[發明專利]用于處理腔室的工藝內襯和物理氣相沉積設備有效
| 申請號： | 201410835741.1 | 申請日： | 2014-12-26 |
| 公開（公告）號： | CN105779932B | 公開（公告）日： | 2018-08-24 |
| 發明（設計）人： | 徐桂玲 | 申請（專利權）人： | 北京北方華創微電子裝備有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/00 | 分類號： | C23C14/00 |
| 代理公司： | 北京睿邦知識產權代理事務所(普通合伙) 11481 | 代理人： | 徐丁峰;付偉佳 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 處理 工藝 內襯 物理 沉積 設備 | ||
1.一種用于處理腔室的工藝內襯，所述工藝內襯具有環形結構，用于遮擋物理氣相沉積腔室的內壁，所述工藝內襯包括：
主體，所述主體由第一材料制成；以及
外圍層，所述外圍層包覆所述主體，且由不同于所述第一材料的第二材料制成，所述外圍層用于在清洗時保護所述主體；
其中，所述第二材料的導熱率大于或等于所述第一材料的導熱率；和/或所述第二材料的熱膨脹系數大于或等于所述第一材料的熱膨脹系數的70％且小于或等于所述第一材料的熱膨脹系數。
2.如權利要求1所述的工藝內襯，其特征在于，所述第一材料為鋁。
3.如權利要求1所述的工藝內襯，其特征在于，所述第二材料為銅、銀或它們的合金。
4.如權利要求1所述的工藝內襯，其特征在于，所述外圍層的面向所述物理氣相沉積腔室內部的表面經由噴砂處理以形成噴砂層。
5.如權利要求1所述的工藝內襯，其特征在于，所述主體包括：
沿豎直方向延伸的外環部；
沿豎直方向延伸的內環部，所述內環部的頂部低于所述外環部的頂部；
連接所述外環部的底部和所述內環部的底部的平板部；以及
從所述外環部的外壁向外凸出的凸出部，所述凸出部上設置有安裝部。
6.如權利要求5所述的工藝內襯，其特征在于，所述外環部的頂部上的外圍層表面以及所述外環部的位于所述凸出部上方的外壁上的外圍層表面經由噴砂處理以形成噴砂層。
7.如權利要求5所述的工藝內襯，其特征在于，所述外環部在所述凸出部下方的外壁上形成臺階，所述臺階環繞所述外環部的外壁的整個圓周，以使所述外環部的位于所述臺階以下的部分具有較小的壁厚。
8.如權利要求5所述的工藝內襯，其特征在于，所述平板部和所述內環部的壁厚小于所述外環部的壁厚。
9.如權利要求5所述的工藝內襯，其特征在于，所述外環部還包括設置在其內壁的上部的錐形部，所述錐形部環繞所述外環部的內壁的整個圓周，且沿著向下的方向具有減縮的徑向尺寸。
10.一種物理氣相沉積設備，所述物理氣相沉積設備具有物理氣相沉積腔室，在所述物理氣相沉積腔室中設置有如權利要求1-9中任一項所述的工藝內襯。
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