[實用新型]一種真空鍍膜裝置有效
| 申請號： | 201420011563.6 | 申請日： | 2014-01-06 |
| 公開（公告）號： | CN203700489U | 公開（公告）日： | 2014-07-09 |
| 發明（設計）人： | 吳軍 | 申請（專利權）人： | 天津普利愛特真空鍍膜有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/24 | 分類號： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 天津市新天方有限責任專利代理事務所 12104 | 代理人： | 李桂英 |
| 地址： | 300350 天津*** | 國省代碼： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 真空鍍膜 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種真空鍍膜裝置，包括腔體（1），其特征在于：所述的腔體（1）內設置有探頭（2）、放置基片的模板（5）、第一蒸發源（6）和第二蒸發源（7）；所述的腔體（1）旁側設置有氣管（3）；所述的氣管（3）與外部的真空泵（4）連接；所述的第一蒸發源（6）上設置有圓錐形的防護罩（8）。
2.根據權利要求1所述的一種真空鍍膜裝置，其特征在于：所述的圓錐形的防護罩（8）可以用設置在第一蒸發源（6）和第二蒸發源（7）之間的擋板（9）替代。
3.根據權利要求2所述的一種真空鍍膜裝置，其特征在于：所述擋板（9）為可活動的。
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