[實用新型]一種漂洗水循環系統

有效

• 申請號: 201420001773.7
• 申請日: 2014-01-02
• 公開（公告）號: CN203741422U
• 公開（公告）日: 2014-07-30
• 發明（設計）人: 耐迪·薩多克
• 申請（專利權）人: 陶克（蘇州）機械設備有限公司
• 主分類號: C23F1/46
• 分類號: C23F1/46;C25C1/12
• 代理公司: 南京蘇科專利代理有限責任公司 32102
• 代理人: 陸明耀;姚姣陽

技術領域

本發明涉及一種與蝕刻液設備連接的漂洗水循環系統及漂洗水循環方法，屬于資源再利用和有色金屬回收領域。?

背景技術

全世界范圍內，電器電子工業是增長最快的產業之一，印刷電路板作為電器電子產品的重要組成部分，產量也日益增加。常規的酸性蝕刻處理是將印刷電路板放入蝕刻機內的蝕刻液中進行蝕刻反應。印刷板上銅的去除時間有限，且部分可能會因為一些有機的或其他抗酸性的抗體阻止了與酸性蝕刻液建立導體，從而導致時間受到限制。?

通常情況下，每分鐘去除30至60微米銅的速率是可以實現的。但是，由于銅的飽和且為維持一個可接受的處理速度，蝕刻液必須經常性的更換，這樣就會造成大量的廢棄蝕刻液。?

現有技術中，蝕刻液的再生需按照如下蝕刻反應添加添加劑（如過氧化氫H₂O₂，臭氧O₃，氯酸鈉NaClO₃）才能實現：?

Cu+2HCl+H₂O₂→CuCl₂+2H₂O；?

Cu+2HCl+1/3O₃→CuCl₂+H₂O；?

Cu+2HCl+1/3NaClO₃→CuCl₂+1/3NaCl+H₂O；?

另外，傳統蝕刻工藝存在蝕刻銅的量和回收再生的量之間化學不匹配的現象，無論是蝕刻液的供給，排放或是銅回收系統，導致蝕刻液的再生和銅回收的效果不佳。同時，漂洗水的處理也是一個大難題。?

發明內容

鑒于上述現有技術存在的缺陷，本發明的目的是提出一種蝕刻液設備內漂洗水的循環系統及漂洗水循環方法。?

本發明的目的將通過以下技術方案得以實現：?

一種漂洗水循環系統，所述漂洗水循環系統與蝕刻液設備內的漂洗室連接；?

所述漂洗室內分隔有第一、第二、第三清洗間，三個所述清洗間內均設置有用于將清洗液噴向產品的清洗噴頭；?

所述漂洗水循環系統包括一電-電滲析器、一電滲析器及一滲透器；?

所述電-電滲析器包括第三陰極室、第三陽極室，及置于第三陰極室和第三陽極室之間的第三中間室，所述電滲析器包括第四陽極室、第四陰極室，及置于第四陰極室和第四陽極室之間的第四中間室；?

所述第三中間室入口與第一清洗間出口通過管路連接，第三中間室的出口與第一清洗間的入口連接，所述第三陽極室與第三陰極室與蝕刻液再生系統通過管路連接；?

所述電滲析器的第四陽極室、第四中間室和第四陰極室入口均與第一清洗間的出口通過管路連接，第四陽極室、第四中間室和第四陰極室出口與第一清洗間的進口連接，所述電滲析器的第四中間室入口與第二清洗間的第一出口連接，中間室出口與第二清洗間的第一入口連接；?

所述滲透器的入口與第二清洗間的第二出口連接，滲透器的濃縮液出口與第二清洗間的第二入口連接，滲透器的清水出口與第三清洗?間的入口連接。?

優選地，所述第四中間室內設置有濃縮液，所述濃縮液指第一清洗間內的溶液。?

優選地，所述電-電滲析器和電滲析器中陰極室的寬度大于等于7cm。?

優選地，所述蝕刻液再生系統包括反應器及與所述反應器連接的電解槽；?

所述反應器包括一個預溢流室及第一、第二、第三溢流室，所述蝕刻液從預溢流室流出后按序進入三個溢流室；?

所述電解槽內設有A隔間和B隔間，所述A隔間包括第一陽極室、中間室、第一陰極室；所述第一陽極室和中間室之間設有陽離子膜，所述中間室和第一陰極室之間設有陰離子膜；所述B隔間包括第二陽極室和第二陰極室；?

所述電解槽還包括第一緩存槽和第二緩存槽，所述第一緩存槽的入口與所述預溢流室連接，所述第一緩存槽的出口與所述第一溢流室連接，所述第一緩存槽還與所述電解槽內的第一陰極室和第二陰極室連通，所述第一陽極室與第二緩存槽連通，所述中間室與第二溢流室連通，所述第二陽極室與第一溢流室連通；?

所述反應器與電解槽之間還設有氣體管路并將兩者連接起來，所述第三溢流室的出口連接于所述蝕刻機內的蝕刻液池或蝕刻液噴頭；?

所述第三陽極室與第三陰極室的入口與第一緩存槽的出口通過管路連接，第三陽極室與第三陰極室的出口與第一緩存槽的入口連接。?