[發(fā)明專利]一種電解槽和電解含水氫鹵酸制備鹵素氣體的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410841508.4 | 申請(qǐng)日: | 2014-12-29 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104498989A | 公開(kāi)(公告)日: | 2015-04-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 梁睿淵;傅立德;付振波;余正祥;邊祥成 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 甘肅銀光聚銀化工有限公司;上海力脈環(huán)保設(shè)備有限公司 |
| 主分類號(hào): | C25B9/08 | 分類號(hào): | C25B9/08;C25B11/12;C25B1/24;C25B1/26 |
| 代理公司: | 中國(guó)兵器工業(yè)集團(tuán)公司專利中心11011 | 代理人: | 曾敬 |
| 地址: | 730900甘*** | 國(guó)省代碼: | 甘肅;62 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 電解槽 電解 含水 氫鹵酸 制備 鹵素 氣體 方法 | ||
1.電解槽,由至少一個(gè)單元槽在電氣上成串聯(lián)布置且相互連接而成,所述單元槽還包括:一用以氧化陽(yáng)極液生成氯氣的陽(yáng)極電極;一用以陰極液所含高價(jià)金屬離子被還原為低價(jià)金屬離子的陰極電極;一處于所述陽(yáng)極電極和所述陰極電極之間、用以H2O、H+自由通過(guò)、Fe2+、Fe3+、Cl-、Cl2不能通過(guò)的離子膜;以及被所述離子膜分隔而成的一陽(yáng)極液室和一陰極液室。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述電解槽,其特征是:其中所述離子膜是磺基膜,所述陽(yáng)極電極是3D碳纖維電極,所述3D碳纖維電極有效電活化面積大于其投影面積、具有靜止厚度5~30%的可壓縮性。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述電解槽,其特征是:其中所述陽(yáng)極電極朝向所述離子膜的一面附著電催化劑層,所述電催化劑層噴涂二氧化釕(RuO2),所述陽(yáng)極電極通過(guò)噴涂所述電催化劑層形成3D碳纖維噴涂二氧化釕電極。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述電解槽,其特征是:其中所述單元槽還包括板框,所述板框?yàn)閮?nèi)面凹槽的長(zhǎng)方體,所述板框兩兩對(duì)稱、內(nèi)面閉合,板框內(nèi)面凹槽容納并壓實(shí)其中的所述陽(yáng)極電極、離子膜、陰極電極,形成密閉的、電隔離長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu),所述陰極電極同所述板框圍成陰極液室,所述陽(yáng)極電極同所述板框圍成陽(yáng)極液室。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述電解槽,其特征是:其中所述板框上開(kāi)凹槽,凹槽深度同所述陰極電極、陽(yáng)極電極厚度相匹配,所述陰極電極、陽(yáng)極電極分別嵌入所述板框的凹槽中,所述陰極電極、陽(yáng)極電極的壓縮比達(dá)到5~30%。
6.一種利用權(quán)利要求1~5任意所述電解槽電解含水氫鹵酸制備鹵素氣體的方法,包括如下步驟:
(a)將含水氫鹵酸加入所述陽(yáng)極液室;
(b)將陰極電解液加入所述陰極液室,陰極電解液中添加多價(jià)或雙價(jià)金屬氧化物參與氧化還原,陰極電解液中的高價(jià)金屬離子在所述陰極液室中被還原為低價(jià)金屬離子,包含被還原到低價(jià)態(tài)的金屬離子的含水陰極電解液從所述陰極液室流出;
(c)在電流的作用下,在所述陽(yáng)極液室陽(yáng)極電極處生成鹵素氣體,鹵素氣體和剩余含水氫鹵酸從所述陽(yáng)極液室流出;
(d)收集(c)步驟流出鹵素氣體用于工業(yè)生產(chǎn),用工業(yè)副產(chǎn)物鹵化氫調(diào)整(c)步驟流出含水氫鹵酸至濃度合適后返回(a)步驟。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述方法,其特征是:所述可被還原的金屬離子選自Fe3+、Fe2+或它們的組合。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述方法,其特征是:其中所述鹵素是氯,所述氫鹵酸是鹽酸,所述鹵化氫是氯化氫。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述方法,其特征是:在電流密度1~30KA/m2作用下,21~31%鹽酸作為陽(yáng)極液在陽(yáng)極發(fā)生氧化反應(yīng)生成氯氣,而陰極發(fā)生還原反應(yīng),陰極液中含有的高價(jià)態(tài)金屬離子被還原為低價(jià)態(tài)金屬離子,溶液輸送到氧化裝置中被氧化為高價(jià)金屬離子溶液后再返回電解槽循環(huán)利用。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述方法,其步驟如下:
(a)將交流電變?yōu)?~6V的直流電,確保能給電解槽提供30KA以內(nèi)的直流電流;
(b)通入稀鹽酸加入所述陽(yáng)極液室;
(c)將陰極電解液加入所述陰極液室,陰極電解液中添加多價(jià)或雙價(jià)金屬氧化物參與氧化還原,陰極電解液中的高價(jià)金屬離子在所述陰極液室中被還原為低價(jià)金屬離子,包含被還原到低價(jià)態(tài)的金屬離子的含水陰極電解液從所述陰極液室流出,經(jīng)氧化裝置處理后返回(c)步驟;
(d)在電流的作用下,在所述陽(yáng)極液室產(chǎn)生電化學(xué)反應(yīng)生成Cl2,Cl2和剩余稀鹽酸從所述陽(yáng)極液室流出;
(e)收集(d)步驟Cl2用于工業(yè)生產(chǎn),用工業(yè)副產(chǎn)物氯化氫調(diào)整(d)步驟流出稀鹽酸至濃度合適后返回(b)步驟。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于甘肅銀光聚銀化工有限公司;上海力脈環(huán)保設(shè)備有限公司;,未經(jīng)甘肅銀光聚銀化工有限公司;上海力脈環(huán)保設(shè)備有限公司;許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410841508.4/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:基于衛(wèi)星導(dǎo)航和航位推測(cè)實(shí)現(xiàn)農(nóng)業(yè)機(jī)械定位的系統(tǒng)及方法
- 下一篇:聚酯制造用縮聚催化劑以及使用該縮聚催化劑的聚酯的制造
- 同類專利
- 專利分類
C25B 生產(chǎn)化合物或非金屬的電解工藝或電泳工藝;其所用的設(shè)備
C25B9-00 電解槽或其組合件;電解槽構(gòu)件;電解槽構(gòu)件的組合件,例如電極-膜組合件
C25B9-02 .電極支座
C25B9-04 .供電裝置
C25B9-06 .包括尺寸穩(wěn)定的非移動(dòng)電極的電解槽;其構(gòu)件的組合件
C25B9-12 .包括至少1個(gè)可移動(dòng)電極,例如旋轉(zhuǎn)電極的電解槽或其組合件;其構(gòu)件的組合件
C25B9-16 .包括至少1個(gè)由顆粒制成電極的電解槽或其組合件;其構(gòu)件的組合件





