[發(fā)明專利]MOSFET被探測區(qū)探針數(shù)量計算方法及探針位置設(shè)計方法和探針卡生成方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410850258.0 | 申請日: | 2014-12-31 |
| 公開(公告)號: | CN104459512A | 公開(公告)日: | 2015-03-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李晶晶;謝晉春;辛吉升 | 申請(專利權(quán))人: | 上海華虹宏力半導(dǎo)體制造有限公司 |
| 主分類號: | G01R31/26 | 分類號: | G01R31/26;G01R1/067;G01R1/073 |
| 代理公司: | 上海浦一知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31211 | 代理人: | 丁紀(jì)鐵 |
| 地址: | 201203 上海市浦東*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | mosfet 探測 探針 數(shù)量 計算方法 位置 設(shè)計 方法 生成 | ||
1.一種MOSFET被探測區(qū)探針數(shù)量計算方法,其特征是,包括以下步驟:
1)根據(jù)現(xiàn)有MOSFET產(chǎn)品被探測區(qū)的尺寸特點(diǎn)創(chuàng)建數(shù)據(jù)庫,所述被探測區(qū)是源區(qū)和柵區(qū);
2)設(shè)置探針與探針之間距離的最小值大于等于80um,探針與被探測區(qū)邊緣的距離大于等于40um,當(dāng)探針規(guī)格Iunit=500ma時,探針針徑為d=55±5um,當(dāng)探針規(guī)格Iunit=1A時,探針針徑為d=100±5um;
3)根據(jù)待測產(chǎn)品的測試電流,測試電壓,確定柵區(qū)探針的數(shù)量Ngate和源區(qū)探針的數(shù)量Nsource;
Ngate值根據(jù)柵區(qū)的尺寸、探針之間距離以及探針與被探測區(qū)邊緣的距離確定,Ngate小于等于2;
Nsource=A+B+C;
A是源區(qū)施加電流和電壓的探針數(shù)量,Imax/Iunit=A,Imax是被測產(chǎn)品的最大測試電流,Iunit是探針材料的電流規(guī)格;
B是余量探針數(shù)量,當(dāng)Iunit的規(guī)格為500ma時,余量探針數(shù)為2;當(dāng)Iunit的規(guī)格為1A時,余量探針數(shù)為1;
C是感應(yīng)電流和電壓的探針數(shù)量;
如果源區(qū)施加電流和電壓的探針數(shù)量A小于等于2,感應(yīng)電流和電壓的探針數(shù)量C為1;
如果源區(qū)施加電流和電壓的探針數(shù)量A大于2小于等于8,感應(yīng)電流和電壓的探針數(shù)量C為2;
如果源區(qū)施加電流和電壓的探針數(shù)量A大于8小于等于20,感應(yīng)電流和電壓的探針數(shù)量C為4。
2.一種MOSFET被探測區(qū)探針位置設(shè)計方法,包括權(quán)利要求1所述方法的各步驟,其特征是,還包括以下步驟:
以各步驟下所有坐標(biāo)均為同一坐標(biāo)系下建立;
4)如果源區(qū)和柵區(qū)為方形,獲取源區(qū)和柵區(qū)對角四點(diǎn)的坐標(biāo)以及Ngate和Nsource值,將Nsource值分解因式得到X軸向探針數(shù)量Xsource值和Y軸向探針數(shù)量Ysource值;
柵區(qū)的坐標(biāo)獲取方法及柵區(qū)探針位置確定采用以下方式:
條件1)柵區(qū)兩對角點(diǎn)之間的水平方向的距離小于水平方向所有探針的內(nèi)徑和以及針與針的間距和兩個邊界值的總和,A點(diǎn)、B點(diǎn)為柵區(qū)兩對角點(diǎn);
條件2)柵區(qū)兩對角點(diǎn)之間的垂直方向的距離小于垂直平方向所有針的內(nèi)徑和以及針與針的間距和左右兩個邊界值的總和;
條件3)柵區(qū)兩對角點(diǎn)之間的對角線方向的距離小于對角線方向所有針的內(nèi)徑和以及針與針的間距和兩個邊界值的總和;
如果上述條件1)~3)同時滿足,則Ngate值需為1,柵區(qū)的探針位置即為柵區(qū)中心點(diǎn);
