[發(fā)明專利]X射線檢查系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410851416.4
• 申請日: 2014-12-31
• 公開（公告）號: CN104515781B
• 公開（公告）日: 2018-01-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李樹偉;張清軍;康克軍;李元景;李玉蘭;趙自然;劉以農(nóng);劉耀紅;朱維彬;趙曉琳;何會紹
• 申請（專利權(quán)）人: 清華大學(xué);同方威視技術(shù)股份有限公司
• 主分類號: G01N23/02
• 分類號: G01N23/02
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標事務(wù)所11038
• 代理人: 劉志強

1.一種X射線檢查系統(tǒng)，包括X射線發(fā)射裝置、探測器陣列(2)和X射線束流強度監(jiān)控裝置，所述X射線發(fā)射裝置發(fā)出的X射線束流包括照射于所述探測器陣列(2)上的工作束流和照射于所述探測器陣列(2)之外的冗余束流，其特征在于，所述X射線束流強度監(jiān)控裝置包括強度探測模塊和數(shù)據(jù)處理模塊，所述強度探測模塊設(shè)置于所述X射線發(fā)射裝置和所述探測器陣列(2)之間以接受所述冗余束流的照射并發(fā)出探測信號，所述數(shù)據(jù)處理模塊與所述強度探測模塊耦合以接收所述探測信號并輸出X射線束流強度監(jiān)控信號，其中，所述X射線束流強度監(jiān)控裝置包括相對于所述工作束流對稱布置的多個所述強度探測模塊以在所述X射線發(fā)射裝置發(fā)射的X射線束流發(fā)生偏擺時，使各強度探測模塊發(fā)出的探測信號彼此進行補償；所述數(shù)據(jù)處理模塊與各所述強度探測模塊耦合，各所述強度探測模塊輸出的探測信號一起傳輸?shù)剿鰯?shù)據(jù)處理模塊，所述數(shù)據(jù)處理模塊接收各所述強度探測模塊的探測信號后將探測信號在所述數(shù)據(jù)處理模塊內(nèi)進行合并、處理并輸出所述X射線束流強度監(jiān)控信號。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線檢查系統(tǒng)，其特征在于，所述X射線檢查系統(tǒng)還包括位于所述X射線發(fā)射裝置和所述探測器陣列(2)之間的準直器(3)，所述強度探測模塊位于所述X射線發(fā)射裝置和所述準直器(3)之間。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線檢查系統(tǒng)，其特征在于，所述X射線束流是扇面形束流，所述強度探測模塊位于所述扇面形束流的扇面?zhèn)确健?/p>

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線檢查系統(tǒng)，其特征在于，所述X射線束流強度監(jiān)控信號包括所述X射線束流的劑量監(jiān)控信號和/或所述X射線束流的亮度校正信號。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的X射線檢查系統(tǒng)，其特征在于，所述數(shù)據(jù)處理模塊包括積分放大器和信號轉(zhuǎn)換裝置，所述積分放大器與所述強度探測模塊耦合以接收所述探測信號并輸出電壓信號，所述信號轉(zhuǎn)換裝置與所述積分放大器耦合以接收所述電壓信號并輸出所述X射線束流強度監(jiān)控信號。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的X射線檢查系統(tǒng)，其特征在于，所述信號轉(zhuǎn)換裝置包括電壓比較器和模數(shù)轉(zhuǎn)換器中的至少一個，其中，所述電壓比較器與所述積分放大器耦合以接收所述電壓信號并輸出電平信號作為所述X射線束流的劑量監(jiān)控信號，所述模數(shù)轉(zhuǎn)換器與所述積分放大器耦合以接收所述電壓信號并輸出數(shù)字信號作為所述X射線束流的亮度校正信號。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的X射線檢查系統(tǒng)，其特征在于，所述強度探測模塊為閃爍探測模塊(5)或氣體探測模塊(6)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的X射線檢查系統(tǒng)，其特征在于，所述強度探測模塊為閃爍探測模塊(5)，所述閃爍探測模塊(5)包括閃爍體(51)、光敏器件(52)和屏蔽層(53)，所述閃爍體(51)的一端與所述光敏器件(52)耦合且所述閃爍體(51)位于所述光敏器件(52)和所述工作束流之間以使所述閃爍體(51)接受所述冗余束流的照射，所述屏蔽層(53)設(shè)置于所述光敏器件(52)外圍。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的X射線檢查系統(tǒng)，其特征在于，所述強度探測模塊為氣體探測模塊(6)，所述氣體探測模塊(6)包括高壓電極板(61)、收集電極板(62)和工作氣體(63)，所述高壓電極板(61)位于所述X射線發(fā)射裝置與所述收集電極板(62)之間并垂直于所述X射線束流的入射方向以使所述高壓電極板(61)接受所述冗余束流的照射，所述工作氣體(63)位于所述高壓電極板(61)和所述收集電極板(62)之間。