[發明專利]流體傳動伺服反饋機構及其控制方法在審
| 申請號: | 201410848843.7 | 申請日: | 2014-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN104533869A | 公開(公告)日: | 2015-04-22 |
| 發明(設計)人: | 張祝;周光永;陳力航 | 申請(專利權)人: | 南京薩伯工業設計研究院有限公司 |
| 主分類號: | F15B13/16 | 分類號: | F15B13/16 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 211300 江蘇省南*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 流體 傳動 伺服 反饋 機構 及其 控制 方法 | ||
1.流體傳動伺服反饋機構,包括機構主體,其特征在于,機構主體安裝于泵體上,機構主體上設置的伺服反饋桿一端安裝于伺服閥套上,另一端安裝于伺服缸體上,且伺服反饋桿與調整螺釘連接,伺服反饋桿圍繞調整螺釘旋轉,伺服閥套套裝于控制閥芯上,并呈錯位安裝布置,伺服閥套圍繞控制閥芯旋轉;此外,在控制閥芯回轉中心線左右對稱開有左側V型槽和右側V型槽,控制閥芯和伺服閥套組成的控制進油通道設置有輸入端與輸出端,外部壓力油經輸入端流入伺服缸體,經輸出端回油卸荷。
2.根據權利要求1所述的流體傳動伺服反饋機構,其特征在于,機構主體上設置有用于安裝緊固螺栓的螺栓孔。
3.根據權利要求1所述的流體傳動伺服反饋機構,其特征在于,伺服閥套上設置有用于安裝伺服反饋桿球頭的閥套配合槽。
4.根據權利要求1所述的流體傳動伺服反饋機構,其特征在于,伺服缸體上設置有用于安裝伺服反饋桿的缸體配合槽。
5.根據權利要求1所述的流體傳動伺服反饋機構,其特征在于,伺服反饋桿上設置有用于安裝調整螺釘的調整螺釘安裝孔。
6.根據權利要求1所述的流體傳動伺服反饋機構,其特征在于,伺服閥套上設置有用于傳輸壓力油的左油道和右油道。
7.流體傳動伺服反饋機構控制方法,其特征在于,具體步驟如下:
壓力油輸送至控制閥芯和伺服閥套組成的控制進油通道輸入端處,壓力油一路經左通道及輔助油路輸送至伺服缸體的左側,另一路經右通道及輔助油路輸送至伺服缸體右側,且當一路輸入壓力油時,另一路則回油,并最終經輸出端回油卸荷;當流體傳動伺服反饋機構無外部操縱時,控制閥芯在其他部件作用下與伺服閥套處于相對常閉狀態,而當控制閥芯受到外部控制操縱時,其與伺服閥套錯開位置,接通油路,壓力油走左路通道,推動伺服缸體右行,此時伺服缸體右側的油經右路返回并由輸出端卸荷排出,同時伺服缸帶動伺服反饋桿圍繞調整螺釘旋轉,而伺服反饋桿撥動伺服閥套圍繞控制閥芯旋轉,促使接通的油路趨向于關閉,伺服缸停留在當前位置,整個液壓系統處于動態平衡中;同樣,壓力油走右路通道,推動伺服缸體左行,此時伺服缸體左側的油經左路返回并由輸出端卸荷排出;通過操縱控制閥芯以實現伺服缸沿不同方向運行,從而實現雙向泵油。
8.根據權利要求7所述的流體傳動伺服反饋機構控制方法,其特征在于,液壓系統處于動態平衡的運動方式為:
當控制閥芯無外部操縱時,控制閥芯上設置的左側V型槽與右側V型槽頂部之間距離大于伺服閥套上設置的輸入端通道直徑尺寸,故油路被隔斷,處于常閉狀態,輸入端壓力油經系統溢流閥卸荷;當伺服閥套上的輸出端通道直徑尺寸大于輸入端通道直徑尺寸,且左側V型槽與右側V型槽的頂部之間的距離小于伺服閥套上設置的輸出端通道直徑尺寸,即左通道通過右側V型槽、右通道通過左側V型槽均與輸出端處于常開狀態;當控制閥芯從復位狀態開始順時針旋轉,且旋轉角度小于3°時,左側V型槽與輸入端從關閉狀態至逐步打開,而此時的左側V型槽與輸出端的開度將逐漸減小,右側V型槽與輸入端依舊呈關閉狀態,右側V型槽與輸出端的開度將逐漸增大,在左側V型槽與輸入端開度小于左側V型槽與輸出端的開度時,輸入端流經到右通道的油直接經輸出端卸荷,此時不足以在右通道建立壓力,伺服缸體在預緊彈簧力的作用下處于零位狀態;當控制閥芯逐步旋轉,促使左側V型槽與輸入端的開度大于左側V型槽與輸出端的開度時,此時在右通道建立壓力,且在右通道所建立的液壓力作用在伺服缸體上的作用力大于預緊彈簧力時,伺服缸體將被推動運行,而此建壓時控制閥芯的臨界旋轉角度為3°,此時左側V型槽即與輸入端接通也與輸出端接通,輸入端輸入的壓力油部分用于彌補伺服缸體系統泄漏,部分經輸出端卸荷;當控制閥芯旋轉過β°時,此時瞬間左側V型槽僅與右通道接通,右通道迅速建壓,伺服缸體被推動,與此同時伺服缸體帶動伺服反饋桿撥動伺服閥套做順時針旋轉,逐步促使左側V型槽與輸入端的開度減小,同時促使左側V型槽與輸出端的開度逐漸增大,當左側V型槽與輸入端開度所能通過的壓力油剛好彌補系統泄漏及輸出端卸荷時,伺服缸體停止運行,伺服反饋系統此時處于液壓動態平衡狀態。
9.根據權利要求8所述的流體傳動伺服反饋機構控制方法,其特征在于,β°大于3°,且小于35°。
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