[發(fā)明專利]一體成型管靶的生產(chǎn)方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410841972.3 | 申請(qǐng)日: | 2014-12-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104480437A | 公開(公告)日: | 2015-04-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 宋愛謀;鐘小亮 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 山東昊軒電子陶瓷材料有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/34 | 分類號(hào): | C23C14/34;B22F3/16;B22F3/04 |
| 代理公司: | 青島發(fā)思特專利商標(biāo)代理有限公司 37212 | 代理人: | 馬俊榮 |
| 地址: | 255100 山東*** | 國(guó)省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一體 成型 生產(chǎn) 方法 | ||
1.一種一體成型管靶的生產(chǎn)方法,其特征在于將由靶材材料元素組成的靶材材料粉末置于包套中,在真空條件下進(jìn)行熱等靜壓形成管靶,在熱等靜壓結(jié)束后,除去包套中的外管和固定環(huán),得到內(nèi)為襯管外為靶管的坯材,該坯材經(jīng)機(jī)加工即得一體成型管靶;所述的包套包括同軸設(shè)置的內(nèi)管和外管以及用于固定內(nèi)管和外管的兩端的固定環(huán)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一體成型管靶的生產(chǎn)方法,其特征在于所述的內(nèi)管為304L不銹鋼內(nèi)管。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一體成型管靶的生產(chǎn)方法,其特征在于所述的內(nèi)管的外表面有電鍍鉻層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一體成型管靶的生產(chǎn)方法,其特征在于所述的外管為304L不銹鋼外管。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一體成型管靶的生產(chǎn)方法,其特征在于所述的外管的壁厚小于內(nèi)管的壁厚,且外管的內(nèi)徑與內(nèi)管的外徑的差值為靶管的厚度的1-5倍,外管上預(yù)焊有抽氣管。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一體成型管靶的生產(chǎn)方法,其特征在于所述的熱等靜壓的溫度為1000-1400℃,壓力為100-170MPa,時(shí)間為1-8小時(shí)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一體成型管靶的生產(chǎn)方法,其特征在于所述的一體成型管靶的相對(duì)密度為99-100%,純度為99.9-99.999%,平均粒徑為1-100微米。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-7任一所述的一體成型管靶的生產(chǎn)方法,其特征在于步驟如下:
(1)制備靶材材料粉末;
(2)裝料和排氣:將內(nèi)管和外管的一端焊接在一起,使兩個(gè)管子的軸心重合,在兩個(gè)管子之間形成厚度為靶管的厚度的1-5倍的腔體;然后將靶材材料粉末均勻地裝入腔體內(nèi),裝畢后,在兩個(gè)管子的另外一端焊上,兩個(gè)固定環(huán)分別將腔體的兩端封閉住,最后通過預(yù)焊在外管上的抽氣管抽真空,至腔體內(nèi)真空度達(dá)到1.0×10-3-1.0×10-2Pa;
(3)熱等靜壓:將內(nèi)裝有靶材材料粉末的包套置于熱等靜壓設(shè)備中,進(jìn)行熱等靜壓;
(4)機(jī)加工:將包套中的外管和兩個(gè)固定密封環(huán)除去,獲得內(nèi)為襯管外為靶管的坯材,將該坯材機(jī)加工成即得一體成型管靶。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一體成型管靶的生產(chǎn)方法,其特征在于步驟(1)中所述的制備靶材材料粉末過程是將靶材材料元素粉末進(jìn)行混合、壓制、燒結(jié),制得初始坯料,再將初始坯料粉碎即得靶材材料粉末。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一體成型管靶的生產(chǎn)方法,其特征在于步驟(2)中所述的腔體內(nèi)真空度達(dá)到1.0×10-3-1.0×10-2Pa后,還可以充入氬氣,再抽至1.0×10-3-1.0×10-2Pa,然后將整個(gè)包套放入加熱爐中,以80-120℃/h的速率升溫至600-900℃,在升溫過程中,持續(xù)抽氣,保持腔體內(nèi)壓力為1.0×10-3-1.0×10-2Pa,保溫1-4h,保持腔體內(nèi)壓力為1.0×10-3-1.0×10-2Pa,最后將抽氣口密封焊死。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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