[發明專利]觸摸面板的制作方法、觸摸面板、觸摸屏和顯示裝置

有效

• 申請號: 201410827968.1
• 申請日: 2014-12-25
• 公開（公告）號: CN104461157B
• 公開（公告）日: 2018-01-30
• 發明（設計）人: 何敏;胡明;涂志中
• 申請（專利權）人: 合肥鑫晟光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司11243
• 代理人: 許靜,黃燦

1.一種觸摸面板的制作方法，其特征在于，包括：

在透明基板上形成具有微圖案的透光膜層；

在所述透光膜層上制作觸摸面板電極，所述透光膜層用于對所述觸摸面板電極進行消影；

所述在透明基板上形成具有微圖案的透光膜層包括：在所述透明基板上形成透明膜層，對該透光膜層進行刻蝕以形成所述微圖案。

2.如權利要求1所述的觸摸面板的制作方法，其特征在于，所述微圖案為規則排列的幾何形狀的微圖案。

3.如權利要求1所述的觸摸面板的制作方法，其特征在于，所述透光膜層為光學增透膜層。

4.如權利要求1所述的觸摸面板的制作方法，其特征在于，在所述透光膜層上制作觸摸面板電極步驟前還包括：在具有微圖案的所述透光膜層上形成油墨邊框；

在所述透光膜層上制作觸摸面板電極步驟后還包括：在制作有所述觸摸面板電極的所述透明基板上形成平坦層。

5.如權利要求1至4中任一權利要求所述的觸摸面板的制作方法，其特征在于，所述觸摸面板電極為ITO電極，所述在所述透光膜層上制作觸摸面板電極具體包括：在預定溫度范圍內制作觸摸面板電極；所述預定溫度范圍為大于等于200攝氏度而小于等于250攝氏度。

6.一種觸摸面板，包括透明基板，其特征在于，還包括：

形成于所述透明基板上的具有微圖案的透光膜層；

以及，觸摸面板電極，制作于所述透光膜層上；

所述透光膜層用于對ITO電極進行消影；所述微圖案為對該透光膜層進行刻蝕而形成。

7.如權利要求6所述的觸摸面板，其特征在于，所述微圖案為規則排列的幾何形狀的微圖案。

8.如權利要求6所述的觸摸面板，其特征在于，所述透光膜層為光學增透膜層。

9.如權利要求6所述的觸摸面板，其特征在于，還包括：

油墨邊框，形成于具有微圖案的所述透光膜層上；

以及，平坦層，形成于制作有所述觸摸面板電極的所述透明基板上。

10.如權利要求6至9中任一權利要求所述的觸摸面板，其特征在于，所述觸摸面板電極為ITO電極，所述ITO電極在預定溫度范圍內制作于所述透光膜層上；所述預定溫度范圍為大于等于200攝氏度而小于等于250攝氏度。

11.如權利要求6至9中任一權利要求所述的觸摸面板，其特征在于，所述觸摸面板為OGS電容式觸摸面板。

12.一種觸摸屏，其特征在于，包括如權利要求6至11中任一權利要求所述的觸摸面板。

13.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權利要求12所述的觸摸屏。