如果條件1)不滿足,則按照平均分配原則,將柵區(qū)垂直邊的中點(diǎn)處沿水平方向?qū)艆^(qū)三等分,第一等分點(diǎn)為第一點(diǎn)坐標(biāo),第二等分點(diǎn)為第二坐標(biāo)。
如果條件2)不滿足,則按照平均分配原則,將柵區(qū)水平邊的中點(diǎn)處沿垂直方向?qū)艆^(qū)三等分,第一等分點(diǎn)為第一探針的坐標(biāo),第二等分點(diǎn)為第二探針的坐標(biāo);
如果條件3)不滿足,則按照平均分配原則,將柵區(qū)沿對角線方向?qū)艆^(qū)三等分,第一等分點(diǎn)為第一探針的坐標(biāo),第二等分點(diǎn)為第二探針的坐標(biāo);
源區(qū)的坐標(biāo)獲取方法及源區(qū)探針位置確定采用以下方式:
條件4)源區(qū)兩對角點(diǎn)之間垂直方向的距離大于Ysource根探針內(nèi)徑和以及針與針的間距和左右兩個邊界值的總和;
條件5)源區(qū)兩對角點(diǎn)之間水平方向的距離大于Xsource根探針內(nèi)徑和以及針與針的間距和左右兩個邊界值的總和;
如果滿足條件4)和5)條件,則將源區(qū)水平方向做Xsource+1等分,垂直方向做Ysource+1等分,垂直方向和水平方向的等分線相交的點(diǎn)即為源區(qū)探針?biāo)谖恢茫?/p>
如果同時不滿足條件4)和5),則Xsource=Xsource-1,Ysource=Y(jié)source-1,將運(yùn)算后的Xsource和Ysource的值后返回條件1)2)重新判定,直至滿足條件,得到源區(qū)的探針位置坐標(biāo);
如果不滿足條件4),滿足條件5),則Ysource=Y(jié)source-1,Xsource不變,將運(yùn)算后的Xsource和Ysource的值后返回條件1)2)重新判定,直至滿足條件,得到源區(qū)的探針位置坐標(biāo);
如果滿足條件4),不滿足條件5),則Xsource=Xsource-1,Ysource不變,將運(yùn)算后的Xsource和Ysource的值后返回條件4)5)重新判定,直至滿足條件,得到源區(qū)的探針位置坐標(biāo);
5)如果源區(qū)和柵區(qū)圓形方形;
柵區(qū)為圓形,輸入柵區(qū)中心點(diǎn)的坐標(biāo),以及柵區(qū)半徑,結(jié)合Ngate,首先判定
條件6)圓形區(qū)域直徑是否小于最小的尺寸要求,即柵區(qū)內(nèi)徑尺寸僅夠一根針的情況,如果滿足,則報出錯信息,無法支持探針布局設(shè)計;
如果條件6)不滿足,則判定條件7)柵區(qū)圓形區(qū)域直徑是否小于Ngate根探針內(nèi)徑和以及針與針的間距和左右兩個邊界值的總和;
如果條件7)滿足,則報出錯信息,Ngate值為1,此時柵區(qū)的探針位置即為柵區(qū)圓心位置;如果條件2)
如果條件7)不滿足,沿柵區(qū)圓直徑的垂直方向或者水平方向?qū)?nèi)徑做Ngate+1等分,第一等分點(diǎn)為第一根探針的坐標(biāo)位置,第二等分點(diǎn)為第二根探針的坐標(biāo)位置;
源區(qū)形狀為圓形,輸入源區(qū)中心點(diǎn)的坐標(biāo),以及源區(qū)半徑,結(jié)NSOURCE值首先判定
條件條件8)源區(qū)圓形區(qū)域直徑是否小于最小的尺寸要求,即源區(qū)內(nèi)徑尺寸僅夠一根針的情況,如果滿足,則報出錯信息,無法支持探針布局設(shè)計;
如果條件8)不滿足,則判定條件9)源區(qū)圓形區(qū)域直徑是否小于NSOURCE根探針內(nèi)徑和以及針與針的間距和左右兩個邊界值的總和;
如果條件8)滿足,則報出錯信息,調(diào)針NSOURCE值調(diào)整為NSOURCE-1,重新判定條件8),如果條件8)不滿足,則說明源區(qū)可以支持NSOURCE根針的布局方案,沿源區(qū)圓直徑的垂直方向或者水平方向?qū)?nèi)直徑做NSOURCE+1等分,第一等分點(diǎn)為第一根探針的坐標(biāo)位置,第二等分點(diǎn)為第二根探針的坐標(biāo)位置,依此類推,直至完成NSOURCE根探針的布局。
3.一種MOSFET被探測區(qū)探針卡生成方法,包括權(quán)利要求2的所有步驟,其特征是,還包括以下步驟:
6)利用VB宏語言的圖表功能生成探針坐標(biāo)版圖。
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