的基板進行圖像采集，對基板上除有效電路以外的區域殘留的光刻膠進行曝光、顯影、清洗和干燥。?