[發明專利]基于石墨烯ZnO陰極的平面鈣鈦礦太陽能電池及制備方法在審
| 申請號: | 201410828282.4 | 申請日: | 2014-12-26 |
| 公開(公告)號: | CN104617220A | 公開(公告)日: | 2015-05-13 |
| 發明(設計)人: | 張春福;唐詩;張進成;陳大正;郝躍;習鶴;羅莉 | 申請(專利權)人: | 西安電子科技大學 |
| 主分類號: | H01L51/42 | 分類號: | H01L51/42;H01L51/44;H01L51/46;H01L51/48 |
| 代理公司: | 陜西電子工業專利中心 61205 | 代理人: | 王品華;朱衛星 |
| 地址: | 710071*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 石墨 zno 陰極 平面 鈣鈦礦 太陽能電池 制備 方法 | ||
1.一種基于石墨烯ZnO陰極的平面鈣鈦礦太陽能電池,自下而上包括:襯底(1)、陰極(2)、電子傳輸層(3)、光活性層(4)、空穴傳輸層(5)、陽極(6),其特征在于:
所述陰極(2),采用石墨烯,用于收集電子;
所述電子傳輸層(3),采用ZnO,用于修飾界面,阻擋空穴,傳輸電子。
2.根據權利要求1所述的太陽能電池,其特征在于:陰極(2)的厚度為20~40nm。
3.根據權利要求1所述的太陽能電池,其特征在于:電子傳輸層(3)的厚度為70~100nm。
4.根據權利要求1所述的太陽能電池,其特征在于:光活性層(4)的厚度為150~300nm。
5.根據權利要求1所述的太陽能電池,其特征在于:空穴傳輸層(5)的厚度為10~30nm。
6.基于石墨烯ZnO陰極的平面鈣鈦礦太陽能電池的制作方法,包括如下步驟:
(1)清洗襯底基片:將石墨烯陰極玻璃基片依次置于去離子水、丙酮、無水乙醇和去離子水中超聲清洗5-15min,清洗完成后用氮氣槍吹干;
(2)制備ZnO前驅體溶液:
將150mg顆粒尺寸小于5um的ZnO粉末溶于15ml濃度為25%的氨水中,經5min超聲振動后放入溫度為5℃冰箱冷藏24h,得到濃度為0.125M/L的ZnO前驅體溶液;
(3)在帶有石墨烯陰極的玻璃基片上旋涂ZnO前驅體溶液,旋涂轉速為2000-4000r/min,時間為40s,并在溫度為100~200℃的烘箱中退火5-15min,形成ZnO電子傳輸層;
(4)在ZnO電子傳輸層上旋涂PbI2溶液,并在70℃下退火15min,以蒸發有機溶劑,旋涂時的轉速為2000-4500r/min,旋涂的時間為30-60s;
(5)將PbI2層轉化為CH3NH3PbI3光活性層:將經過步驟4)所得的基片浸泡在CH3NH3I溶液中,在60℃溫度下保持5~20min,以保證PbI2與CH3NH3I這兩種材料充分反應;
(6)對光活性層前退火:在空氣氣氛下,將經過步驟5)所得基片在90℃下退火45min;
(7)在CH3NH3PbI3光活性層上旋涂Spiro-MeOTAD空穴傳輸層,旋涂轉速為2000~4500r/min,旋涂的時間為30~60s;
(8)在空穴傳輸層上淀積Au金屬陽極,完成平面結構鈣鈦礦太陽能電池的制作。
7.如權利要求6所述的基于石墨烯ZnO陰極的平面結構鈣鈦礦太陽能電池制備方法,其特征在于,所述步驟(4)中的PbI2溶液,是將460mg的PbI2先溶解在1ml的二甲基甲酰胺DMF中得到濃度為460mg/mL的溶液;再將所得的PbI2溶液在90℃下攪拌6h。
8.如權利要求6所述的基于石墨烯ZnO陰極的平面結構鈣鈦礦太陽能電池制備方法,其特征在于,所述步驟(5)中的CH3NH3I溶液,是將800mg的CH3NH3I溶解在40ml的異丙醇IPA得到濃度為20mg/mL的CH3NH3I溶液。
9.如權利要求6所述的基于石墨烯ZnO陰極的平面結構鈣鈦礦太陽能電池制備方法,其特征在于,所述步驟(7)中的Spiro-MeOTAD溶液,是將90mg的Spiro-MeOTAD溶解在1ml的氯苯CB中得到濃度為90mg/mL的溶液。
10.如權利要求6所述的基于石墨烯ZnO陰極的平面結構鈣鈦礦太陽能電池制備方法,其特征在于步驟(8)所述的在空穴傳輸層上淀積Au金屬陽極,其工藝條件為:將步驟(7)所得基片放入真空度小于5×10-4Pa,電流為80A的金屬蒸鍍室中,熱蒸發厚度為100nm的Au。
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