[發明專利]光場顯示控制方法和裝置、光場顯示設備

有效

• 申請號: 201410837411.6
• 申請日: 2014-12-29
• 公開（公告）號: CN104519347A
• 公開（公告）日: 2015-04-15
• 發明（設計）人: 杜琳;周梁
• 申請（專利權）人: 北京智谷睿拓技術服務有限公司
• 主分類號: H04N13/04
• 分類號: H04N13/04;H04N5/74;H04N9/31
• 代理公司: 無
• 代理人: 無

1.一種光場顯示控制方法，其特征在于，包括：

根據源圖像的感興趣程度分布信息對所述源圖像進行采樣處理；

確定與采樣后的所述源圖像對應的光場圖像；

至少根據所述感興趣程度分布信息調整光場顯示設備的顯示器的顯示像素密度分布；

經調整后的所述光場顯示設備顯示所述光場圖像。

2.根據權利要求1所述的光場顯示控制方法，其特征在于，還包括：獲取所述源圖像的所述感興趣程度分布信息。

3.根據權利要求2所述的光場顯示控制方法，其特征在于，獲取所述感興趣程度分布信息，包括：

獲取所述源圖像的感興趣程度指示信息；

根據所述感興趣程度指示信息確定所述感興趣程度分布信息。

4.根據權利要求2所述的光場顯示控制方法，其特征在于，獲取所述感興趣程度分布信息，包括：

對所述源圖像進行圖像分析；

根據所述圖像分析的結果確定所述感興趣程度分布信息。

5.根據權利要求1-4任一所述的光場顯示控制方法，其特征在于，根據所述感興趣程度分布信息對所述源圖像進行采樣處理，包括：

根據所述感興趣程度分布信息確定目標采樣密度分布信息，所述目標采樣密度分布信息中至少二個分別對應不同感興趣程度的目標采樣密度存在差異；

根據所述目標采樣密度分布信息對所述源圖像進行采樣處理。

6.一種光場顯示控制裝置，其特征在于，包括：

一源圖像采樣處理模塊，用于根據源圖像的感興趣程度分布信息對所述源圖像進行采樣處理；

一光場圖像確定模塊，用于確定與采樣后的所述源圖像對應的光場圖像；

一顯示像素密度分布調整模塊，用于至少根據所述感興趣程度分布信息調整光場顯示設備的顯示器的顯示像素密度分布；

一顯示控制模塊，用于經調整后的所述光場顯示設備顯示所述光場圖像。

7.根據權利要求6所述的光場顯示控制裝置，其特征在于，還包括：

一感興趣程度分布信息獲取模塊，用于獲取所述源圖像的所述感興趣程度分布信息。

8.一種光場顯示設備，其特征在于，包括：

一顯示器；

一子透鏡陣列；

一如權利要求6或7所述的光場顯示控制裝置，所述光場顯示控制裝置與所述顯示器通信連接。

9.根據權利要求8所述的光場顯示設備，其特征在于，

所述顯示器包括多個顯示區域，一所述顯示區域包括多個顯示像素；

所述子透鏡陣列靠近所述顯示器設置，包括多個子透鏡，一所述子透鏡與至少一所述顯示區域對應。

10.根據權利要求8或9所述的光場顯示設備，其特征在于，所述顯示器包括：

陣列分布的多個顯示像素；

一可控變形材料部，分別與多個所述顯示像素連接；所述可控變形材料部在外場作用下可發生形變、并通過所述形變相應調整多個所述顯示像素的密度分布；所述外場由所述光場顯示控制裝置控制。