[實用新型]防止稀釋劑反向噴淋的晶元邊緣光刻膠清除裝置

有效

• 申請號: 201420005536.8
• 申請日: 2014-01-06
• 公開（公告）號: CN203659819U
• 公開（公告）日: 2014-06-18
• 發明（設計）人: 金海猷
• 申請（專利權）人: 徐州同鑫光電科技有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;B05B13/02;B05B15/04
• 代理公司: 徐州支點知識產權代理事務所(普通合伙) 32244
• 代理人: 張榮亮

技術領域

本實用新型涉及一種清除裝置，具體是一種防止稀釋劑反向噴淋的晶元邊緣光刻膠清除裝置。

背景技術

在進行晶元涂布時，晶元邊緣常常殘留部分光刻膠，這些光刻膠如不清除，則晶元在跟晶舟盒、機器手臂，以及烘焙單元接觸時，很容易造成對這些部件的污染。為了清除晶元邊緣殘留光刻膠，設有（如附圖1所示）晶元邊緣光刻膠清除裝置，此清除裝置通過噴頭噴淋稀釋劑來溶解不斷旋轉的卡盤上部的晶元邊緣堆積的光刻膠。

但是，通過現有的晶元邊緣光刻膠清除裝置噴出的稀釋劑，接觸到晶元表面后，存在反向噴濺到已涂抹光刻膠部位的現象，即超出邊緣不良管控范圍，這一問題容易導致光刻膠被沖掉，造成圖形缺失。

發明內容

本實用新型提供一種防止稀釋劑反向噴淋的晶元邊緣光刻膠清除裝置，能夠有效清除晶元邊緣殘留的光刻膠的同時，避免稀釋劑反向噴濺向晶元。

為了實現上述目的，本實用新型采用的技術方案是：一種防止稀釋劑反向噴淋的晶元邊緣光刻膠清除裝置，包括噴頭支架，噴管，噴頭支架用于固定噴管，還包括噴淋針頭和擋板，?噴淋針頭與噴管相連；擋板位于噴管下方。

擋板為四角形板狀物體。

所述的噴淋針頭的內徑為0.5?mm?~1.0mm。

與現有技術相比，本裝置在噴頭末端安裝小內徑噴淋針頭，利于將從邊緣反向噴向晶元的稀釋劑的量控制在邊緣不良管控范圍；在噴管下方安裝擋板，避免了防止稀釋劑反向噴向晶元，也起到保護晶元的作用。

附圖說明

圖1是現有的晶元邊緣光刻膠清除裝置結構示意圖；

圖2是本實用新型結構示意圖。

圖中：101、噴頭支架，102、噴管，103、噴淋針頭，104、擋板，105、稀釋劑，106、晶元，107、光刻膠；

A是易堆積殘留光刻膠區域；

B是邊緣不良管控范圍。

具體實施方式

下面結合附圖對本實用新型作進一步說明。

如圖2所示，一種防止稀釋劑反向噴淋的晶元邊緣光刻膠清除裝置，包括噴頭支架101，噴管102，噴頭支架101用于固定噴管102，還包括噴淋針頭103和擋板104，?噴淋針頭103與噴管102相連；擋板104位于噴管102下方。

擋板104為四角形板狀物體，晶元為一個平面物體，光刻膠涂抹于其表面，也呈現出平面狀，因此，安裝四角形的板狀擋板104更為合理。

所述的噴淋針頭103的內徑為0.5?mm?~1.0mm，更利于將從邊緣反向噴淋向晶元的稀釋劑的量控制在邊緣不良管控范圍B，控制在1.5mm之內。

使用時，噴管102將稀釋劑105噴向光刻膠107易堆積殘留光刻膠區域A，噴淋針頭103與噴管102相連，擋板104位于噴管102下方，阻擋稀釋劑105接觸到晶元表面后反向噴向晶元106。