[發(fā)明專利]激發(fā)光源漂移校正裝置及熒光光譜儀在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410856968.4 | 申請日: | 2014-12-31 |
| 公開(公告)號: | CN104597011A | 公開(公告)日: | 2015-05-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李毅;李飛;鄧麗娜 | 申請(專利權(quán))人: | 北京博暉創(chuàng)新光電技術(shù)股份有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/64 | 分類號: | G01N21/64;G01N21/01 |
| 代理公司: | 北京路浩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002 | 代理人: | 李相雨 |
| 地址: | 102206 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 激發(fā) 光源 漂移 校正 裝置 熒光 光譜儀 | ||
1.一種激發(fā)光源漂移校正裝置,其特征在于,包括激發(fā)光源、第一反射鏡和第一光電檢測器;
所述第一反射鏡設(shè)置成與所述激發(fā)光源形成設(shè)定的角度,所述第一反射鏡將所述激發(fā)光源發(fā)射的光反射到與所述激發(fā)光源的發(fā)射光的路線不同的方向;
所述第一反射鏡的中心設(shè)置有用于傳輸所述激發(fā)光源發(fā)射的光的光纖,通過所述光纖的光被所述第一光電檢測器接收。
2.如權(quán)利要求1所述的激發(fā)光源漂移校正裝置,其特征在于,所述第一反射鏡為凹面鏡,所述激發(fā)光源的光通過所述凹面鏡的反射后會聚成一點(diǎn)。
3.如權(quán)利要求1所述的激發(fā)光源漂移校正裝置,其特征在于,所述第一反射鏡為平面鏡,并且所述裝置還包括設(shè)置在所述第一反射鏡的反射光方向的凸透鏡,用于會聚所述第一反射鏡反射的光。
4.如權(quán)利要求1所述的激發(fā)光源漂移校正裝置,其特征在于,所述光纖設(shè)置為穿過所述第一反射鏡并鑲嵌在所述第一反射鏡中,并且所述光纖的位于所述第一反射鏡的反射面的一個末端與所述第一反射鏡的反射面平齊。
5.如權(quán)利要求1所述的激發(fā)光源漂移校正裝置,其特征在于,所述激發(fā)光源的光出射窗口面積為所述激發(fā)光源面積的30%~150%。
6.一種熒光光譜儀,其特征在于,包括:
權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的激發(fā)光源漂移校正裝置、原子化器、第二反射鏡和第二光電檢測器;
所述原子化器接收所述激發(fā)光源漂移校正裝置的第一反射鏡反射后會聚的光,并將產(chǎn)生的原子熒光信號發(fā)射到所述第二反射鏡,所述第二反射鏡發(fā)射后的光被所述第二光電檢測器接收。
7.如權(quán)利要求6所述的熒光光譜儀,其特征在于,所述第二反射鏡為凹面反射濾光片。
8.如權(quán)利要求6所述的熒光光譜儀,其特征在于,所述第二反射鏡為平面反射濾光片,并且所述光譜儀還包括設(shè)置在所述第二反射鏡的反射光方向的凸透鏡,用于會聚所述第二反射鏡反射的光。
9.如權(quán)利要求6所述的熒光光譜儀,其特征在于,所述原子化器的中心位于所述第一反射鏡反射的光的聚焦點(diǎn)的位置。
10.如權(quán)利要求9所述的熒光光譜儀,其特征在于,所述第二光電檢測器位于所述第二反射鏡反射的光的聚焦點(diǎn)的位置。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





