[發(fā)明專利]一種濾波裝置和方法及一種物質(zhì)探測(cè)裝置和方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410854084.5
• 申請(qǐng)日: 2014-12-31
• 公開（公告）號(hào): CN104535592A
• 公開（公告）日: 2015-04-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳志強(qiáng);張麗;趙自然;劉耀紅;劉必成;顧建平;鄭娟
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 同方威視技術(shù)股份有限公司
• 主分類號(hào): G01N23/02
• 分類號(hào): G01N23/02
• 代理公司: 北京路浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002
• 代理人: 李相雨

1.一種濾波裝置，其特征在于，所述裝置包括：

雙能射線源，所述雙能射線源用于發(fā)射高能射線和低能射線；

濾波片，位于所述雙能射線源的射線出射處，由高Z材料制成，用于對(duì)出射的高能射線和低能射線進(jìn)行濾波。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濾波裝置，其特征在于，所述裝置還包括：

第一準(zhǔn)直器，用于對(duì)經(jīng)所述濾波片濾波后的高能射線和/或低能射線進(jìn)行第一準(zhǔn)直。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的濾波裝置，其特征在于，所述裝置還包括：

第二準(zhǔn)直器，用于對(duì)經(jīng)所述第一準(zhǔn)直器第一準(zhǔn)直后的高能射線和/或低能射線進(jìn)行第二準(zhǔn)直。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的濾波裝置，其特征在于：

所述濾波片由鉛、鎢、銅、鐵、銻、鎳中的至少一種材料制成；

和/或，所述濾波片的厚度根據(jù)射線在1m處的劑量率占所述雙能射線源的出射劑量率的比例決定，其至少為5g/cm²。

5.一種物質(zhì)探測(cè)裝置，其特征在于，利用經(jīng)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的濾波裝置濾波的高能射線和低能射線探測(cè)物質(zhì)，獲取所述物質(zhì)的高能探測(cè)值和低能探測(cè)值，根據(jù)所述物質(zhì)的高能探測(cè)值和低能探測(cè)值對(duì)所述物質(zhì)進(jìn)行探測(cè)。

6.一種濾波方法，其特征在于，包括：

出射高能射線，利用高Z材料制成的濾波片對(duì)所述高能射線進(jìn)行濾波；

出射低能射線，利用高Z材料制成的濾波片對(duì)所述低能射線進(jìn)行濾波。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的濾波方法，其特征在于，所述方法還包括：

對(duì)經(jīng)濾波后的所述高能射線和/或所述低能射線進(jìn)行第一準(zhǔn)直。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的濾波方法，其特征在于，所述方法還包括：

對(duì)經(jīng)第一準(zhǔn)直后的所述高能射線和/或所述低能射線進(jìn)行第二準(zhǔn)直。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的濾波方法，其特征在于：

所述濾波片由鉛、鎢、銅、鐵、銻、鎳中的至少一種材料制成；

和/或，所述濾波片的厚度根據(jù)射線在1m處的劑量率占所述雙能射線源的出射劑量率的比例決定，至少為5g/cm²。

10.一種物質(zhì)探測(cè)方法，其特征在于，利用權(quán)利要求6-9中任一項(xiàng)所述的濾波方法濾波的高能射線和低能射線探測(cè)物質(zhì)，獲取所述物質(zhì)的高能探測(cè)值和低能探測(cè)值，根據(jù)所述物質(zhì)的高能探測(cè)值和低能探測(cè)值對(duì)所述物質(zhì)進(jìn)行探測(cè)。