[發明專利]一種光阻殘留物清洗液

在審

• 申請號: 201410831546.1
• 申請日: 2014-12-23
• 公開（公告）號: CN105785725A
• 公開（公告）日: 2016-07-20
• 發明（設計）人: 鄭玢;劉兵;孫廣勝;黃達輝
• 申請（專利權）人: 安集微電子（上海）有限公司
• 主分類號: G03F7/42
• 分類號: G03F7/42
• 代理公司: 上海翰鴻律師事務所 31246
• 代理人: 李佳銘

1.一種光阻殘留物清洗液，所述清洗液含有醇胺，溶劑，水，酚類，炔醇 類乙氧基化合物，多元醇，肼及其衍生物，且所述清洗液不含有氟化物和/ 或羥胺。

2.如權利要求1所述的清洗液，其中，所述醇胺為脂肪族的醇胺。

3.如權利要求2所述的清洗液，其中所述醇胺選自單乙醇胺、N-甲基乙醇 胺、二乙醇胺、三乙醇胺、異丙醇胺、N,N-二甲基基乙醇胺、N-(2-氨基乙 基)乙醇胺和二甘醇胺中的一種或幾種。

4.如權利要求1所述的清洗液，其中，所述醇胺濃度為質量百分比 10％-70％。

5.如權利要求4所述的清洗液，其中，所述醇胺濃度為質量百分比10-60％。

6.如權利要求1所述的清洗液，其中，所述溶劑選自亞砜、砜、咪唑烷酮、 吡咯烷酮、咪唑啉酮、醚和酰胺中的一種或多種。

7.如權利要求6所述的清洗液，其中，所述的亞砜為二甲基亞砜；所述的 砜為環丁砜；所述的咪唑烷酮為1，3-二甲基-2-咪唑烷酮；所述的吡咯烷 酮為N-甲基吡咯烷酮；所述的咪唑啉酮為1，3-二甲基-2-咪唑啉酮；所述 的醚為二丙二醇甲醚；所述的酰胺為N,N-二甲基乙酰胺。

8.如權利要求1所述的清洗液，其中，所述溶劑濃度為質量百分比 10％-60％。

9.如權利要求8所述的清洗液，其中，所述溶劑濃度為質量百分比 10％-50％。

10.如權利要求1所述的清洗液，其中，所述酚類為多元酚。

11.如權利要求10所述的清洗液，其中，所述酚類為鄰苯二酚、對苯二酚、 間苯二酚、聯苯三酚、5-甲氧基鄰苯三酚、5-叔丁基鄰苯三酚、5-羥甲基 鄰苯三酚中的一種或幾種。

12.如權利要求1所述的清洗液，其中，所述酚類濃度為質量百分比 0.1-10％。

13.如權利要求12所述的清洗液，其中，所述酚類濃度為質量百分比 0.5-5％。

14.如權利要求1所述的清洗液，其中，所述肼及其衍生物為水合肼、苯甲 酰肼、2-羥乙基肼、碳酰肼、水楊酰肼、草酰二肼、丁二酸二酰肼、丙二 酰肼中的一種或幾種。

15.如權利要求1所述的清洗液，其中，所述肼及其衍生物濃度為質量百分 比0.05-10％。

16.如權利要求15所述的清洗液，其中，所述肼及其衍生物濃度為質量百 分比0.1-5％。

17.如權利要求1所述的清洗液，其中，所述多元醇為烷基多元醇。

18.如權利要求17所述的清洗液，其中，所述多元醇為丙三醇、季戊四醇、 木糖醇、山梨醇、二縮二乙二醇、一縮二丙二醇、2-羥基甲烷-2-甲基-1，3 丙二醇中的一種或幾種。

19.如權利要求1所述的清洗液，其中，所述多元醇濃度為質量百分比 0.05-10％。

20.如權利要求19所述的清洗液，其中，所述多元醇濃度為質量百分比0.1 -5％。

21.如權利要求1所述的清洗液，其中，所述炔醇類乙氧基化合物為丙炔醇 乙氧基化合物、丁炔二醇乙氧基化合物、2,4,7,9-四甲基-5-癸炔-4,7-二醇 乙氧基化物中的一種或幾種。

22.如權利要求1所述的清洗液，其中，所述炔醇類乙氧基化合物濃度為質 量百分比0.05-5％。

23.如權利要求22所述的清洗液，其中，所述炔醇類乙氧基化合物濃度為 質量百分比0.1-3％。

24.如權利要求1所述的清洗液，其中，所述水濃度為質量百分比小于40％。

25.如權利要求1所述的清洗液，其中，所述水濃度為質量百分比5-35％。

26.一種如權利要求1-26任一項所述的清洗液在去除光阻殘留物的應用。